×
27.06.2014
216.012.d9fb

Результат интеллектуальной деятельности: СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ НАНОАЛМАЗОВ ПРИ ПИРОЛИЗЕ МЕТАНА В ЭЛЕКТРИЧЕСКОМ ПОЛЕ

Вид РИД

Изобретение

№ охранного документа
0002521581
Дата охранного документа
27.06.2014
Аннотация: Изобретение может быть использовано в медицине при производстве препаратов для послеоперационной поддерживающей терапии. Проводят термическое разложение метана в герметичной камере на подложках из кремния или никеля при давлении 10-30 Торр и температуре 1050-1150 °С. Нагрев осуществляют пропусканием электрического тока через пластину из углеродной фольги, ткани, войлока или конструкционного графита, на которой размещены подложки. Над этой пластиной установлена аналогичная пластина, на которую подают потенциал смещения от внешнего источника. На подложках осаждаются наноалмазы размером от 4 нм до 10 нм. 1 ил., 6 пр.
Основные результаты: Способ получения наноалмазов при пиролизе метана в электрическом поле, включающий нагрев пластин из углеродного материала в герметичной водоохлаждаемой камере прямым пропусканием электрического тока и термическое разложение метана в зазоре между пластинами при давлении 10-30 Торр с осаждением нанокристаллических слоев углерода на подложках, размещенных в зазоре, отличающийся тем, что ток пропускают лишь через нижнюю пластину, а на верхнюю подают потенциал смещения от внешнего источника напряжения, термическое разложение метана проводят при температуре 1050-1150°С на подложке из кремния или никеля, в качестве материала пластин могут использоваться углеродная фольга, конструкционный графит, углеграфитовая ткань или войлок.

Изобретение относится к области получения пленок кристаллического углерода, содержащих кластеры наноалмазов, на подложках и может быть использовано для производства препаратов, применяющихся в терапии после проведения хирургических операций. В настоящее время для синтеза наноалмазов в промышленности используется метод детонации, что сопряжено с применением высокоактивных взрывчатых веществ (смесь тротила с гексогеном).

Известен способ (Z.Y.Chen, J.P.Zhao, T.Yano, T.Ooie, M.Yoneda, J.Sakakibara. Growth of nanocrystalline diamond by pulsed laser deposition in oxygen atmosphere. Journal of Crystal Growth, 226 (2001) p.62-66) получения нанокристаллических алмазов на подложках сапфира в атмосфере кислорода с использованием импульсного лазера. Способ позволяет получать кристаллы наноалмазов размером 30 нм, но носит исключительно лабораторный характер. Время цикла осаждения пленки составляет 4 часа при использовании подложки малой площади, что неприемлемо для промышленного производства.

Известен способ (May P. Diamond Thin Films: A 21st Century Material. Phil. Trans. R. Soc. Lond. A 358 (2000) p.473-495) выращивания тонких алмазоподобных пленок при пиролизе метана в высокочастотной микроволновой плазме. Данный способ успешно развивается, но для его осуществления требуется крайне сложная и дорогая аппаратура, а процесс по времени занимает много часов.

Известен способ (Патент РФ №2230702, МПК C01B 31/06, опубл. 20.06.2004 г.) получения наноалмазов, основанный на использовании детонации, что сопряжено с применением взрывчатых веществ (смесь тринитротолуола с гексогеном). Заряд взрывчатого вещества помещают внутрь ледяной бронировки в герметичной взрывной камере и производят его подрыв, затем полученную суспензию наноалмазов в воде сливают в приемную емкость, отделяют наноалмазы и подвергают очистке. Недостатками известного метода являются использование взрывчатых веществ, низкая воспроизводимость и трудность очистки синтезированных наноалмазов от продуктов распада взрывчатой смеси.

Наиболее близким по технической сущности к заявляемому и принятым за прототип является способ (Патент РФ №2429315, МПК C30B 30/02,C01В 31/04) пиролитического выращивания нанокристаллических слоев графита, включающий нагрев пластин из углеродного материала в герметичной водоохлаждаемой камере прямым пропусканием электрического тока и термическое разложение метана в зазоре между пластинами с осаждением нанокристаллических слоев углерода на подложках из кремния, размещенных в зазоре, причем температуру подложки поддерживают в пределах 1200-1350°С, а давление метана - от 10 до 30 Торр.

Способ-прототип имеет следующие недостатки:

1. В узком зазоре между двумя параллельными углеродными пластинами возникает разность электрических потенциалов на уровне 5-7 В за счет падения напряжения на графитовых прокладках и винтах, соединяющих пластины. Напряженность поля составляет примерно 70 В/см, что соответствует давлению ионов углерода C4- на уровне 1 ГПа, недостаточному для получения совершенных наноалмазов малого размера.

