×
20.04.2023
223.018.4cda

Результат интеллектуальной деятельности: Способ легирования кристаллов сульфида цинка железом или хромом

Вид РИД

Изобретение

Аннотация: Изобретение относится к области выращивания кристаллов. Способ легирования кристаллов сульфида цинка железом или хромом включает смешивание порошков сульфида цинка и порошка моносульфида легирующего металла с последующим выращиванием кристалла из расплава вертикальной зонной плавкой. Способ позволяет получать кристаллы ZnS с однородным распределением легирующей добавки по их длине и концентрацией легирующего металла (железа или хрома), совпадающей с его содержанием в исходной загрузке. 1 ил., 1 табл., 6 пр.

Изобретение относится к области выращивания кристаллов.

Кристаллы сульфида цинка, легированные железом или хромом применяются для изготовления пассивных модуляторов в резонаторах лазеров ближнего инфракрасного диапазона, а также для изготовления активных элементов таких лазеров.

Известен способ легирования кристаллов селенида цинка и сульфида цинка железом [S. Mirov, A. Gallian, A. Martinez, V. Fedorov. Saturable absorbers for Q- switching of middle infrared laser cavities. Patent Application Publication US 2080101423 A1] - аналог, в котором на поверхность кристаллического ZnSe или ZnS наносится пленка железа, а собственно легирование производится путем диффузионного отжига. К недостаткам этого способа можно отнести неоднородное распределение легирующей добавки по толщине изделия, характерное для диффузионных методов легирования, а также сложность многостадийного процесса, включающего рост кристалла, нанесение пленки железа и собственно диффузионное легирование.

Известен способ легирования кристаллов халькогенидов цинка хромом или железом [С.С.Балабанов, Е.М. Гаврищук, В.Б. Иконников, С.А. Родин, Д.В. Савин. Способ получения легированных халькогенидов цинка. Международная заявка WO 2016024877 А1]-прототип, в котором на поверхность халькогенида цинка наносят пленку хрома или железа, затем на этой пленке формируют слой халькогенида цинка методом химического осаждения из газовой фазы и полученную трехслойную структуру подвергают диффузионному отжигу. Основной недостаток этого способа - неоднородное распределение легирующей добавки по толщине изделия, характерное для диффузионных методов легирования. В легированных железом кристаллах сульфида цинка, полученных по способу-прототипу, отношение текущей концентрации металла (железа или кобальта) Сme к максимальной Сmax меняется на два порядка от края изделия к его середине даже при небольшой (5-8 мм) толщине изделия. К недостаткам способа-прототипа следует отнести и сложность многостадийного процесса.

Задачей предлагаемого решения является создание способа легирования кристаллов сульфида цинка железом или хромом, в котором распределение легирующей добавки в кристалле является однородным.

Поставленная задача решается в предлагаемом способе легирования кристаллов сульфида цинка железом или хромом за счет того, что легирующий металл добавляют в порошок сульфида цинка в виде порошка моносульфида железа или моносульфида хрома, а затем проводят выращивание кристалла вертикальной зонной плавкой.

Введение легирующих добавок в виде моносульфидов металлов обеспечивает валовое содержание железа или хрома в кристаллах совпадающее с содержанием добавок в исходной загрузке, что подтверждается данными, приведенными в Таблице, где концентрация Fe и Сr во всех случаях измерена в центре кристалла (как по длине, так и по радиусу). Это обусловлено близкими скоростями испарения ZnS, FeS и CrS, что предотвращает концентрирование или разбавление лигатуры в процессе роста за счет потерь ZnS на испарение, характерных для роста кристаллов ZnS из расплава.

Применение вертикальной зонной плавки позволяет выращивать кристаллы без радиального распределения легирующей добавки. При этом эффективные коэффициенты распределения железа, хрома и кобальта при вертикальной зонной плавке невелики, что обеспечивает не более чем двукратное изменение концентрации по длине кристалла в направлении роста, что экспериментально подтверждено в кристаллах длиной до 200 мм и диаметром до 40 мм.

Пример 1.

