×
17.10.2019
219.017.d6c7

Результат интеллектуальной деятельности: ФТОР-ПРОВОДЯЩИЙ КОМПОЗИТНЫЙ ЭЛЕКТРОЛИТ И СПОСОБ ЕГО ПОЛУЧЕНИЯ

Вид РИД

Изобретение

Аннотация: Изобретение относится к фтор-проводящим твердым электролитам (ФТЭЛ), которые используются в различных областях ионики твердого тела, электрохимии, сенсорных систем и низковольтной энергетики, а также к способу его получения. Фтор-проводящий композитный электролит получают кристаллизацией эвтектических составов в бинарных конденсированных системах MF - RF (M = щелочно-земельные элементы Са, Sr, Ва; R = редкоземельные элементы La, Се, Pr, Nd, Sm). Электролит содержит дифторид MF и трифторид RF3, которые взяты при следующем соотношении: RF 57-70 мол.% и MF 30-43 мол.% в соответствии с эвтектическими точками на фазовых диаграммах систем MF - RF, что обеспечивает их практическое использование при температурах 200-1450°С и получение стабильных величин фтор-ионной проводимости 6×10-2×10 Ом⋅см при температуре 200°С. Изобретение обеспечивает более простой способ изготовления фторидных композитов. 2 н.п. ф-лы.

Предлагаемое изобретение относится к фтор-проводящим твердым электролитам (ФТЭЛ) и способу их получения. ФТЭЛ используются в различных областях ионики твердого тела, электрохимии, сенсорных систем и низковольтной энергетики.

ФТЭЛ, входящий в состав гальванических элементов, должен иметь ионный характер проводимости (отношение ионной проводимости к электронной должно превышать 103 раз), высокую подвижность ионов фтора, термическую и химическую стабильность в диапазоне рабочих температур устройств.

Композитная (многофазная) форма фторидных материалов по причине ее технологичности, дешевизны получения и превосходных механических свойств по сравнению с монокристаллической (однофазной) формой представляет практический интерес для поиска новых ФТЭЛ, обладающих высокой фтор-ионной проводимостью, и в связи с перспективами использования таких ФТЭЛ в полностью твердотельных источниках тока и химических сенсорах [1, 2].

Одним из путей синтеза фторидных композитных материалов является кристаллизация эвтектических составов (и близких к ним) во фторидных системах и получение эвтектических композитов [3]. Во фторидных системах компонентами эвтектических композитов являются насыщенные твердые растворы со структурами типа тисонита - LaF3 и флюорита - CaF2.

В [4] была изучена тройная система LiF - SrF3 - LaF3 и получены фторидные композиты состава xLiF×ySrF2×zLaF3 (прототип), где х - мольные % компонента LiF, у - мольные % компонента SrF2 и z - мольные % компонента LaF3. Значения фтор-ионной проводимости (σ) композитов состава LiF 60-85 мол. %, SrF2 5-20 мол. % и LaF3 10-20 мол. % составляют 8×10-5-8×10-4 Ом-1 см-1 при 200°С.

Ближайшим техническим решением (прототипом) к предлагаемым фтор-проводящим твердоэлектролитным композитам на основе дифторидов Са, Sr, Ва и трифторидов La, Се, Pr, Nd, Sm являются фторидные композиты; xLiF×ySrF2×zLaF3 [4]. Эти композиты признаны одними из наиболее перспективных композитных ФТЭЛ. Однако требуется повысить их термическую стабильность, расширить диапазон рабочих температур их использования, при этом сохранив и даже улучшив их ион-проводящие свойства.

Конкретно композиты xLiF×ySrF2×zLaF3, использованные в прототипе, имеют следующие недостатки:

1) верхняя граница эксплуатационного диапазона рабочих температур композитных ФТЭЛ xLiF×ySrF2×zLaF3 ограничивается температурой их плавления, и не превышает 740°С;

2) максимальная величина σ композитов xLiF×ySrF2×zLaF3 ниже уровня проводимости 10-3 Ом-1⋅см-1 при 200°С;

3) использование трех компонентов с сильно различающимися температурами плавления LiF (845°С), Sr (1464°С) и LaF3 (1500°С).

