×
10.02.2015
216.013.26d5

Результат интеллектуальной деятельности: СИНИЙ ФЛИП-ЧИП СВЕТОДИОДА НА НИТРИДНЫХ ГЕТЕРОСТРУКТУРАХ

Вид РИД

Изобретение

Аннотация: Изобретение относится к полупроводниковым нитридным наногетероструктурам и может быть использовано для изготовления светодиодов видимого диапазона с длиной волны 460±5 нм. Указанный синий флип-чип светодиод на нитридных гетероструктурах содержит металлические электроды p-типа, нитридный слой p-типа, III-нитридную активную область, III-нитридный слой n-типа, подложку из карбида кремния с текстурированной полуполярной или неполярной поверхностью, выполненной в виде нанообразований, размеры которых и расстояние между которыми сравнимы с длиной волны излучения. 5 з.п. ф-лы, 1 ил.

Изобретение относится к полупроводниковым нитридным наногетероструктурам и может быть использовано для изготовления светодиодов видимого диапазона с длиной волны 460±5 нм.

Данное изобретение описывает структуру синего флип-чипа со структурированной поверхностью для увеличения вывода излучения. Структурирование осуществляется путем фотолитографии с применением сухого плазмохимического травления. Результатом увеличения вывода излучения из синего флип-чипа является увеличение его общей эффективности (КПД).

Известен ряд разработок в этой области, среди которых следует отметить техническое решение, описанное в патенте США №7915622 /I/. Целью данного изобретения было создание высокоэффективной текстурированной структуры светоизлучающего диода (СИД) с коэффициентом заполнения больше единицы для достижения высокого светового выхода на полупроводниках 3-5 и 2-6 групп. Структура СИД с высоким коэффициентом заполнения включает в себя: первый текстурированный слой и контактный слой, состоящий из легированных III-V или II-VI соединений полупроводников или сплава таких полупроводников, полученных осаждением методом ELOG (epitaxial lateral overgrowth) на подложке, текстурированной множеством областей, которые инициировали быстрый рост упомянутого первого текстурированного слоя и контактного слоя; текстурированный нелегированный или легированный активный слой, состоящий из III-V или II-VI соединений полупроводников или сплава таких полупроводников, в котором происходит или излучательная рекомбинация электронов и дырок, или межзонные переходы; второй текстурированный слой и контактный слой, состоящий из легированных III-V или II-VI соединений полупроводников или сплава таких полупроводников. Структура может включать проводящую или изолирующую подложку, III-V или II-VI соединений полупроводников или сплава таких полупроводников, выращенных на подложке с помощью какого-либо вида эпитаксии (например, МЛЭ, MOCVD), рисунок на подложке, созданный с помощью масочного или безмасочного метода (фотолитография, прямое вырезание рисунка электронным или ионным лучом, СТМ, голография, наноимпринт, анодирование пористого оксида алюминия, влажное травление или другой подходящий метод). Каждый текстурированный и контактный слой, текстурированный дырочный слой, контактный слой p-типа, текстурированный n-слой могут быть в форме единого слоя, совокупности слоев или сверхрешеток. Текстурированный активный слой может быть легированной или нелегированной гетероструктурой, единичной квантовой ямы или совокупности квантовых ям. Проводящая подложка может состоять из GaN, AlN, SiC, Si, GaAs, InP, ZnSe или иных металлоксидных материалов. Изолирующая подложка может состоять из сапфира, AlN, GaN, ZnO или иных металлоксидных материалов. Изобретение дает возможность получить СИД с трехмерным выпуклым или бороздчатым узором. Узор в виде треугольных, шестиугольных, выпуклых, вогнутых или трапециевидных объектов увеличивает коэффициент заполнения СИД структуры до значения, превышающего единицу, как результат увеличение активной области светоизлучения.