Порошки ZnS и FeS смешивают таким образом, чтобы концентрация железа в загрузке составляла 2,5×1017 см3. Полученную смесь порошков загружают в тигель и помещают в установку для выращивания кристаллов. Проводят процесс вертикальной зонной плавки. Выращенный кристалл извлекают, в середине кристалла (по длине) вырезают пластину толщиной 2 мм, которую полируют с двух сторон. Снимают спектр пропускания инфракрасного излучения пластинки и рассчитывают коэффициент поглощения на длине волны 2,8 мкм. Определяют концентрацию железа по зависимости коэффициента поглощения от концентрации. Найденная величина концентрации составляет 2,61×1017 см-3 (Таблица, строка 1).

Пример 2.

Порошки ZnS и FeS смешивают таким образом, чтобы концентрация железа в за- грузке составляла 5,0×1018 см3. Полученную смесь порошков загружают в тигель и помещают в установку для выращивания кристаллов. Проводят процесс вертикальной зонной плавки. Выращенный кристалл извлекают, в середине кристалла (по длине) вырезают пластину толщиной 1 мм, которую полируют с двух сторон. Снимают спектр пропускания инфракрасного излучения пластинки и рассчитывают коэффициент поглощения на длине волны 2,8 мкм. Определяют концентрацию железа по зависимости коэффициента поглощения от концентрации. Найденная величина концентрации составляет 5,28×1018 см-3 (Таблица, строка 2).

Пример 3.

Порошки ZnS и FeS смешивают таким образом, чтобы концентрация железа в загрузке составляла 1,0×1019 см3. Полученную смесь порошков загружают в тигель и помещают в установку для выращивания кристаллов. Проводят процесс вертикальной зонной плавки. Выращенный кристалл извлекают, в середине кристалла (по длине) вырезают пластину толщиной 0,5 мм, которую полируют с двух сторон. Снимают спектр пропускания инфракрасного излучения пластинки и рассчитывают коэффициент поглощения на длине волны 2,8 мкм. Определяют концентрацию железа по зависимости коэффициента поглощения от концентрации. Найденная величина концентрации составляет 1,21×1019 см3 (Таблица, строка 3).

Пример 4.

Порошки ZnS и CrS смешивают таким образом, чтобы концентрация хрома в загрузке составляла 2,5×1017 см3. Полученную смесь порошков загружают в тигель и помещают в установку для выращивания кристаллов. Проводят процесс вертикальной зонной плавки. Выращенный кристалл извлекают, в середине кристалла (по длине) вырезают пластину толщиной 2 мм, которую полируют с двух сторон. Снимают спектр пропускания инфракрасного излучения пластинки и рассчитывают коэффициент поглощения на длине волны 1,7 мкм. Определяют концентрацию хрома по зависимости коэффициента поглощения от концентрации. Найденная величина концентрации составляет 2,58×1017 см-3 (Таблица, строка 4).

Пример 5.

Порошки ZnS и CrS смешивают таким образом, чтобы концентрация хрома в загрузке составляла 5×1018 см3. Полученную смесь порошков загружают в тигель и помещают в установку для выращивания кристаллов. Проводят процесс вертикальной зонной плавки. Выращенный кристалл извлекают, в середине кристалла (по длине) вырезают пластину толщиной 1 мм, которую полируют с двух сторон. Снимают спектр пропускания инфракрасного излучения пластинки и рассчитывают коэффициент поглощения на длине волны 1,7 мкм. Определяют концентрацию хрома по зависимости коэффициента поглощения от концентрации. Найденная величина концентрации составляет 5,21×1018 см-3 (Таблица, строка 5).

Пример 6.

Порошки ZnS и CrS смешивают таким образом, чтобы концентрация хрома в загрузке составляла 1,0×1019 см3. Полученную смесь порошков загружают в тигель и помещают в установку для выращивания кристаллов. Проводят процесс вертикальной зонной плавки. Выращенный кристалл извлекают, в середине кристалла (по длине) вырезают пластину толщиной 0,5 мм, которую полируют с двух сторон. Снимают спектр пропускания инфракрасного излучения пластинки и рассчитывают коэффициент поглощения на длине волны 1,7 мкм. Определяют концентрацию хрома по зависимости коэффициента поглощения от концентрации. Найденная величина концентрации составляет 1,19×1019 см-3 (Таблица, строка 6). На Фиг. 1 показаны (а) полированный образец из полученного кристалла ZnS:Cr и (б) оптические элементы, изготовленные из этого кристалла.