Увеличение диапазона рабочих температур фторидных композитов и расширение их ассортимента является принципиальным для развития композитных ФТЭЛ и высокотемпературного направления химических и энергетических исследований. Улучшение термической стабильности композитов xLiF×ySrF2×zLaF3 можно достигнуть методическим приемом исключения низкоплавкого компонента LiF. Исключение компонента LiF из состава композитов xLiF×ySrF2×zLaF3 приводит к росту диапазона рабочих температур и фтор-ионной проводимости композита xSrF2×yLaF3. Расширение ассортимента композитных ФТЭЛ достигается использованием в качестве компонентов композитов xMF2×yRF3 дифторидов Са, Sr, Ва и трифторидов La, Се, Pr, Nd, Sm.

Технической задачей предлагаемого изобретения является устранение указанных недостатков, характерных композитных ФТЭЛ xLiF×ySrF2×zLaF3.

Техническим результатом настоящего изобретения является создание композитной формы ФТЭЛ на основе двух (а не трех) компонентов: одного (из трех дифторидов щелочно-земельных металлов Са, Sr, Ва) и одного (из 5 трифторидов редкоземельных металлов La, Се, Pr, Nd, Sm), что обеспечивает более простой и экономичный способ изготовления фторидных композитов, достижение стабильных значений фтор-ионной проводимости σ>1×10-3 Ом-1 см-1 при 200°С и возможность практического применения фторидных композитов при высокотемпературных исследованиях до 1450°С.

Поставленная техническая задача и результат достигаются тем, что фтор-проводящий композит xMF2×yRF3 содержит дифториды щелочно-земельных элементов Са, Sr, Ва и трифториды редкоземельных элементов La, Се, Pr, Nd, Sm которые взяты при следующем соотношении: MF2 30-43 мол. %, RF3 57-70 мол. % и которые отвечают составу эвтектик в системах MF2 - RF3. Количественный состав и температуры эвтектических точек в бинарных системах MF2 - RF3 (М=Са, Sr, Ва и R=La, Се, Pr, Nd, Sm) [3] приведены в таблице 1.

Это обеспечивает:

1) получение эвтектического композитного материала xMF2×yRF3 с однородным распределением по длине компонентов (насыщенных твердых растворов R1-yMyF3-y со структурой типа тисонита - LaF3 и M1-xRxF2+x со структурой флюорита - CaF2) и отсутствием анизотропного эффекта;

2) улучшенные механические характеристики композитных ФТЭЛ xMF2×yRF3 по сравнению с ФТЭЛ на основе монокристаллов R1-yMyF3-y и M1-xRxF2+x;

3) высокую проводимость композитных ФТЭЛ xMF2×yRF3 при полном отсутствии пористости;

4) достижение величины фтор-ионной проводимости σ>1×10-3 Ом-1 см-1 при температуре 200°С;

5) увеличение в ~2 раза верхней границы диапазона рабочих температур (до 1450°С) функционирования твердотельных электрохимических устройств;

6) увеличение в ~3 раза значения фтор-ионной проводимости композита 30SrF2×70LaF3 по сравнению с известными композитами xLiF×ySrF2×zLaF3.

Известен способ получения эвтектического фторидного композита на основе тройной системы LiF - SrF2 - LaF3 содержащий операции измельчения, плавления и кристаллизации полученного расплава с использованием фторирующей атмосферы, созданной продуктами разложения политетрафторэтилена [4].

Недостатками этого способа являются: использование трех компонентов с сильно различающимися температурами плавления LiF (845°С), Sr (1464°С) и LaF3 (1500°С), приводящим к сильному перегреву компонента LiF, узкая область варьирования состава композитов в системе LiF - SrF2 - LaF3 и загрязнение расплава продуктами реакции разложения политетрафторэтилена.

Технической задачей предлагаемого способа является преодоление недостатков прототипа путем исключения легкоплавкого компонента LiF, путем расширения качественного состава фторидного композитного ФТЭЛ xMF2×yRF3 использованием систем MF2 - RF3 (М=Са, Sr, Ва и R=La, Се, Pr, Nd, Sm) и путем исключения термического разложения политетрафторэтилена в процессе производства ФТЭЛ xMF2×yRF3.

Техническим результатом является получение двухкомпонентного композитного ФТЭЛ xMF2×yRF3, качественный и процентный состав которого может варьироваться в широком диапазоне, обеспечивая достижение величины фтор-ионной проводимости σ>1×10-3 Ом-1 см-1 при 200°С.

