×
17.06.2020
220.018.2732

Узел фиксации нагреваемой подложки в вакуумной камере (варианты)

Вид РИД

Изобретение

Юридическая информация Свернуть Развернуть
Краткое описание РИД Свернуть Развернуть
Аннотация: Изобретение относится к технологическому оборудованию для вакуумной молекулярно-лучевой эпитаксии полупроводниковых структур и может быть использовано в качестве узла фиксации подложки, нагреваемой с помощью пластинчатого или утолщенного ленточного резистивного нагревателя в вакуумных установках, предпочтительно с фиксацией подложки с нижним расположением ее рабочей поверхности и формированием потоков паров полупроводникового материала, например германия, в направлении снизу вверх от сублимационных источников указанных паров или потоков паров полупроводникового материала, например германия или/и кремния, в направлении снизу вверх от тигельных молекулярных источников на основе электронно-лучевых испарителей. Технический результат от использования предлагаемого изобретения - повышение технологичности изготовления узла фиксации подложки, нагреваемой с помощью резистивного нагревателя для вакуумной молекулярно-лучевой эпитаксии в широком диапазоне форм (прямоугольной, круглой и др.) и размеров используемой подложки за счет оснащения выполненного в виде несущей электропроводящей пластины или утолщенной ленты резистивного нагревателя конструктивно простыми фиксирующими керамическими пластинами и их жесткими или плоско-пружинными зажимами, обеспечивающими совмещение функций держателя и нагревателя подложки. Для достижения указанного технического результата в узле фиксации нагреваемой подложки по первому варианту, содержащем установленные в вакуумной камере держатель подложки, выполненный с возможностью фиксации подложки, сориентированной поверхностью роста к молекулярному источнику, и резистивный нагреватель, расположенный со стороны нерабочей поверхности подложки, для выполнения резистивным нагревателем функции держателя подложки указанный резистивный нагреватель выполнен в виде несущей электропроводящей пластины или утолщенной ленты, снабженной по первому варианту жаростойкими жесткими зажимами и по второму варианту жаростойкими плоско-пружинными зажимами, обеспечивающими в обоих вариантах неподвижную фиксацию керамических пластин вдоль указанной пластины или утолщенной ленты с возможностью эксплуатационной фиксации подложки с ее расположением вдоль указанной пластины или утолщенной ленты с помощью этих фиксирующих керамических пластин, расположенных с двух противоположных сторон подложки, за счет прижима нависающих фиксирующих скосов торцов керамических пластин к выступающим краям противоположных торцов подложки. 2 н. и 12 з.п. ф-лы, 6 ил.
Реферат Свернуть Развернуть

Изобретение относится к технологическому оборудованию для вакуумной молекулярно-лучевой эпитаксии полупроводниковых структур и может быть использовано в качестве узла фиксации подложки, нагреваемой с помощью пластинчатого или утолщенного ленточного резистивного нагревателя в вакуумных установках, предпочтительно, с фиксацией подложки с нижним расположением ее рабочей поверхности и формированием потоков паров полупроводникового материала, например, германия в направлении снизу вверх от сублимационных источников указанных паров или потоков паров полупроводникового материала, например германия или/и кремния, в направлении снизу вверх от тигельных молекулярных источников на основе электронно-лучевых испарителей.

Вакуумная молекулярно-лучевая эпитаксия объединяет наиболее распространенные сублимационную молекулярно-лучевую эпитаксию и молекулярно-лучевую эпитаксию, основанную на лучевом испарении полупроводникового материала, приводящем к образованию потока паров этого материала для его вакуумного осаждения на подложку (см. раздел «Уровень техники» описания изобретения к патенту РФ №2511279, H01L 21/203, С23С 14/26, 2014).

