Правообладатель РИД: Шахгильдян Георгий Юрьевич

Изобретение относится к области оптического материаловедения, в частности к способу записи информации на носитель из нанопористого кварцоидного стекла под действием лазерного излучения. Изобретение позволяет увеличить скорость записи информации, осуществляемой наведением...

Изобретение относится к способу модифицирования структуры стекла под действием лазерного пучка для формирования люминесцирующих микрообластей и может быть использовано для многократной перезаписи и хранения информации. В силикатном стекле, содержащем сульфид кадмия, записывают микрообласть при...

Изобретение относится к технологии производства пористых стекол. Проводят травление порошка стекла в автоклаве при давлении 100-150 кг/см в четыре стадии, а именно: вначале травление в 0,5-2 Н растворе серной кислоты в течение 30-60 мин при температуре 120-200°С, затем промывание в...

Изобретение относится к области оптического материаловедения, в частности к бесцветным оптическим стеклам, не содержащим оксидов свинца, со значением коэффициента преломления n≥l,73, числом Аббе ν≥40 и плотностью ρ≤4,2 г/см. Изобретение можно использовать для изготовления высокоразрешающих...

Изобретение относится к способу модифицирования структуры стекла под действием лазерного пучка для формирования люминесцирующих микрообластей. Фосфатное стекло, содержащее ионы серебра, локально облучают фемтосекундными лазерными импульсами с длиной волны в ближнем инфракрасном диапазоне, с...

Изобретение относится к области оптического материаловедения, в частности к фосфатным стеклам, которые могут использоваться в качестве активных сред лазеров (в том числе волоконных) и усилителей лазерных импульсов сверхкороткой длительности, генерирующих в ближней инфракрасной области спектра....

Изобретение относится к области оптического материаловедения, в частности к фосфатным стеклам. Стекло содержит следующие компоненты, мас.%: PO 58,00-70,00; KO 8,50-18,50; AlO 7,10-8,90; ВаО 9,80-11,50; BO 3,70-5,20; SiO 1,80-2,30; SnO 1,10-1,25 Au 0,005-0,02 (сверх 100%). При подготовке шихты...