Способ легирования кристаллов сульфида цинка железом или хромом, отличающийся тем, что легирующий металл добавляют в порошок сульфида цинка в виде порошка моносульфида железа или моносульфида хрома, а затем проводят выращивание кристалла вертикальной зонной плавкой.
Источник поступления информации: Роспатент

Showing 61-70 of 91 items.
31.01.2020
№220.017.fb95

Высокотемпературные композиты с молибденовой матрицей и способ их получения

Изобретение относится к высокотемпературным композитным материалам с металлической матрицей и к способам их получения и может быть использовано для производства лопаток авиационных газотурбинных двигателей, работающих при температурах до 1400°С. Высокотемпературный композит с молибденовой...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002712333
Дата охранного документа: 28.01.2020
06.02.2020
№220.017.ff42

Способ пространственной стабилизации дуги

Изобретение относится к области электрометаллургии и может быть использовано для прецизионной сварки, наплавки и изготовления деталей способом 3D-печати. Техническим результатом явяляется повышение эффективности способа пространственной стабилизации дуги. Способ пространственной стабилизации...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002713186
Дата охранного документа: 04.02.2020
17.02.2020
№220.018.0385

Способ получения нанокристаллического муассанита

Изобретение относится к области выращивания слоев нанокристаллического гексагонального карбида кремния (муассанита) и может быть использовано в электронной промышленности. Способ включает перемещение ленты углеродной фольги в горизонтальной плоскости с подачей к ее поверхности расплавленного...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002714344
Дата охранного документа: 14.02.2020
13.03.2020
№220.018.0b07

Тигель для выращивания кристаллов на затравку

Изобретение относится к устройствам для выращивания кристаллов на затравку методами Бриджмена, вертикальной зонной плавки, температурного градиента, а также их модификациями. Тигель состоит из корпуса 1 и хвостовика 2 с затравочной камерой 3, выполненной в виде сквозного отверстия в...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002716447
Дата охранного документа: 11.03.2020
21.03.2020
№220.018.0e3a

Сверхпроводящая цепь с участком слабой связи

Использование: для сверхпроводящих логических элементов вычислительной техники. Сущность изобретения заключается в том, что сверхпроводящая цепь с участком слабой связи включает два последовательно расположенных металлических сверхпроводящих контакта, нанесенных на поверхность...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002717253
Дата охранного документа: 19.03.2020
25.03.2020
№220.018.0f34

Способ изготовления холодного катода

Изобретение относится к нанотехнологии и может быть использовано при изготовлении электронных приборов, а также для инжекции зарядов в объём конденсированных сред при криогенных температурах. Слой углеродных нанотрубок наносят на металлическую подложку осаждением в дуговом разряде. После этого...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002717526
Дата охранного документа: 23.03.2020
28.03.2020
№220.018.115d

Коллинеарный электрод

Изобретение относится к плазменной технике, применяемой в электрометаллургии, и может быть использовано для инициирования высокочастотной плазмы на промышленной частоте 2,45 ГГц для плавления металлических порошков и изготовления деталей сложной геометрической формы в атмосфере защитных газов....
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002717841
Дата охранного документа: 26.03.2020
25.04.2020
№220.018.197c

Способ слежения за глубиной промораживания ткани при криодеструкции и система для его осуществления

Группа изобретений относится к медицинской технике. Технический результат состоит в упрощении способа слежения за положением ледяного фронта при криодеструкции, повышении пространственной чувствительности измерения глубины ледяного фронта в ткани с применением спектроскопии рассеяния, не...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002719911
Дата охранного документа: 23.04.2020
20.05.2020
№220.018.1dcf

Неорганический фотохромный материал с пространственно-селективным эффектом памяти

Изобретение относится к области неорганических материалов для твердотельных индикаторов ультрафиолетового излучения. Неорганический фотохромный материал с пространственным эффектом памяти содержит Сu - 0,012-0,015 мас.%, Gd - 0,0004-0,0006 мас.% и ZnS – остальное. Техническим результатом...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002721095
Дата охранного документа: 15.05.2020
29.05.2020
№220.018.217a