Типичная установка для вакуумной молекулярно-лучевой эпитаксии с формированием потоков паров полупроводникового материала от тигельных молекулярных источников в направлении снизу вверх содержит вакуумную камеру с установленными в ней нижним испарительным узлом, верхним держателем подложки с нагревателем, образующими верхний узел фиксации нагреваемой подложки, и заслонками между ними для задания режима получения заданной архитектуры полупроводниковой структуры (см., например, полезную модель «Установка для выращивания кремний-германиевых гетероструктур» по патенту РФ №92988, H01L 21/363, В82В 3/00, 2010).

В связи с распространенной фиксацией подложки в таких установках в верхнем положении с нижним расположением ее рабочей поверхности (поверхности роста) навстречу потоку паров полупроводникового материала, формируемого в направлении снизу вверх, например, от поверхности расплава германия, надежная фиксация равномерно прогреваемой подложки является актуальной задачей.

Для решения указанной задачи известны конструктивные решения держателя нагреваемой подложки, см., например, выбранный в качестве прототипа узел фиксации нагреваемой подложки, содержащий установленные в вакуумной камере держатель подложки, выполненный с возможностью фиксации подложки, сориентированной поверхностью роста к молекулярному источнику, и резистивный нагреватель, расположенный со стороны нерабочей поверхности подложки, по патенту US №4599069, С23С 14/50, С30В 23/06, С30В 23/08, H01L 21/203, 1986.

В указанном прототипе обеспечивается надежная фиксация равномерно прогреваемой подложки за счет верхнего кольцевого поджима подложки, имеющей круглую форму и размещаемой ее поверхностью роста навстречу направленному (в частном случае) снизу вверх потоку паров полупроводникового материала от тигельного молекулярного источника на внутреннем фланце замкнутого вдоль боковой стенки цилиндрического корпуса держателя и выполнения резистивного нагревателя в виде в виде графитовой пластины, размещенной на верхней нерабочей поверхности подложки.

Однако узел фиксации нагреваемой подложки - прототип низко технологичен в изготовлении в связи с усложненной конструкцией держателя. Указанный недостаток усиливается при использовании подложек различной формы (прямоугольной, круглой и др.).

Технический результат от использования предлагаемого изобретения - повышение технологичности изготовления узла фиксации подложки, нагреваемой с помощью резистивного нагревателя для вакуумной молекулярно-лучевой эпитаксии в широком диапазоне форм (прямоугольной, круглой и др.) и размеров используемой подложки за счет оснащения выполненного в виде несущей электропроводящей пластины или утолщенной ленты резистивного нагревателя конструктивно простыми фиксирующими керамическими пластинами и их жесткими или плоско-пружинными зажимами, обеспечивающими совмещение функций держателя и нагревателя подложки.

Для достижения указанного технического результата в узле фиксации нагреваемой подложки по первому варианту, содержащем установленные в вакуумной камере держатель подложки, выполненный с возможностью фиксации подложки, сориентированной поверхностью роста к молекулярному источнику, и резистивный нагреватель, расположенный со стороны нерабочей поверхности подложки, для выполнения резистивным нагревателем функции держателя подложки указанный резистивный нагреватель выполнен в виде несущей электропроводящей пластины или утолщенной ленты, снабженной жаростойкими жесткими зажимами, обеспечивающими неподвижную фиксацию керамических пластин вдоль указанной пластины или утолщенной ленты с возможностью эксплуатационной фиксации подложки с ее расположением вдоль указанной пластины или утолщенной ленты с помощью этих фиксирующих керамических пластин, расположенных с двух противоположных сторон подложки, за счет прижима нависающих фиксирующих скосов торцев керамических пластин к выступающим краям противоположных торцев подложки.