В то же самое время текстурированная поверхность уменьшает внутреннее отражение устройства и снижает глубину абсорбции полупроводников или их сплавов, вследствие чего вывод света может быть значительно увеличен. Однако следует отметить, что все упомянутые выше типы текстурирования приводят к переотражению излучения, что, хотя и увеличивает вывод излучения, но приводит к его поляризации, что отрицательно сказывается на эффекте излучательной рекомбинации и снижает внутреннюю квантовую эффективность. Поэтому следует стремиться к созданию текстурированных поверхностей, разрушающих поляризацию, каковыми являются диффузно рассеивающие поверхности.

Известно также нитридное светоизлучающее устройство по патенту США №7714340 /2/. Изобретение представляет собой СИД на основе полупроводниковых нитридов, который излучает вниз (bottom-emitting), с повышенным выводом света. Повышенный вывод света обеспечивается за счет отражателя, который перенаправляет вниз свет, излученный вверх, в зону выхода света. Сетчатая контактная область позволяет распределить ток через всю область инжекции носителей, не занимая всю верхнюю поверхность устройства.

Известно также техническое решение, позволяющее повысить вывод излучения из чипа /3/. Исследователи сообщают, что некоторое улучшение вывода света дает утонение внешней поверхности чипа. Снижение рассеяния света, по мнению исследователей, может быть достигнуто за счет воздушных карманов, полученных методом PLOG слоя AlN. Существенное увеличение вывода света может быть достигнуто также за счет устранения механизмов рассеяния света при совокупном эффекте сруктурирования задней поверхности и сбора направляемого излучения за счет эффекта волновода «waveguided». Направляемым излучением «waveguided light» называют световое излучение, распространяющееся вдоль плоскостей слоев (световой волновод) и выходящее через край чипа, а не в нужном направлении.

Наиболее близким к заявленному изобретению является устройство по патенту США №8114698 /4/. Суть данного изобретения сводится к следующему. Заявлена конструкция и способ изготовления светодиода на базе нитридов III группы, в которой, по крайней мере, одна поверхность полуполярной или неполярной плоскости слоя III нитридного полупроводника является структурированной (текстурированной) с тем, чтобы увеличить вывод излучения. Текстурирование может быть выполнено с помощью плазмохимического травления, последующей фотолитографии или нанопечати. Недостатки прототипа заключаются в том, что структурированная поверхность не позволяет полностью собрать световой поток, который распространяется вдоль плоскостей слоев (световых волноводов), а также в том, что световое излучение выводится за счет эффектов отражения от структурированных поверхностей. Отраженное излучения всегда становится поляризованным, что весьма нежелательно при прохождении излучения через активную область, поскольку поляризованное излучение негативно влияет на эффекты рекомбинации носителей внутри активной области.

Существует ряд возможностей для повышения вывода излучения. Для светодиодного чипа на базе нитридов из-за большой разницы между коэффициентами преломления GaN (n=2.5) и воздуха (n=1), пространственный угол (при вершине конуса) расхождения светового излучения составляет всего 23 градуса, что приводит к низкой эффективности вывода светового излучения, составляющей 4,18% /5/. Излучение за пределами конуса претерпевает многократные отражения и, в конечном счете, поглощается активной областью или электродами. Для уменьшения внутренних потерь света и способствования выводу света может быть использована технология текстурирования поверхности. Хотя текстурирование поверхности с помощью травления является непременным условием увеличения вывода излучения из нитридных структур световодов, все же его результат зависит от ориентации кристаллов и полярности поверхности, подвергаемой текстурированию, особенно N-поверхности c-полярного [0001] GaN /5/. Поэтому данная методика травления не применима для кристаллов GaN другой ориентации и полярности, включая a-поверхность (11-20), неполярную m-поверхность (1-100) и большинство неполярных поверхностей.

Задачей заявляемого изобретения является увеличение внешнего квантового выхода устройства за счет создания текстурированной поверхности с увеличенным выводом излучения такого типа, чтобы она позволяла выводить больший световой поток, не внося при этом нежелательную поляризацию, значительно уменьшить внутреннее отражение, улучшить эффективность рекомбинации носителей.