Поставленная техническая задача и результат достигаются тем, что

плавят по отдельности дифториды CaF2, SrF2, BaF2 и трифториды LaF3, CeF3, PrF3, NdF3, SmF3;

фторируют полученные расплавы с целью удаления кислорода путем создания фторирующей атмосферы в результате добавления к инертному газу (гелий) газообразного CF4, взятом в количестве 5-10 объемных %;

охлаждают полученные растворы до комнатной температуры с получением твердых фторированных реагентов;

полученные фторированные парные сочетания реагентов (дифторид MF2 с М=Са, Sr, Ва и трифторид RF3 с R=La, Се, Pr, Nd, Sm), которые взяты в соотношении MF2 30-43 мол. %, RF3 57-70 мол. % в соответствии с эвтектическими составами на фазовых диаграммах систем MF2 (М=Са, Sr, Ва) - RF3 (R=La, Се, Pr, Nd, Sm), смешивают и перемалывают совместно для получения шихты xMF2+yRF3;

шихту xMF2+yRF3 расплавляют при 1550-1600°С, после чего гомогенизируют в течение 2-3 часов до образования однородного расплава в фторсодержащей атмосфере, которая создается добавлением газообразного CF4 в инертный газ (гелий);

полученный расплав кристаллизуют, получая, таким образом, эвтектические фторидные композиты xMF2×yRF3.

Последовательность процессов, реализуемых в способе получения предлагаемого композитного ФТЭЛ xMF2×yRF3, показана на Фиг. и содержит следующие технологические операции:

1. Исходные восемь реагентов CaF2 (tпл=1418°С), SrF2 (tпл=1464°С), BaF2 (tпл=1354°С), LaF3 (tпл=1500°С), CeF3 (tпл=1443°С), PrF3 (tпл=1404°C), NdF3 (tпл=1372°C) и SmF3 (tпл=1304°C) по отдельности предварительно плавят.

2. Для удаления примеси кислорода производят фторирование каждого расплава CaF2, SrF2, BaF2, LaF3, CeF3, PrF3, NdF3 и SmF3 с использованием фторирующей атмосферы, создаваемой добавлением в инертный газ (гелий) газообразного CF4, взятом в количестве 5-10 объемных %, на рабочую вакуумную камеру объемом 70 дм3.

3. Расплавы CaF2, SrF2, BaF2, LaF3, CeF3, PrF3, NdF3 и SmF3 охлаждают до комнатной температуры, а затем фторированные реагенты MF2 (М=Са, Sr, Ва) и RF3 (R=La, Се, Pr, Nd, Sm) смешивают в пропорции соответствующей эвтектическим составам (х, у) в системах MF2 - RF3 и перемалывают совместно для получения шихты xMF2+yRF3.

4. После чего шихту xMF2+yRF3 расплавляют при 1550-1600°С, гомогенизируют в течение 2-3 часов до образования однородного состава, при этом фтор-содержащая атмосфера в рабочей зоне печи создается газообразным CF4.

5. Расплав кристаллизуют с использованием фтор-содержащей атмосферы, получая, таким образом, эвтектические фторидные композиты, из которых затем изготавливают твердоэлектролитные элементы.

Реализация указанной последовательности процессов получения композитных ФТЭЛ иллюстрируется нижеприведенными примерами.

Пример 1. Координаты эвтектики в системе SrF2 - LaF3 соответствуют составу 30SrF2×70LaF3 (цифры обозначают мол. % компонентов) и температуре 1450°С. В качестве химических реагентов использовали коммерческие порошки LaF3, SrF2 квалификации "ос. ч." (чистота 99,99 массовых %).

Фторидный композит состава 30SrF2×70LaF3 получали сплавлением исходных компонентов во фторирующей атмосфере и последующей кристаллизацией расплава указанного состава. Фторирующую атмосферу создавали добавлением в инертный газ (гелий) газообразного CF4, взятом в количестве 5-10 объемных %, с целью предотвращения пирогидролиза образца при нагревании.