В случае фиксации нагреваемой подложки, имеющей прямоугольную форму, электропроводящая пластина или утолщенная лента резистивного нагревателя может быть снабжена двумя парами жаростойких жестких зажимов, обеспечивающих каждой парой указанных зажимов неподвижную фиксацию одной из двух керамических пластин, расположенных с двух противоположных сторон подложки вдоль указанной пластины или утолщенной ленты, с возможностью эксплуатационной фиксации подложки с ее расположением вдоль указанной пластины и ли утолщенной ленты с помощью этих фиксирующих керамических пластин за счет прижима нависающих фиксирующих скосов двух торцев указанных керамических пластин к выступающим краям двух противоположных торцев подложки, скосом одного торца каждой пластины к краю соответствующего противоположного торца подложки.

В случае фиксации нагреваемой подложки, имеющей круглую форму, электропроводящая пластина или утолщенная лента резистивного нагревателя может быть снабжена двумя парами жаростойких жестких зажимов, обеспечивающих каждым указанным зажимом неподвижную фиксацию одной из четырех керамических пластин, расположенных попарно с двух противоположных сторон подложки вдоль указанной пластины или утолщенной ленты, с возможностью эксплуатационной фиксации подложки с ее расположением вдоль указанной пластины или утолщенной ленты с помощью этих фиксирующих керамических пластин за счет прижима нависающих скосов четырех торцев указанных фиксирующих керамических пластин к выступающим краям двух противоположных пар участков торца подложки, скосом одного торца каждой пластины к краю соответствующего противоположного торца подложки.

Для усиления эффекта равномерности прогрева подложки электропроводящая пластина или утолщенная лента резистивного нагревателя может иметь на участке эксплуатационной фиксации подложки ширину, обеспечивающую полное покрытие указанной пластиной или утолщенной лентой нерабочей поверхности подложки.

В частном случае исполнения предлагаемого узла электропроводящая пластина или утолщенная лента может быть изготовлена из тантала, а жаростойкие жесткие зажимы могут быть изготовлены заодно с указанной пластиной или утолщенной лентой из ее же материала в виде отходящих сбоку от указанной пластины или утолщенной ленты сгибаемых плоских выступов.

Кроме того, между электропроводящей пластиной или утолщенной лентой и фиксирующими керамическими пластинами может быть размещена промежуточная керамическая пластина с возможностью контакта с подложкой и обеспечения при нагреве подложки ее стабильной эксплуатационной фиксации.

Для повышения удобства сборки предлагаемого узла электропроводящая пластина или утолщенная лента может иметь между ее концевыми электроподводными участками технологический выгиб с утопленным плоским участком для обеспечения на нем с помощью жаростойких жестких зажимов и фиксирующих керамических пластин эксплуатационной фиксации подложки.

Для достижения указанного технического результата в узле фиксации нагреваемой подложки по второму варианту, содержащем установленные в вакуумной камере держатель подложки, выполненный с возможностью фиксации подложки, сориентированной поверхностью роста к молекулярному источнику, и резистивный нагреватель, расположенный со стороны нерабочей поверхности подложки, для выполнения функции держателя подложки для выполнения резистивным нагревателем функции держателя подложки указанный резистивный нагреватель выполнен в виде несущей электропроводящей пластины или утолщенной ленты, снабженной жаростойкими плоско-пружинными зажимами, обеспечивающими неподвижную фиксацию керамических пластин вдоль указанной пластины или утолщенной ленты с возможностью эксплуатационной фиксации подложки с ее расположением вдоль указанной пластины или утолщенной ленты с помощью этих фиксирующих керамических пластин, расположенных с двух противоположных сторон подложки, за счет прижима нависающих фиксирующих скосов торцев керамических пластин к выступающим краям противоположных торцев подложки.

В случае фиксации нагреваемой подложки, имеющей прямоугольную форму, электропроводящая пластина или утолщенная лента резистивного нагревателя может быть снабжена двумя жаростойкими плоско-пружинными зажимами, обеспечивающими каждым указанным зажимом неподвижную фиксацию одной из двух керамических пластин, расположенных с двух противоположных сторон подложки вдоль указанной пластины или утолщенной ленты, с возможностью эксплуатационной фиксации подложки с ее расположением вдоль указанной пластины или утолщенной ленты с помощью этих фиксирующих керамических пластин за счет прижима нависающих фиксирующих скосов двух торцев указанных керамических пластин к выступающим краям двух противоположных торцев подложки, скосом одного торца каждой пластины к краю соответствующего противоположного торца подложки.