2. Из приведенной в прототипе схемы нагрева следует, что напряженность электрического поля между углеродными пластинами имеет максимальное значение на краевых участках и в силу смены полярности (как на постоянном, так и на переменном токе) проходит через нулевое значение в центре, что приводит к неоднородности условий осаждения слоев по поверхности подложек.

В результате возникающие при реализации способа-прототипа наноалмазы имеют слишком крупные размеры (от 30 до 50 нм) для использования в медицине, а их выход по массе выращенного слоя достаточно низкий.

Главным отличительным признаком заявляемого способа получения наноалмазов является пропускание электрического тока лишь через нижнюю углеродную пластину и подачу на верхнюю пластину, электрически изолированную от нижней, высокого напряжения от внешнего источника. При термическом разложении метана в зазоре между лентами возникает прослойка ионизированного газа, сквозь которую и протекает ток между верхней и нижней пластинами, в зазоре между которыми размещены подложки. Напряженность электрического поля при этом постоянна по длине пластин.

Технический результат, получаемый при осуществлении настоящего способа, выражается в получении нанокристаллов алмаза малого размера в матрице кристаллического углерода и увеличении их выхода по общей массе слоя углерода.

Схема практического осуществления заявляемого способа иллюстрируется Фиг. 1.

В зазоре между двумя параллельными пластинами 1 и 2 из углеродного материала размещаются подложки 3 из кремния или никеля. Силовой ток пропускается через ленту 2 через внешние электроды 4 и 5. На верхнюю ленту 1 через внешний электрод 6 подается переменное либо постоянное высокое электрическое напряжение. В результате различия напряжений между нагревательной пластиной 2 и верхней пластиной 1 в узком зазоре между ними создается значительное электрическое поле, напряженность которого составляет до 2000 В/см. В вакуумированную герметичную камеру подается метан при давлении 10-30 Торр, пиролизуемый согласно реакции CH4→С-4+4H+. При этом электрически заряженные атомы углерода приобретают значительную кинетическую энергию, достаточную для создания совершенных наноалмазов. Температуру подложки поддерживают в пределах 1050-1150°С. На поверхности подложек 3 вырастает слой нанокристаллического углерода 7, в матрице которого содержатся наноалмазы.

Для достижения названного технического результата в известном способе, включающем нагрев пластин из углеродного материала в герметичной водоохлаждаемой камере прямым пропусканием электрического тока и термическое разложение метана в зазоре между пластинами при давлении 10-30 Торр с осаждением нанокристаллических слоев углерода на подложках, размещенных в зазоре, ток пропускают лишь через нижнюю пластину, а на верхнюю подают потенциал смещения от внешнего источника напряжения, термическое разложение метана проводят при температуре 1050-1150°С на подложке из кремния или никеля, в качестве материала пластин могут использоваться углеродная фольга, конструкционный графит, углеграфитовая ткань или войлок.

При термическом разложении метана в возникшем электрическом поле ионы углерода приобретают кинетическую энергию, позволяющую им создавать при контакте с растущим слоем давление до 30 ГПа, что сопоставимо, а по некоторым данным и превышает давление, достигаемое при подрыве тротила. Температуру подложек поддерживают в пределах 1050-1150°С, а давление метана - от 10 до 30 Торр.

Если парциальное давление метана ниже 10 Торр, то его концентрации в атмосфере камеры недостаточно для получения плотного слоя кристаллического углерода.

Если поднять парциальное давление метана выше 30 Торр, то на поверхности подложек высаживается сажа, что делает выращивание содержащего наноалмазы кристаллического углеродного слоя невозможным.

Если температура нагретых углеродных пластин будет ниже 1050°С, то в указанном диапазоне давлений метана заметного осадка углерода не возникнет.

При увеличении температуры свыше 1150°С подложки вступают в химическое взаимодействие с нагретой выше указанной температуры нижней углеродной пластиной и происходит их пластическая деформация с частичным оплавлением.

При использовании в качестве подложек полированных пластин кремния синтезированные пленки после охлаждения легко отделяются от подложек вследствие большого различия их КТР, но повторное использование достаточно дорогих кремниевых подложек невозможно вследствие нарушения качества полировки их поверхности после ионной бомбардировки углеродом.

При использовании более дешевых подложек из никеля адгезия синтезированных пленок велика и для их отделения необходимо растворить подложку никеля в нагретом водном растворе серной кислоты.