Технический результат, достигаемый при реализации заявленного изобретения, заключается в получении синего флип-чип светодиода на нитридных гетероструктурах с увеличенным коэффициентом вывода излучения.

Указанный технический результат достигается путем создания флип-чипа, содержащего металлические электроды n и p-типа, нитридный слой p-типа, III-нитридную активную область, III-нитридный слой n-типа, подложку из карбида кремния с текстурированной полуполярной или неполярной поверхностью, выполненной в виде щетки нанообразований, которые являются практически идеальным диффузором, не вносящим поляризацию в рассеиваемое излучение. Данные нанообразования могут быть выполнены в виде наноцилиндров, нанолинз, наноконусов или нанопирамид, выступающих над текстурированной поверхностью или выполненных в виде углублений, размеры которых и расстояние между которыми сравнимы с длиной волны излучения. Нанообразования могут также находиться на некотором углублении от поверхности (в объеме) и представлять собой микропузырьки, расположенные хаотично, размеры которых и расстояние между которыми сравнимы с длиной волны излучения. Текстурирование поверхности увеличивает коэффициент вывода излучения синего флип-чип светодиода на 50-55% по сравнению с аналогичным светодиодом без текстурированной поверхности.

Флип-чип выполнен на основе нитридных гетероструктур, представленный на Фиг.1, где:

1, 2 - металлические электроды,

3 - нитридный слой p-типа,

4 - нитридный слой n-типа,

5 - III-нитридная активная область,

6 - текстурированная полуполярная или неполярная поверхность,

7 - подложка из карбида кремния.

Структура кристалла содержит: металлический электрод n-типа 1, металлический электрод p-типа 2, нитридный слой p-типа 3, III-нитридную активную область 5, содержащую квантовые ямы InGaN, барьеры GaN или AlGaN, нитридный слой n-типа 4, подложку из карбида кремния 7 с текстурированной полуполярной или неполярной плоскостью 6. При этом текстурированная поверхность выполнена в виде нанообразований, выполненных в виде наноцилиндров, нанолинз, наноконусов или нанопирамид, выступающих над текстурированной поверхностью или выполненных в виде углублений. Нанообразования могут также находиться на некотором углублении от поверхности (в объеме) и представлять собой микропузырьки, расположенные хаотично, размеры которых и расстояние между которыми сравнимы с длиной волны, щетки наноцилиндров или наноконусов или нанопирамид. Излучение выходит через подложку из карбида кремния 7.

Наиболее значимое преимущество данного изобретения состоит в том, что оно значительно увеличивает вывод излучения, что для устройств данного типа является наиболее узким местом. Кроме того, данное изобретение позволяет более простым способом увеличивать вывод излучения по сравнению с использованием фотонного кристалла. Текстурированная поверхность имеет микронеровности конечной высоты. Микрорельеф приводит к нерегулярному рассеянию света по разным направлениям. Если высота микронеровностей h≥0.2λ то отражение диффузное, что справедливо в нашем случае, при h≤0.003λ отражение зеркальное. Диффузное отражение света представляет собой рассеивание света во всевозможных направлениях шероховатой поверхностью, представляющей собой совокупность различным образом ориентированных площадок с размерами ≥λ, сводится к отражению света этими площадками в соответствии с формулами Френеля; угловое распределение яркости и поляризации диффузно отраженного света целиком определяется характером стохастического распределения площадок по ориентациям.

Особый случай рассеяния света макроскопическими неоднородностями представляет рассеяние шероховатыми поверхностями. При многократном рассеянии света на текстурированной шероховатой поверхности, представляющей собой нанообразования в виде наноцилиндров, нанолинз, наноконусов или нанопирамид, выступающих над текстурированной поверхностью или выполненных в виде углублений, размеры которых и расстояние между которыми сравнимы с длиной волны излучения. Нанообразования могут также находиться на некотором углублении от поверхности (в объеме) и представлять собой микропузырьки, расположенные хаотично, диффузная составляющая становится почти изотропной, а зеркальная - исчезает. В этом случае поверхность выглядит матовой.