В случае фиксации нагреваемой подложки, имеющей круглую форму, электропроводящая пластина или утолщенная лента резистивного нагревателя может быть снабжена двумя парами жаростойких плоско-пружинных зажимов, обеспечивающих каждым указанным зажимом неподвижную фиксацию одной из четырех керамических пластин, расположенных попарно с двух противоположных сторон подложки вдоль указанной пластины или утолщенной ленты, с возможностью эксплуатационной фиксации подложки с ее расположением вдоль указанной пластины или утолщенной ленты с помощью этих фиксирующих керамических пластин за счет прижима нависающих скосов четырех торцев указанных фиксирующих керамических пластин к выступающим краям двух противоположных пар участков торца подложки, скосом одного торца каждой пластины к краю соответствующего противоположного торца подложки.

Для усиления эффекта равномерности прогрева подложки электропроводящая пластина или утолщенная лента резистивного нагревателя может иметь на участке эксплуатационной фиксации подложки ширину, обеспечивающую полное покрытие указанной пластиной или утолщенной лентой нерабочей поверхности подложки.

В частном случае исполнения предлагаемого узла электропроводящая пластина или утолщенная лента может быть изготовлена из тантала, а жаростойкие плоско-пружинные зажимы могут быть выполнены в виде изогнутых упругих узких полос, изготовленных из молибдена, закрепленных с помощью резьбового соединения опорными концами на поверхности электропроводящей пластины или утолщенной ленты со стороны размещения фиксирующих керамических пластин и упирающихся фиксирующими концами в прижимные выемки, выполненные на поверхности фиксирующих керамических пластин.

Кроме того, между электропроводящей пластиной или утолщенной лентой и фиксирующими керамическими пластинами может быть размещена промежуточная керамическая пластина с возможностью контакта с подложкой и обеспечения при нагреве подложки ее стабильной эксплуатационной фиксации.

Для повышения удобства сборки предлагаемого узла электропроводящая пластина или утолщенная лента может иметь между ее концевыми электроподводными участками технологический выгиб с утопленным промежуточным плоским участком для обеспечения на нем с помощью жаростойких плоско-пружинных зажимов и фиксирующих керамических пластин эксплуатационной фиксации подложки.

На фиг. 1 схематически изображен вид сбоку предлагаемого собранного узла фиксации нагреваемой прямоугольной подложки в частном исполнении жестких зажимов для неподвижной фиксации фиксирующих керамических пластин заодно с электропроводящей пластиной из ее же материала в виде отходящих сбоку от указанной пластины согнутых плоских выступов и выгибного технологического участка указанной пластины для сборки предлагаемого узла с промежуточной керамической пластиной, расположенной между электропроводящей пластиной и подложкой; на фиг. 2 - вид А на фиг. 1; на фиг. 3 - форма электропроводящей пластины на фиг. 2 в исходном положении (до сгиба ее плоских выступов); на фиг. 4 - расположение фиксирующих керамических пластин в случае фиксации нагреваемой круглой подложки; на фиг. 5 - вид сбоку предлагаемого собранного узла фиксации нагреваемой прямоугольной подложки в частном исполнении плоско-пружинных зажимов для неподвижной фиксации фиксирующих керамических пластин в виде изогнутых упругих узких полос, закрепленных с помощью резьбового соединения опорными концами на поверхности электропроводящей пластины со стороны размещения фиксирующих керамических пластин и упирающихся фиксирующими концами в прижимные выемки, выполненные на поверхности фиксирующих керамических пластин и выгибного технологического участка указанной пластины для сборки предлагаемого узла с промежуточной керамической пластиной, расположенной между электропроводящей пластиной и подложкой; на фиг. 6 - вид А на фиг. 5.