Пример 1

Между двумя пластинами - нижней 1 (выполненной из 3 слоев гибкой углеродной фольги и подключенной к выходным шинам силового трансформатора) и 2 - верхней (выполненной из твердого углеродного войлока, изолированной от пластины 1 и соединенной с регулируемым источником переменного напряжения) шириной 120 мм и длиной 230 мм каждая - установили две подложки 3 из монокристаллического кремния диаметром 100 мм каждая. После герметизации и откачки реакционной камеры в нее напустили метан квалификации СВЧ до давления 20 Торр и включили нагрев путем пропускания тока через пластину 2. Температура подложек кремния достигла температуры 1070±20°С. Затем подали напряжение 05 В на внешний электрод 6 верхней пластины 2 и зафиксировали амперметром в цепи: верхняя пластина - фазный полюс внешнего источника напряжения ток величиной 1-2,5 А. При этом в зазоре между пластинами 1 и 2 наблюдалось синее свечение. Длительность операционного цикла составила 8 минут. После извлечения подложек 3 на их полированных поверхностях обнаружены пленки 7 с металлическим блеском толщиной 3-5 мкм. После механического отделения полученных пленок от подложек в их составе обнаружены наноалмазы размерами от 4 до 10 нм в количестве до 80 масс.%.

Пример 2

То же, что и в примере 1, но давление метана в реакционной камере поддерживали на уровне 7 Торр, а длительность операционного цикла - 17 минут. После извлечения кремниевых подложек на них обнаружены аморфные пленки желтого цвета, легко удаляемые органическими растворителями.

Пример 3

То же, что и в примере 2, но давление метана в реакционной камере поддерживали на уровне 45 Торр. Поверхности кремниевых подложек покрыты плотным слоем сажи. После удаления сажи следов кристаллического слоя не обнаружено.

Пример 4

То же, что и в примере 2, но температура подложек кремния составляла 950°С. На поверхности подложек осадков кристаллического углерода не обнаружено.

Пример 5

То же, что и в примере 2, но температура подложек кремния составляла 1200°С. Пластины сильно деформированы, треснули и частично сплавились. Слой пирографита на их поверхности наблюдается, но дальнейшее их использование не представляется возможным.

Пример 6

То же, что и в примере 2, но в качестве подложек использовались пластины из никелевой фольги толщиной 30 мкм, а длительность операционного цикла составила 5 минут. После извлечения подложек на них обнаружены пленки с металлическим блеском толщиной 2-3 мкм. После травления в 30% растворе серной кислоты с добавкой 5% хромистого ангидрида при температуре 60°С в течение 2 часов никель был удален и в составе оставшихся углеродных пленок обнаружены наноалмазы размерами от 4 до 8 нм в количестве до 80 масс.%.

Способ получения наноалмазов при пиролизе метана в электрическом поле, включающий нагрев пластин из углеродного материала в герметичной водоохлаждаемой камере прямым пропусканием электрического тока и термическое разложение метана в зазоре между пластинами при давлении 10-30 Торр с осаждением нанокристаллических слоев углерода на подложках, размещенных в зазоре, отличающийся тем, что ток пропускают лишь через нижнюю пластину, а на верхнюю подают потенциал смещения от внешнего источника напряжения, термическое разложение метана проводят при температуре 1050-1150°С на подложке из кремния или никеля, в качестве материала пластин могут использоваться углеродная фольга, конструкционный графит, углеграфитовая ткань или войлок.
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ НАНОАЛМАЗОВ ПРИ ПИРОЛИЗЕ МЕТАНА В ЭЛЕКТРИЧЕСКОМ ПОЛЕ
Источник поступления информации: Роспатент

Показаны записи 71-80 из 92.
31.05.2020
№220.018.22bb

Сапфировый роликовый аппликатор для криохирургии и криотерапии

Изобретение относится к криогенной технике, а именно криоаппликаторам иммерсионного типа, и может использоваться в криомедицине и ветеринарии. Криоаппликатор содержит ролик и ручку, ролик выполнен из сапфира в виде шлифованного или полированного шара или цилиндра с углублениями на торцах, в...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002722352
Дата охранного документа: 29.05.2020
09.06.2020
№220.018.25bc

Структура с резистивным переключением

Изобретение предназначено для применения в электронике для нейроморфных вычислений и хранения информации. Структура с резистивным переключением включает два металлических алюминиевых контакта, нанесенных на поверхность тонкой пленки аморфной сурьмы. Изобретение обеспечивает получение структуры...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002723073
Дата охранного документа: 08.06.2020
03.07.2020
№220.018.2dda

Способ получения timnal

Изобретение относится к области металлургии, в частности к получению объемных слитков спин-поляризованного бесщелевого полупроводника TiMnAl, который может быть использован в спинтронике. Способ получения TiMnAl из элементарных титана, марганца и алюминия включает помещение навесок марганца и...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002725229
Дата охранного документа: 30.06.2020
06.07.2020
№220.018.2fb7

