×

Автор РИД: Мальцев Петр Павлович

Показаны записи 1-7 из 7.
26.08.2017
№217.015.dce5

Полупроводниковая структура для фотопроводящих антенн

Изобретение может быть использовано в приемных антеннах для терагерцевого диапазона частот (от 300 ГГц до 4 ТГц). Cтруктура представляет собой полупроводниковую эпитаксиальную многослойную структуру, выращенную на подложке GaAs с кристаллографической ориентацией (111)А, состоящую из...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002624612
Дата охранного документа: 04.07.2017
25.08.2017
№217.015.9a89

Материал для фотопроводящих антенн

Изобретение может быть использовано для создания активного слоя в фотопроводящих антеннах-детекторах и генераторах электромагнитного излучения терагерцевого диапазона. Материал для фотопроводящих антенн согласно изобретению представляет собой пленку GaAs, эпитаксиально выращенную на подложке...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002610222
Дата охранного документа: 08.02.2017
10.07.2015
№216.013.5e8a

Устройство свч плазменной обработки материалов

Изобретение относится к устройствам СВЧ плазменной обработки материалов и может быть использовано при создании твердотельных приборов микро- и наноэлектроники, мощных дискретных твердотельных электронных приборов, в производстве подложек для электронных приборов, работающих в экстремальных...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002555743
Дата охранного документа: 10.07.2015
27.01.2015
№216.013.20df

Устройство свч плазменной обработки пластин

Изобретение относится к СВЧ плазменным устройствам для проведения процессов осаждения и травления слоев - металлов, полупроводников, диэлектриков и может быть использовано в технологических процессах создания полупроводниковых приборов с высокой степенью интеграции, работающих в экстремальных...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002539863
Дата охранного документа: 27.01.2015
27.01.2015
№216.013.20e8

Устройство свч плазменной обработки

Изобретение относится к СВЧ плазменным установкам для проведения процессов травления и осаждения слоев - металлов, полупроводников, диэлектриков при пониженном давлении и может быть использовано в технологических процессах создания полупроводниковых приборов с высокой степенью интеграции....
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002539872
Дата охранного документа: 27.01.2015
10.01.2015
№216.013.1b12

Способ свч плазменного формирования пленок кубического карбида кремния на кремнии (3с-sic)

Изобретение относится в технологии производства пленок карбида кремния на кремнии, которые могут быть использованы в качестве подложек или функциональных слоев при изготовлении приборов полупроводниковой электроники, работающих в экстремальных условиях - повышенных уровнях радиации и...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002538358
Дата охранного документа: 10.01.2015
27.12.2014
№216.013.162d

Способ прецизионной лазерно-плазмохимической резки пластин

Изобретение относится к лазерным методам резки пластин и может быть использовано в микроэлектронной промышленности для резки алмазных, карбидкремниевых, кремниевых и других подложек с изготовленными на них приборами. Технический результат - прецизионная лазерная резка без «выброса» и...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002537101
Дата охранного документа: 27.12.2014
+ добавить свой РИД