Предлагаемый узел фиксации нагреваемой подложки (по первому варианту), показанный на фиг. 1 и 2 в собранном виде в примерах его исполнения с используемой прямоугольной подложкой 1 толщиной 2.0 мм (подложка 1 на всех фигурах показана пунктирной линией) содержит резистивный нагреватель, который выполнен в виде несущей электропроводящей пластины 2 толщиной 0.5 мм (указанная толщина может составлять величину от 0.1 до 2.0 мм), изготовленной из тантала и снабженной двумя парами жаростойких жестких зажимов, выполненных заодно с электропроводящей пластиной 2 из ее же материала в виде отходящих сбоку от указанной пластины сгибаемых плоских выступов 3 (см. выступы 3 в исходном положении до их сгиба на фиг. 3), показанных на фиг. 1 и 2 в согнутом виде, обеспечивающими каждой парой неподвижную фиксацию одной из двух фиксирующих керамических пластин 4 толщиной 2.5 мм, изготовленных из поликора и расположенных с двух противоположных сторон подложки 1 вдоль электропроводящей пластины 2, с возможностью эксплуатационной фиксации подложки 1 с ее расположением вдоль электропроводящей пластины 2 с помощью фиксирующих керамических пластин 4 за счет прижима нависающих фиксирующих скосов 5 двух торцев фиксирующих керамических пластин 4 к выступающим краям двух противоположных торцев подложки 1, скосом 5 одного торца каждой пластины 4 к краю соответствующего противоположного торца подложки 1.

Причем, между несущей электропроводящей пластиной 2 и двумя фиксирующими керамическими пластинами 4 размещена промежуточная керамическая пластина 6 толщиной 0.5 мм, изготовленная из поликора, контактирующая с подложкой 1 и обеспечивающая, не смотря на возможное отклонение формы электропроводящей пластины 2 от плоской при нагреве подложки 1 ее стабильную эксплуатационную фиксацию.

В случае фиксации нагреваемой подложки 1, имеющей круглую форму (см. фиг. 4), электропроводящая пластина 2 резистивного нагревателя также снабжена двумя парами сгибаемых плоских выступов 3 (на фиг. 4 не показаны), обеспечивающих каждым согнутым указанным выступом неподвижную фиксацию одной из четырех фиксирующих керамических пластин 4, расположенных попарно с двух противоположных сторон подложки 1 вдоль пластины 2, с возможностью эксплуатационной фиксации подложки 1 с ее расположением вдоль электропроводящей пластины 2 с помощью фиксирующих керамических пластин 4 за счет прижима нависающих скосов 5 четырех торцев фиксирующих керамических пластин 4 к краям двух противоположных пар участков торца подложки 1, скосом 5 одного торца каждой пластины 4 к краю соответствующего противоположного торца подложки 1.

Предлагаемый узел фиксации нагреваемой подложки 1 (по второму варианту), показанный на фиг. 5 и 6 в собранном виде в примере его исполнения с используемой прямоугольной подложкой 1 содержит резистивный нагреватель, который выполнен в виде такой же как по первому варианту несущей электропроводящей пластины 2, но снабженной двумя жаростойкими плоско-пружинными зажимами, выполненными в виде изогнутых упругих сужающихся полос 7 шириной от 5.0 до 2.0 мм и толщиной 0.1 мм, изготовленных из молибдена, закрепленных с помощью резьбового соединения опорными концами на поверхности электропроводящей пластины 2 со стороны размещения фиксирующих керамических пластин 4 и упирающихся фиксирующими концами в прижимные выемки 8, выполненные на поверхности фиксирующих керамических пластин 4 в виде набора прижимных выемок на каждой пластине 3 в зависимости от размеров подложки 1 (на фигурах набор указанных выемок не показан), и обеспечивающими каждым указанным зажимом неподвижную фиксацию одной из двух фиксирующих керамических пластин 4 вдоль пластины 2 с возможностью эксплуатационной фиксации подложки 1 с ее расположением вдоль электропроводящей пластины 2 с помощью фиксирующих керамических пластин 4, расположенных с двух противоположных сторон подложки 1, за счет прижима нависающих фиксирующих скосов 5 двух торцев фиксирующих керамических пластин 4 к выступающим краям двух противоположных торцев подложки 1, скосом 5 одного торца каждой пластины 4 к краю соответствующего противоположного торца подложки 1.