Трансформатор импульсов электроэнергии однополярного тока

Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано в электрометаллургии для гальванической развязки в источниках питания высокочастотной дуги, используемой для плавления металлических порошков, электроэрозионной обработки поверхности и изготовления деталей сложной формы....
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002725610
Дата охранного документа: 03.07.2020
09.07.2020
№220.018.3097

Устройство для выращивания смешанных кристаллов сульфата кобальта-никеля-калия для оптических фильтров ультрафиолетового диапазона

Изобретение относится к области роста кристаллов, в частности, к выращиванию смешанных монокристаллов K(Со,Ni)(SO)x6HO (KCNSH) из водных растворов и может быть использовано в оптическом приборостроении для изготовления солнечно-слепых фильтров. Устройство для выращивания смешанных кристаллов...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002725924
Дата охранного документа: 07.07.2020
20.04.2023
№223.018.4c95

Способ легирования кристаллов селенида цинка хромом

Изобретение относится к области выращивания кристаллов. Способ легирования кристаллов селенида цинка хромом включает смешивание порошков селенида цинка и легирующей добавки и последующее выращивание кристалла из расплава под давлением аргона, при этом хром вводится в исходную загрузку в виде...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002751059
Дата охранного документа: 07.07.2021
20.04.2023
№223.018.4c96

Высокотемпературный слоисто-волокнистый композит, армированный оксидными волокнами, и способ его получения

Изобретение относится к высокотемпературным конструкционным композитным материалам с металлической матрицей и способам их получения. Высокотемпературный слоисто-волокнистый композит, с матрицей на основе Nb, твердого раствора Nb(Al), а также интерметаллидов NbAl и NbAl содержит слои Мо,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002751062
Дата охранного документа: 07.07.2021
20.04.2023
№223.018.4cda

Способ легирования кристаллов сульфида цинка железом или хромом

Изобретение относится к области выращивания кристаллов. Способ легирования кристаллов сульфида цинка железом или хромом включает смешивание порошков сульфида цинка и порошка моносульфида легирующего металла с последующим выращиванием кристалла из расплава вертикальной зонной плавкой. Способ...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002755023
Дата охранного документа: 09.09.2021
20.04.2023
№223.018.4d09

Устройство для измерения малых токов инжектированных зарядов в конденсированных средах

Устройство для измерения малых токов инжектированных зарядов в конденсированных средах предназначено для измерения малых токов ~ 10 А и регистрации их изменения во времени, а также записи результатов измерения на электронный носитель. Устройство содержит преобразователь ток-напряжение,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002754201
Дата охранного документа: 30.08.2021
20.04.2023
№223.018.4d26

Устройство для получения наночастиц из газов и паров жидкостей при сверхнизких температурах

Изобретение относится к области нанотехнологии, а именно предлагаемое устройство позволяет получать частицы малых размеров (наночастицы) из материалов, которые существуют при комнатных температурах в виде газов или паров. Устройство для получения наночастиц из материалов, существующих при...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002756051
Дата охранного документа: 24.09.2021
Показаны записи 41-44 из 44.
29.05.2020
№220.018.217a

Способ выращивания слоев алмаза на подложке монокристаллического кремния

Изобретение относится к области выращивания кристаллов и может быть использовано для получения слоев алмаза большой площади на подложках из монокристаллического кремния. Способ выращивания слоев алмаза, включающий нагрев в вакуумной среде в диапазоне температур от 910°С до 1150°С порошка...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002722136
Дата охранного документа: 26.05.2020
20.04.2023
№223.018.4a6f

Способ выращивания легированных бором полупроводниковых пленок алмаза

Изобретение относится к области выращивания кристаллов и может быть использовано для получения легированных бором пленок алмаза на подложках из кремния. Технический результат заключается в создании способа выращивания пленок алмаза акцепторного типа проводимости со значением удельного...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002780375
Дата охранного документа: 22.09.2022
20.04.2023
№223.018.4a7d

Способ получения водорода

Изобретение может быть использовано для получения газообразного чистого водорода в установках, связанных с системами транспортировки газа. Способ получения водорода из природного газа включает нагрев лент из углеродной фольги в герметичной водоохлаждаемой камере прямым пропусканием...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002786070
Дата охранного документа: 16.12.2022
20.04.2023
№223.018.4b41

Способ непрерывного выращивания полупроводниковых пленок алмаза

Изобретение относится к области выращивания кристаллов и может быть использовано для получения пленок алмаза большой площади на подложках из кремния. Способ непрерывного выращивания полупроводниковых пленок алмаза включает нагрев порошка алмаза 5 в графитовом контейнере в среде вакуума с...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002773320
Дата охранного документа: 01.06.2022
+ добавить свой РИД