Принцип действия светодиода основан на использовании явления излучательной рекомбинации. Через p-n-переход протекает прямой ток между электродами 1 и 2, при этом происходит рекомбинация носителей, то есть заполнение свободного энергетического уровня в валентной зоне электроном, находящимся в зоне проводимости, что сопровождается выделением энергии. Эта энергия выделяется в виде квантов лучистой энергии. Обычно это наблюдается в полупроводниках, представляющих собой двойные и тройные соединения. По существу светодиод - это диод полупроводникового типа-p-n-переход, и является соединением двух частей полупроводника с разными типами проводимости. Один из них обладает избытком электронов (n-тип), а второй - избытком дырок (p-тип). Если к p-части такого диода присоединить плюс источника тока, то через него пойдет ток. В светодиоде наиболее важным является процесс, происходящий при прохождении тока. В этот момент осуществляется рекомбинация носителей электрического заряда. Отрицательно заряженные электроны занимают место в положительно заряженных ионах кристаллической решетки полупроводника. И когда электрон и дырка встречаются, происходит выделение энергии, излучается фотон, квант света. Если излучение не происходит, высвобожденная энергия переходит в тепловую, нагревая вещество. Величина энергии квантов, выделяемых при рекомбинации, зависит от разницы энергетических уровней электронов в возбужденном и нейтральных атомах, то есть от ширины запрещенной зоны. Кванты излучения распространяются во всех направлениях.

Конкретная реализация структуры УФ светодиода, представленная на Фиг.1, имеет следующие характеристики:

- Площадь поверхности кристалла, 0,2-0,5 мм2

- Длина волны излучения, 460±5 нм

- Прямое падение напряжения на токе 20 мА 3,3-4,0 B

- Дифференциальное сопротивление кристалла не более 6,0 Ом

- Токи утечки при обратном напряжении 3 В не более 10 мкА

Данное изобретение является универсальным, поскольку применимо к различным структурам чипов независимо от их кристаллических структур.

Источники информации

1. Патент США №7915622.

2. Патент США №7714340.

3. Lateral conduction, substrate-free deep UV nitride semiconductor LEDs Vol.6 · Issue 3 · April/May 2011 (Seongmo Hwang et al., Appl. Phys. Express, Vol.4, p032102, 2011.

4. Патент США №8114698 - прототип.

5. Шуберт Ф. Светодиоды / Пер. с англл. Под ред. А.Э. Юновича. - 2-е изд. - М.: ФИЗМАТЛИТ, 2008, С.117.


СИНИЙ ФЛИП-ЧИП СВЕТОДИОДА НА НИТРИДНЫХ ГЕТЕРОСТРУКТУРАХ
Источник поступления информации: Роспатент

Показаны записи 11-20 из 45.
10.01.2014
№216.012.95c2

Способ изготовления керамических топливных таблеток с выгорающим поглотителем для ядерных реакторов

Изобретение относится к области ядерной энергетики и может быть использовано в технологии производства спеченных керамических топливных таблеток с выгорающим поглотителем для ядерных реакторов. Для прессования таблеток используют смесь порошка диоксида урана, приготовленного по одной из...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002504032
Дата охранного документа: 10.01.2014
20.01.2014
№216.012.992c

Способ итеративного криптографического преобразования данных

Изобретение относится к вычислительной технике и электросвязи, предназначено для решения задач защиты компьютерной информации. Наиболее предпочтительной областью использования изобретения является построение генераторов псевдослучайных чисел (ГПСЧ), а также криптографических примитивов...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002504911
Дата охранного документа: 20.01.2014
20.07.2014
№216.012.df01