Для кондуктометрических измерений из композитной заготовки изготавливали образец в форме параллелепипеда 2×4×7 мм. Ионная проводимость измерялась методом импедансной спектроскопии на приборе Tesla ВМ-507 в интервале частот 5-5×105 Гц при температурах 20-420°С в вакууме ~1 Па с использованием электродов из графитовой пасты DAG-580. Кондуктометрические измерения проводили в трех взаимно перпендикулярных направлениях: 1 - вдоль направления роста композитной заготовки, 2 и 3 - произвольные взаимно перпендикулярные направления поперек направления роста. Температурная зависимость ионной проводимости в направлении 1, полученная в эксперименте, описывается уравнением: σ=(1,3×106/T)ехр[-0,57/kT] при температурах 20-292°С, что соответствует величине σ=2,2×10-3 Ом-1 см-1 при температуре 200°С. Температурная зависимость ионной проводимости в направлении 2, описывается уравнением: σ=(1,2×106/T)ехр[-0,60/kT] при температурах 65-420°С, что соответствует величине σ=1,1×10-3 Ом-1 см-1 при температуре 200°С. Температурная зависимость ионной проводимости в направлении 3, описывается уравнением: σ=(2,5×106/T)ехр[-0,58/kT] при 69-296°С, что соответствует величине σ=3,3×10-3 Ом-1 см-1 при температуре 200°С. Среднее (по направлениям) значение ионной проводимости композита при температуре 200°С составляет σ=2,2×10-3 Ом-1 см-1.

Пример 2. Координаты эвтектики в системе SrF2 - SmF3 соответствуют составу 31SrF2×69SmF3 и температуре 1312°С. Композит 31SrF2×69SmF3 приготавливается и исследуется аналогично описанному в примере 1. Образец имел толщину 2,6 мм и диаметр 9 мм. Кондуктометрические измерения проводили вдоль направления роста композитной заготовки. В качестве электродов использовали графитовую пасту DAG-580. Ионную проводимость измеряли при 17-268°С. Температурная зависимость ионной проводимости, полученная в эксперименте, описывается уравнением: σ=(2,7×106/T)ехр[-0,65/kT], что соответствует величине σ=6,8×10-4 Ом-1 см-1 при температуре 200°С.

Пример 3. Координаты эвтектики в системе CaF2 - PrF3 соответствуют составу 41CaF2×59PrF3 и температуре 1300°С. Композит 41CaF2×59PrF3 приготавливается и исследуется аналогично описанному в примере 1. Образец имел толщину 4,1 мм и диаметр 6 мм. Кондуктометрические измерения проводили вдоль направления роста композитной заготовки. В качестве электродов использовали серебряную пасту Leitsilber. Ионную проводимость измеряли при 24-264°С. Температурная зависимость ионной проводимости, полученная в эксперименте, описывается уравнением: σ=(9,95×104/T)ехр[-0,52/kT] при температурах 24-264°С, что соответствует величине σ=6,1×10-4 Ом-1 см-1 при температуре 200°С.

Пример 4. Координаты эвтектики в системе BaF2 - LaF3 соответствуют составу 32CaF2×68LaF3 и температуре 1284°С. Композит 32CaF2×68LaF3 приготавливается и исследуется аналогично описанному в примере 1. Образец имел толщину 4,65 мм и диаметр 6 мм. Кондуктометрические измерения проводили вдоль направления роста композитной заготовки. В качестве электродов использовали серебряную пасту Leitsilber. Ионную проводимость измеряли при 24-262°С. Температурная зависимость ионной проводимости, полученная в эксперименте, описывается уравнением: σ=(6,95×104/T)ехр[-0,49/kT] при температурах 24-262°С, что соответствует величине σ=8,9×10-4 Ом-1 см-1 при температуре 200°С.

Таким образом, предлагаемые фтор-проводящие фторидные композиты xMF2×yRF3 имеют промышленную применимость, что подтверждается вышеприведенными примерами. Изобретение относится к материалам с высокой ионной проводимостью, расширяет группу перспективных ФТЭЛ в твердотельных электрохимических устройствах для их применения в источниках тока и химических сенсорах.

Источники информации

1. Иванов-Шиц А.К., Мурин И.В. Ионика твердого тела. Том 2. СПб.: Изд-во С.-Петерб. ун-та, 2010. 1000 с.