Способ выращивания слоев алмаза на подложке монокристаллического кремния

Изобретение относится к области выращивания кристаллов и может быть использовано для получения слоев алмаза большой площади на подложках из монокристаллического кремния. Способ выращивания слоев алмаза, включающий нагрев в вакуумной среде в диапазоне температур от 910°С до 1150°С порошка...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002722136
Дата охранного документа: 26.05.2020
Showing 41-49 of 49 items.
20.04.2023
№223.018.4abb

Устройство защиты цепей питания постоянного тока от короткого замыкания

Изобретение относится к электротехнике и может использоваться в силовой электронике для повышения надежности работы цепей питания постоянного тока напряжением 310 В при работе на индуктивную нагрузку. Технический результат достигается за счет того, что в схеме прототипа драйвер «нижнего плеча»...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002778553
Дата охранного документа: 22.08.2022
20.04.2023
№223.018.4c95

Способ легирования кристаллов селенида цинка хромом

Изобретение относится к области выращивания кристаллов. Способ легирования кристаллов селенида цинка хромом включает смешивание порошков селенида цинка и легирующей добавки и последующее выращивание кристалла из расплава под давлением аргона, при этом хром вводится в исходную загрузку в виде...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002751059
Дата охранного документа: 07.07.2021
21.04.2023
№223.018.4fc4

Способ синтеза шпинели ganbse

Изобретение может быть использовано при создании мемристивных структур на основе шпинелей семейства «изоляторов Мотта». Способ синтеза шпинели GaNbSe из элементарных веществ включает твердофазную химическую реакцию в вакуумированной и герметично запаянной кварцевой ампуле. Твердофазную...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002745973
Дата охранного документа: 05.04.2021
14.05.2023
№223.018.56cc

Осевой неразгруженный компенсатор

Изобретение относится к технологическому оборудованию, предназначенному для выращивания кристаллов халькогенидов в условиях микрогравитации – важном направлении в космическом материаловедении. Осевой компенсатор пружинно-поршневого типа содержит неразгруженный компенсирующий элемент,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002732334
Дата охранного документа: 15.09.2020
15.05.2023
№223.018.5c25

Сверхпроводящая цепь с эффектом близости

Устройство относится к сверхпроводящим цепям с эффектом близости, позволяющим управлять спектром связанных Андреевских состояний. Предлагается сверхпроводящая цепь с эффектом близости, включающая монокристаллическую пластину силицида кобальта CoSi, ориентированную в кристаллографической...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002753673
Дата охранного документа: 19.08.2021
15.05.2023
№223.018.5c26

Сверхпроводящая цепь с эффектом близости

Устройство относится к сверхпроводящим цепям с эффектом близости, позволяющим управлять спектром связанных Андреевских состояний. Предлагается сверхпроводящая цепь с эффектом близости, включающая монокристаллическую пластину силицида кобальта CoSi, ориентированную в кристаллографической...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002753673
Дата охранного документа: 19.08.2021
15.05.2023
№223.018.5c68

Опора тигля для выращивания кристаллов

Изобретение относится к оборудованию для выращивания кристаллов прямоугольной формы из расплава. Опора тигля выполнена в виде прямоугольного в поперечном сечении корпуса 1 с посадкой для установки тигля на опору 6 и посадкой для установки опоры на шток 5, и имеющего сквозные пазы 4,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002759623
Дата охранного документа: 16.11.2021
16.05.2023
№223.018.5ecf

Электродуговой способ получения слитков timnal

Изобретение относится к области металлургии, в частности к получению сплава Гейслера в виде слитков, пригодных для изучения свойств спин-поляризованного бесщелевого полупроводника TiMnAl. Способ получения слитков сплава TiMnAl из смеси алюминия, марганца и титана включает подготовку смеси...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002754540
Дата охранного документа: 03.09.2021
16.05.2023
№223.018.6357

Электродуговой способ получения прецизионного сплава timnal

Изобретение относится к области металлургии прецизионных сплавов и может быть использовано для получения сплава Гейслера. Осуществляют сплавление смеси порошков алюминия, марганца и титана в гарнисаже плазмой дугового разряда напряжением от 65 до 70 В и током от 8 до 10 А в атмосфере гелия...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002776576
Дата охранного документа: 22.07.2022
+ добавить свой РИД