Устройство для определения количества единиц в упорядоченном двоичном числе

Изобретение относится к вычислительной технике, в частности к устройствам обработки данных, и может быть использовано для построения средств автоматики, функциональных узлов систем управления. Техническим результатом является упрощение устройства за счет использования однотипных элементов,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002522875
Дата охранного документа: 20.07.2014
20.07.2014
№216.012.df42

Способ изготовления токоснимающей фольги и токоснимающая фольга суперконденсаторов

Изобретение относится к области электротехники, а именно к способу изготовления токоснимающей фольги суперконденсатора с двойным электрическим слоем (КДЭС). Техническим результатом изобретения является повышение мощности суперконденсатора за счет снижения паразитного контактного сопротивления...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002522940
Дата охранного документа: 20.07.2014
27.07.2014
№216.012.e55f

Способ получения тонких эпитаксиальных слоев β-sic на кремнии монокристаллическом

Изобретение относится к технологии микроэлектроники и может быть использовано для получения слоев карбида кремния при изготовлении микроэлектромеханических устройств, фотопреобразователей с широкозонным окном 3С-SiC, ИК-микроизлучателей. Способ получения тонких эпитаксиальных слоев β-SiC на...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002524509
Дата охранного документа: 27.07.2014
10.09.2014
№216.012.f352

Ультрафиолетовый светодиод на нитридных гетероструктурах

Изобретение относится к полупроводниковым нитридным наногетероструктурам и может быть использовано для изготовления светодиодов ультрафиолетового диапазона с длинами волн в диапазоне 260-380 нм. Ультрафиолетовый светодиод на нитридных гетероструктурах включает металлические электроды p-типа,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002528112
Дата охранного документа: 10.09.2014
20.09.2014
№216.012.f501

Способ формирования высоковольтного карбидокремниевого диода на основе ионно-легированных p-n-структур

Изобретение относится к твердотельной электронике, в частности к технологии изготовления высоковольтных карбидокремниевых полупроводниковых приборов на основе p-n-перехода с использованием ионной имплантации. Технический результат, достигаемый при реализации заявленного изобретения, заключается...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002528554
Дата охранного документа: 20.09.2014
10.11.2014
№216.013.05b5

Способ регистрации ионизационного сигнала в эмиссионных детекторах излучений

Изобретение относится к области низкофоновых экспериментов по поиску редких событий, например взаимодействий темной материи с обычным веществом, и может быть использовано для экспериментов по исследованию взаимодействия нейтрино (антинейтрино) с энергией 1-100 МэВс веществом. Способ регистрации...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002532859
Дата охранного документа: 10.11.2014
27.11.2014
№216.013.0a22

Высоковольтный нитрид-галлиевый транзистор с высокой подвижностью электронов

Изобретение относится к нитрид-галлиевым транзисторам с высокой подвижностью электронов (GaN HEMT) и в частности к конструкции GaN НЕМТ для высоковольтных применений. Нитрид-галлиевый транзистор с высокой подвижностью электронов выращивается на кремниевой подложке с нанесенной на нее...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002534002
Дата охранного документа: 27.11.2014
27.01.2015
№216.013.20fb

Способ осаждения тонких пленок оксида церия

Изобретение относится к технологии тонких пленок, в частности к способу формирования равномерных по толщине пленок оксида церия (CeO) на подложках сложной пространственной конфигурации, и может быть использовано для создания равномерных по толщине пленок оксида церия при решении ряда задач...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002539891
Дата охранного документа: 27.01.2015
Показаны записи 11-20 из 46.
27.07.2014
№216.012.e55f

Способ получения тонких эпитаксиальных слоев β-sic на кремнии монокристаллическом

Изобретение относится к технологии микроэлектроники и может быть использовано для получения слоев карбида кремния при изготовлении микроэлектромеханических устройств, фотопреобразователей с широкозонным окном 3С-SiC, ИК-микроизлучателей. Способ получения тонких эпитаксиальных слоев β-SiC на...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002524509
Дата охранного документа: 27.07.2014
10.09.2014
№216.012.f352