В случае фиксации нагреваемой подложки 1, имеющей круглую форму (см. фиг. 4, на которой показано размещение фиксирующих керамических пластин 4, одинаковое для предлагаемого узла фиксации нагреваемой подложки 1 по обоим вариантам), электропроводящая пластина 2 резистивного нагревателя снабжена двумя парами жаростойких плоско-пружинных зажимов (на фиг. 4 не показаны), обеспечивающих каждым указанным зажимом неподвижную фиксацию одной из четырех фиксирующих керамических пластин 4, расположенных попарно с двух противоположных сторон подложки 1 вдоль электропроводящей пластины 2 также, с возможностью эксплуатационной фиксации подложки 1 с ее расположением вдоль электропроводящей пластины 2 с помощью фиксирующих керамических пластин 4 за счет прижима нависающих скосов 5 четырех торцев фиксирующих керамических пластин 4 к выступающим краям двух противоположных пар участков торца подложки 1, скосом 5 одного торца каждой пластины 4 к краю соответствующего противоположного торца подложки 1.

В обоих вариантах предлагаемого узла фиксации нагреваемой подложки 1 электропроводящая пластина 2 резистивного нагревателя для равномерного прогрева подложки имеет на участке эксплуатационной фиксации подложки 1 ширину, обеспечивающую полное покрытие электропроводящей пластиной 2 нерабочей поверхности подложки 1, а предлагаемый узел собирается в удобном для сборки технологическом выгибе электропроводной пластины 2 с утопленным плоским участком 9 для обеспечения на нем с помощью жестких или плоско-пружинных зажимов и фиксирующих керамических пластин 4 и промежуточной керамической пластины 6, изложенную выше эксплуатационную фиксацию нагреваемой подложки 1.

Собранный узел в его верхнем расположении в установке для вакуумной молекулярно-лучевой эпитаксии обеспечивает надежную вакуумную молекулярно-лучевую эпитаксию, например, германия в результате его осаждения на поверхность роста нагреваемой кремниевой подложки, расположенной поверхностью роста вниз навстречу направленному снизу верх потоку паров от германия, расплавленного в нижнем сублимационном узле испарения (на фигурах не показано).

При этом предлагаемый узел может быть использован в установках для вакуумной молекулярно-лучевой эпитаксии с потоком паров полупроводникового материала, направленным сверху вниз или в горизонтальном направлении, с соответствующим изменением расположения узла.

Предлагаемый узел для вакуумной молекулярно-лучевой эпитаксии характеризуется повышенной технологичностью его изготовления при изготовлении несущей электропроводящей пластины или утолщенной ленты резистивного нагревателя из тугоплавкого металла или сплава (тантала, молибдена и вольфрама, а также сплава, например, такого, как Resistohm Р135, предназначенного для изготовления резистивной ленты) или в виде других прочных при эксплуатации плоских резистивных нагревателей на неметаллической (стеклопластиковой) в широком диапазоне форм (прямоугольной, круглой и др.) и размеров (длиной от 10.0 мм до 10.0 см) подложки за счет конструктивной простоты фиксирующих керамических пластин и их жестких или плоско-пружинных зажимов (в качестве указанных зажимов могут быть использованы, также и не показанные на фигурах жаростойкие боковые стяжные или пружинные скобообразные зажимы).


