Аннотация:
Способ нанесения металлических покрытий в вакууме, включающий очистку подложки путем предварительного нанесения технологического слоя и последующего его удаления, отличающийся тем, что, с целью повышения качества покрытий за счет повышения адгезии, технологический слой наносят магнетронным распылением геттерного материала толщиной 2-3 мкм при давлении (2-7)·10 Па, а удаление слоя осуществляют путем нагрева до 200-800°С.