×

Правообладатель РИД: Бирюков Михаил Георгиевич

Показаны записи 1-6 из 6.
23.03.2019
№219.016.ec83

Устройство для вакуумно-плазменного осаждения материалов с ионной стимуляцией

Изобретение относится к вакуумно-плазменному осаждению покрытия. Устройство содержит технологическую камеру, в которой установлен подложкодержатель с подложкой, имеющий продольную ось О-О1, разрядную камеру с геликонным источником плазмы, закрепленным на технологической камере симметрично...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002682744
Дата охранного документа: 21.03.2019
17.02.2019
№219.016.bbe7

Устройство для травления полупроводниковых структур

Изобретение относится к оборудованию для производства интегральных схем микромеханических и оптоэлектронных устройств. Сущность изобретения заключается в том, что в устройство введено по меньшей мере одно дополнительное сопло 5 с продольной осью O3-О4, оси O3-O4 сопел 5 расположены под углами...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002680108
Дата охранного документа: 15.02.2019
15.02.2019
№219.016.bab9

Манипулятор для перемещения полупроводниковых пластин

Изобретение относится к области робототехники, в частности к манипуляторам для перемещения полупроводниковых пластин. Задача изобретения заключается в создании прецизионного манипулятора для транспортировки полупроводниковых пластин в производстве изделий электронной техники. Манипулятор...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002679863
Дата охранного документа: 13.02.2019
07.02.2019
№219.016.b756

Устройство для осаждения тонких пленок из газовой фазы

Изобретение относится к оборудованию для осаждения тонких пленок и покрытий из паров химических веществ на плоскую полупроводниковую подложку и может быть использовано в технологических процессах изготовления электронных и электромеханических приборов. Устройство для осаждения тонких пленок из...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002679031
Дата охранного документа: 05.02.2019
31.01.2019
№219.016.b560

Реактор для плазмохимического травления полупроводниковых структур

Изобретение относится к области микроэлектроники, в частности к реакторам высокоплотной и высокочастотной плазменной обработки, и может быть использовано в производстве полупроводниковых приборов и интегральных схем. Сущность изобретения заключается в том, что реактор для плазмохимического...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002678506
Дата охранного документа: 29.01.2019
21.10.2018
№218.016.947b

Реактор для плазменной обработки полупроводниковых структур

Реактор для плазменной обработки полупроводниковых структур относится к области технологических устройств для травления технологических материалов в области производства изделий электронной техники и может быть использован, например, для проведения высокоаспектных процессов травления кремния в...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002670249
Дата охранного документа: 19.10.2018
+ добавить свой РИД