Узел фиксации нагреваемой подложки в вакуумной камере (варианты)
Узел фиксации нагреваемой подложки в вакуумной камере (варианты)
Узел фиксации нагреваемой подложки в вакуумной камере (варианты)
Источник поступления информации: Роспатент

Показаны записи 1-10 из 10.
04.04.2018
№218.016.3513

Многопозиционная сетевая система метеорологической радиолокации

Изобретение относится к системам метеорологической радиолокации и может быть использовано для мониторинга метеорологических условий. Достигаемый технический результат – уменьшение массогабаритных размеров элементов системы, уменьшение энергопотребления, отсутствие необходимости постоянного...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002645905
Дата охранного документа: 01.03.2018
31.01.2019
№219.016.b554

Способ управления сходимостью рентгеновского пучка

Изобретение предназначено для управления сходимостью рентгеновского пучка. Осуществляется управление сходимостью рентгеновского пучка, получаемого в результате облучения исходным рентгеновским пучком дифракционного блока, путем воздействия электрическим полем на пластину пьезоэлемента....
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002678430
Дата охранного документа: 29.01.2019
09.05.2019
№219.017.4940

Способ формирования гексагональной фазы кремния

Использование: для изготовления светоизлучающих приборов на основе гексагональной фазы кремния, обеспечивающей эффективное возбуждение фотолюминесценции. Сущность изобретения заключается в том, что в способе формирования фазы гексагонального кремния путем имплантации в изготовленную из...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002687087
Дата охранного документа: 07.05.2019
27.07.2019
№219.017.ba1b

Составная мишень для магнетронного распыления

Изобретение относится к составной мишени для магнетронного распыления. Мишень содержит плоскую нижнюю базовую часть, изготовленную из первого компонента осаждаемого на подложку материала пленки, и как минимум одну размещенную на указанной нижней базовой части верхнюю накладную часть,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002695716
Дата охранного документа: 25.07.2019
12.09.2019
№219.017.ca82

Способ настройки эпитаксиального выращивания в вакууме легированных слоёв кремния и резистивный испарительный блок для его осуществления

Изобретение относится к технологии изготовления полупроводниковых структур для приборов электронной техники и может быть использовано для регулирования степени легирования при эпитаксиальном выращивании в вакууме легированных слоев кремния. Техническим результатом является повышение...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002699949
Дата охранного документа: 11.09.2019
27.12.2019
№219.017.f38d

Способ формирования гексагональной фазы кремния путём имплантации ионов криптона в плёнку оксида кремния на пластине монокристаллического кремния

Изобретение относится к полупроводниковой технологии и может быть использовано при изготовлении светоизлучающих приборов на основе гексагональной фазы кремния, обеспечивающей эффективное возбуждение фотолюминесценции. Технический результат от использования предлагаемого способа формирования...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002710479
Дата охранного документа: 26.12.2019
22.04.2020
№220.018.1775

Способ управления кривизной рабочей поверхности монокристаллической пластины дифракционного блока, обеспечивающей коллимацию рентгеновского пучка

Изобретение относится к рентгеновской оптике и предназначено для управления соответствующей заданному условию сходимости рентгеновского пучка. Управление осуществляется кривизной рабочей поверхности монокристаллической пластины в составе дифракционного блока, образованного указанной пластиной,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002719395
Дата охранного документа: 17.04.2020
14.05.2023
№223.018.5670

Способ получения термоэлектрического материала n-типа проводимости на основе твердого раствора gesisb при х=0,26-0,36, δ=0,008-0,01

Настоящее изобретение относится к порошковой металлургии, касается способа получения термоэлектрического материала n-типа проводимости на основе тройного твердого раствора GeSiSb (x=0,26-0,36; δ=0,008-0,01), который может использоваться при изготовлении среднетемпературных термоэлектрических...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002739887
Дата охранного документа: 29.12.2020
21.05.2023
№223.018.685f