2. Сорокин Н.И. Особенности суперионного переноса во фторидных композитах и стеклах. // Электрохимия. 2004. Т. 40. №5. С. 644-653.

3. Sobolev В.Р. The Rare Earth Trifluorides: The High Temperature Chemistry of the Rare Earth Trifluorides. Moscow: Institute of Crystallography and Barcelona: Institut d'Estudis Catalans, 2000. 520 p.

4. Патент RU №2022415 «Твердый фтор-проводящий электролит», МПК Н01М 6/18, опубл. 30.10.1994. (прототип).

Источник поступления информации: Роспатент

Показаны записи 11-20 из 39.
25.08.2018
№218.016.7f79

Перестраиваемое волоконно-оптическое фокусирующее устройство

Изобретение относится к устройствам для фокусировки лазерного излучения, предназначено для интегрирования в волоконно-оптические системы, где требуется оперативная подстройка фокусирующих свойств волоконных световодов. Устройство содержит последовательно расположенные и оптически связанные...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002664787
Дата охранного документа: 22.08.2018
30.08.2018
№218.016.8184

Фтор-проводящий стеклообразный твердый электролит

Изобретение относится к области фтор-проводящих твердых электролитов, обладающих высокой анионной электропроводностью по ионам фтора. Фтор-проводящий твердый электролит на основе фторидного стекла PbF+InF+BaF имеет состав, мол. %: PbF 7-54, InF 11-49, BaF 7-32, AlF 2-20 и LiF 10-20. Электролиты...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002665314
Дата охранного документа: 29.08.2018
07.09.2018
№218.016.8472

Способ создания механолюминесцентных сенсоров для визуализации и регистрации механических воздействий

Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и может быть использовано для создания элементов визуализации, записи и исследования механических воздействий сложной пространственной формы в зависимости от времени. Заявленный способ создания механолюминесцирующих сенсорных элементов...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002666162
Дата охранного документа: 06.09.2018
15.11.2018
№218.016.9da9

Способ получения упорядоченных пленок лизоцима на твердых подложках в ленгмюровской ванне

Изобретение относится к биотехнологии, в частности к способу получения упорядоченных пленок лизоцима на твердых подложках. Готовят маточный раствор лизоцима в буфере с концентрацией, соответствующей началу кристаллизации лизоцима. Фильтруют раствор лизоцима и центрифугируют. Параллельно готовят...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002672410
Дата охранного документа: 14.11.2018
05.12.2018
№218.016.a330

Магниторезистивный сплав на основе висмута

Изобретение относится к сплавам на основе висмута, которые могут быть использованы для изготовления датчиков контрольно-измерительной аппаратуры, например датчиков Холла. Сплав на основе висмута содержит, мас. %: сурьма 5,1437216-5,7737629, теллур 0,0000006-0,0003188, висмут – остальное. Сплав...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002673870
Дата охранного документа: 30.11.2018
13.12.2018
№218.016.a61e

Установка для топо-томографических исследований образцов

Использование: для исследования совершенства монокристаллических слоев. Сущность изобретения заключается в том, что установка для исследования образцов содержит источник рентгеновского излучения и установленные по ходу рентгеновского луча блок с кристаллом-монохроматором, гониометр с...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002674584
Дата охранного документа: 11.12.2018
08.02.2019
№219.016.b846

Неконкурентный ингибитор тимидинфосфорилаз

Изобретение относится к области биохимии. Предложен неконкурентный ингибитор тимидинфосфорилаз пептидной природы H-Trp-Met(О)-Phe-NH. Изобретение обеспечивает получение неконкурентного ингибитора тимидинфосфорилаз пептидной природы, который потенциально можно использовать для лечения...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002679148
Дата охранного документа: 06.02.2019
29.03.2019
№219.016.ee52

Способ лазероиндуцированного возбуждения сверхинтенсивного пузырькового кипения

Изобретение относится к технологиям передачи тепла, а именно к передаче тепла от сосредоточенного источника в жидкость, и может быть использовано, например, в биотехнологии и медицине, в частности для эффективного нагрева тканей с целью деструкции патологических образований. Заявленный способ...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002682848
Дата охранного документа: 21.03.2019
19.04.2019
№219.017.294e

Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии

Изобретение относится к жидкой фотополимеризующейся композиции (ФПК) для лазерной стереолитографии. Композиция содержит 96-98 вес.% смеси ди(мет)-акриловых олигомеров и (мет)акрилового мономера и 2-4 вес.% фотоинициатора 2,2′-диметокси-2-фенилацетофенона. Указанная смесь содержит 16-33 вес.%...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002685211
Дата охранного документа: 16.04.2019
01.05.2019
№219.017.47c3

Магниторезистивный сплав на основе висмута

Изобретение относится к металлургии, а именно к сплавам на основе висмута, предназначенным для изготовления датчиков контрольно-измерительной аппаратуры. Магниторезистивный сплав на основе висмута содержит, мас.%: сурьма 5,1437216 - 5,7737629, олово 0,000006 - 0,0001, висмут – остальное. Сплав...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002686493
Дата охранного документа: 29.04.2019
Показаны записи 1-7 из 7.
27.07.2015
№216.013.658c

Фтор-проводящий твердый электролит rmf с тисонитовой структурой и способ его получения

Изобретение относится к фтор-проводящему твердому электролиту RMF с тисонитовой структурой, содержащему фториды редкоземельного и щелочно-земельного металлов. Электролит характеризуется тем, что он имеет монокристаллическую форму и содержит трифторид RF(R=La, Се, Pr, Nd) и дифторид MF(М=Са, Sr,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002557549
Дата охранного документа: 27.07.2015
26.08.2017
№217.015.e8c1

Способ получения кристаллов дифторида европия (ii) euf

Изобретение относится к технологии получения новых многофункциональных фторидных материалов для фотоники и ионики твердого тела, оптического материаловедения, магнитооптики, систем оптической записи информации. Способ получения кристаллов дифторида европия (II) EuF осуществляют в две стадии,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002627394
Дата охранного документа: 08.08.2017
29.12.2017
№217.015.f956

Конгруэнтно плавящийся фтор-проводящий твердый электролит mrf с флюоритовой структурой для высокотемпературных термодинамических исследований

Изобретение относится к области фтор-проводящих твердых электролитов (ФТЭЛ). Предложены фтор-проводящие твердые электролиты MRV с флюоритовой структурой в монокристаллической форме для высокотемпературных термодинамических исследований химических веществ, содержащие фториды щелочноземельного...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002639882
Дата охранного документа: 25.12.2017
01.07.2018
№218.016.692e

Способ выращивания кристаллов многокомпонентных фторидов со структурой флюорита в системах mf-cef

Изобретение относится к технологии выращивания кристаллов многокомпонентных фторидов со структурой флюорита в системах MF-CeF, которые широко используются в оптике, фотонике, физике высоких энергий. Способ включает кристаллизацию из расплава шихты, состоящей из смеси фторидов одного или...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002659274
Дата охранного документа: 29.06.2018
30.08.2018
№218.016.8184

Фтор-проводящий стеклообразный твердый электролит

Изобретение относится к области фтор-проводящих твердых электролитов, обладающих высокой анионной электропроводностью по ионам фтора. Фтор-проводящий твердый электролит на основе фторидного стекла PbF+InF+BaF имеет состав, мол. %: PbF 7-54, InF 11-49, BaF 7-32, AlF 2-20 и LiF 10-20. Электролиты...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002665314
Дата охранного документа: 29.08.2018
02.10.2019
№219.017.cdfd

Способ создания доступа к хирургическому объекту при выполнении плазменной трансуретральной энуклеации доброкачественной гиперплазии простаты

Изобретение относится к медицине, а именно к урологии. На начальном этапе энуклеации простаты выполняют разрез слизистой и ткани предстательной железы до капсулы простаты от шейки мочевого пузыря на протяжении 1 см по передней поверхности простатического отдела уретры в дистальном направлении....
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002700488
Дата охранного документа: 17.09.2019
04.07.2020
№220.018.2eae

Способ профилактики рубцовой деформации шейки мочевого пузыря после эндоскопического удаления гиперплазии простаты

Изобретение относится к медицине, а именно к урологии. Осуществляют неоднократное введение в просвет шейки мочевого пузыря катетера баллонного типа. Выполняют раздувание баллона, вызывающего мягкое щадящее механическое расширение рубцового кольца шейки мочевого пузыря с последующим...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002725549
Дата охранного документа: 02.07.2020
+ добавить свой РИД