Ультрафиолетовый светодиод на нитридных гетероструктурах

Изобретение относится к полупроводниковым нитридным наногетероструктурам и может быть использовано для изготовления светодиодов ультрафиолетового диапазона с длинами волн в диапазоне 260-380 нм. Ультрафиолетовый светодиод на нитридных гетероструктурах включает металлические электроды p-типа,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002528112
Дата охранного документа: 10.09.2014
20.09.2014
№216.012.f501

Способ формирования высоковольтного карбидокремниевого диода на основе ионно-легированных p-n-структур

Изобретение относится к твердотельной электронике, в частности к технологии изготовления высоковольтных карбидокремниевых полупроводниковых приборов на основе p-n-перехода с использованием ионной имплантации. Технический результат, достигаемый при реализации заявленного изобретения, заключается...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002528554
Дата охранного документа: 20.09.2014
10.11.2014
№216.013.05b5

Способ регистрации ионизационного сигнала в эмиссионных детекторах излучений

Изобретение относится к области низкофоновых экспериментов по поиску редких событий, например взаимодействий темной материи с обычным веществом, и может быть использовано для экспериментов по исследованию взаимодействия нейтрино (антинейтрино) с энергией 1-100 МэВс веществом. Способ регистрации...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002532859
Дата охранного документа: 10.11.2014
27.11.2014
№216.013.0a22

Высоковольтный нитрид-галлиевый транзистор с высокой подвижностью электронов

Изобретение относится к нитрид-галлиевым транзисторам с высокой подвижностью электронов (GaN HEMT) и в частности к конструкции GaN НЕМТ для высоковольтных применений. Нитрид-галлиевый транзистор с высокой подвижностью электронов выращивается на кремниевой подложке с нанесенной на нее...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002534002
Дата охранного документа: 27.11.2014
27.01.2015
№216.013.20fb

Способ осаждения тонких пленок оксида церия

Изобретение относится к технологии тонких пленок, в частности к способу формирования равномерных по толщине пленок оксида церия (CeO) на подложках сложной пространственной конфигурации, и может быть использовано для создания равномерных по толщине пленок оксида церия при решении ряда задач...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002539891
Дата охранного документа: 27.01.2015
10.02.2015
№216.013.2250

Способ формирования мемристора на основе твердотельного сплава si:me и структура мемристора на основе твердотельного сплава si:me

Изобретение относится к области микроэлектроники, а именно к технологии изготовления интегрального элемента логики и/или энергонезависимой памяти на основе структур металл-изолятор-металл (МИМ). Задачей данного изобретения является создание мемристора, который отличается отсутствием «формовки»...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002540237
Дата охранного документа: 10.02.2015
10.02.2015
№216.013.2699

Способ изготовления изделий из электропроводных порошковых материалов

Изобретение относится к области порошковой металлургии, в частности к способам электроимпульсного прессования порошка, и служит для изготовления плотных изделий из электропроводных порошков или частиц. Способ включает засыпку порошка в матрицу, приложение к нему статического давления и...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002541334
Дата охранного документа: 10.02.2015
10.04.2015
№216.013.3f09

Многовходовой сумматор

Изобретение относится к вычислительной технике, предназначено для суммирования двоичных чисел и может быть использовано в системах передачи и обработки информации для цифровой обработки сигналов, при решении комбинаторных задач. Техническим результатом являются уменьшение аппаратных затрат и...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002547625
Дата охранного документа: 10.04.2015
20.04.2015
№216.013.4114

Способ получения и детектирования ионов изотопов торий-229 и торий-232 с различной кратностью заряда

Изобретение относится к области метрологии и может быть использовано для определения частоты и времени, в частности при создании атомных стандартов частоты и атомных часов. В заявленном способе получения и детектирования ионов изотопов торий-229 и торий-232 с различной кратностью заряда...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002548158
Дата охранного документа: 20.04.2015
+ добавить свой РИД