Новые каталитические системы для синтеза полиметилметакрилата в условиях фотооблучения

Изобретение относится к получению высокомолекулярных соединений путем фотоинициируемой полимеризации в растворе с использованием облучения светом видимой области спектра и касается способа получения полиметилметакрилата, который может быть использован в производстве органического стекла для...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002794531
Дата охранного документа: 20.04.2023
21.05.2023
№223.018.6868

Устройство для генерации нейроподобных колебаний с возбудимым и автоколебательным режимами и принцип его работы

Изобретение относится к области радиотехники и нелинейной динамики. Может использоваться в радиотехнических устройствах и системах связи. Кроме того, может использоваться для исследований в области нейродинамики и создания нейроподобных вычислительных систем. Технический результат – обеспечение...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002794549
Дата охранного документа: 21.04.2023
Показаны записи 1-7 из 7.
10.02.2016
№216.014.c486

Способ получения биоцидной композиции

Изобретение относится к способам получения биоцидных композиций, которые могут найти применение при создании покрытий с биоцидными свойствами, например, на полимерах, стеклах, металлах, бумаге, строительных материалах и т.д. В способе получения биоцидной композиции осуществляют смешение...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002574759
Дата охранного документа: 10.02.2016
20.04.2016
№216.015.3620

Биоцидная композиция для получения покрытий

Изобретение относится к биоцидным композициям для получения покрытий, которые могут найти применение при создании покрытий с биоцидными свойствами, например, на полимерах, стеклах, металлах, бумаге, строительных материалах и т.д. Биоцидная композиция для получения покрытий состоит из...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002581866
Дата охранного документа: 20.04.2016
13.01.2017
№217.015.7ae9

Способ формирования эпитаксиального массива монокристаллических наноостровков кремния на сапфировой подложке в вакууме

Изобретение относится к сублимационному выращиванию эпитаксиальных массивов самоорганизованных монокристаллических наноостровков кремния на сапфировых подложках и может быть использовано в качестве нанотехнологического процесса, характеризующегося повышенной стабильностью формирования...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002600505
Дата охранного документа: 20.10.2016
09.05.2019
№219.017.4940

Способ формирования гексагональной фазы кремния

Использование: для изготовления светоизлучающих приборов на основе гексагональной фазы кремния, обеспечивающей эффективное возбуждение фотолюминесценции. Сущность изобретения заключается в том, что в способе формирования фазы гексагонального кремния путем имплантации в изготовленную из...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002687087
Дата охранного документа: 07.05.2019
15.11.2019
№219.017.e2da

Способ изготовления мемристора с наноконцентраторами электрического поля

Использование: для изготовления мемристоров с диэлектрической структурой. Сущность изобретения заключается в том, что предложен способ изготовления мемристора путем формирования расположенной между двумя электродами диэлектрической структуры, содержащей обеспечивающий филаментарный механизм...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002706207
Дата охранного документа: 14.11.2019
27.12.2019
№219.017.f38d

Способ формирования гексагональной фазы кремния путём имплантации ионов криптона в плёнку оксида кремния на пластине монокристаллического кремния

Изобретение относится к полупроводниковой технологии и может быть использовано при изготовлении светоизлучающих приборов на основе гексагональной фазы кремния, обеспечивающей эффективное возбуждение фотолюминесценции. Технический результат от использования предлагаемого способа формирования...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002710479
Дата охранного документа: 26.12.2019
12.04.2023
№223.018.46dc

Способ дезинфекции закрытых помещений

Изобретение относится к области дезинфекции. Способ состоит в дезинфекции закрытого помещения, включающего унитаз и бачок, источник ионизирующих излучений. Ионизацию воды в бачке осуществляют путем подачи в него водопроводной воды и перемешивания ее с радиоактивным газом радоном, поступающим в...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002763599
Дата охранного документа: 30.12.2021
+ добавить свой РИД