×
27.12.2014
216.013.1621

Результат интеллектуальной деятельности: СПОСОБ ГИБРИДИЗАЦИИ КРИСТАЛЛОВ БИС СЧИТЫВАНИЯ И МАТРИЦЫ ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ ФОТОПРИЕМНЫХ УСТРОЙСТВ

Вид РИД

Изобретение

№ охранного документа
0002537089
Дата охранного документа
27.12.2014
Аннотация: Изобретение относится к технологии сборки гибридных матричных фотоприемных устройств методом перевернутого монтажа. Согласно изобретению способ гибридизации кристаллов БИС считывания и матрицы фоточувствительных элементов фотоприемных устройств включает сдавливание индиевых микроконтактов, расположенных на стыкуемых кристаллах, при этом микроконтакты выполняют в форме вытянутых прямоугольников с размерами сторон менее зазоров между микроконтактами, как по вертикали, так и по горизонтали, причем микроконтакты на кристаллах БИС и матрицы фоточувствительных элементов расположены под углом по отношению к друг другу. Изобретение обеспечивает возможность повышения надежности стыковки кристаллов БИС считывания и матрицы фоточувствительных элементов (МФЧЭ), исключая возможность закорачивания соседних микроконтактов. 5 ил.
Основные результаты: Способ гибридизации кристаллов БИС считывания и матрицы фоточувствительных элементов фотоприемных устройств посредством сдавливания индиевых микроконтактов, расположенных на стыкуемых кристаллах, отличающийся тем, что с целью повышения надежности стыковки микроконтакты выполняют в форме вытянутых прямоугольников с размерами сторон менее зазоров между микроконтактами, как по вертикали, так и по горизонтали, причем микроконтакты на кристаллах БИС и матрицы фоточувствительных элементов расположены под углом по отношению к друг другу.

Изобретение относится к технологии сборки гибридных матричных фотоприемных устройств (МФПУ) методом перевернутого монтажа.

В методе перевернутого монтажа для гибридизации кристаллов БИС считывания и матрицы фоточувствительных элементов (МФЧЭ) используются индиевые микроконтакты, создаваемые на обоих кристаллах, с последующей стыковкой. Стыковка индиевых микроконтактов происходит посредством их сдавливания. При этом возникает деформация обоих микроконтактов с взаимной диффузией индия и формируется надежный механический и электрический контакт.

В известных способах гибридизации ["Method for electrically interconnecting large contact arrays using eutectic alloy bumping", US 6,550,665 B1, apr.22, 2003] индиевые микроконтакты выполняются в виде квадратных или круглых контактов, с практически одинаковым геометрическим размером для обоих кристаллов (БИС считывания и МФЧЭ).

Одним из недостатков указанного метода гибридизации является вероятность закорачивания микроконтактов одного кристалла микроконтактами другого кристалла при небольшой погрешности их совмещения (фиг.1, здесь и далее: поз.1 - микроконтакт БИС считывания, поз.2 - микроконтакт МФЧЭ). Закорачивание индиевых микроконтактов происходит уже при погрешности совмещения более величины зазора между микроконтактами на кристалле, что обычно составляет величину 3-10 мкм при шаге микроконтактов 10-35 мкм.

Задача изобретения - повысить надежность стыковки, исключив возможность закорачивания соседних микроконтактов.

Технический результат достигается тем, что индиевые микроконтакты на обоих кристаллах имеют конфигурацию вытянутых прямоугольников, причем размер каждого микроконтакта одного кристалла меньше зазора между микроконтактами другого кристалла, как по вертикали, так и по горизонтали. При этом микроконтакты на кристаллах БИС и МФЧЭ расположены под углом, например 90°, по отношению к друг другу (фиг.2, 3).

Тем самым достигается следующий результат.

1. Исключается возможность закорачивания соседних микроконтактов при совмещении, т.к. размеры и конфигурация микроконтактов подобраны так, что даже в самом худшем случае совмещения микроконтакты не смогут закоротиться (фиг.4, 5).

2. Исключается сдвиг микроконтактов во время стыковки (эффект «соскальзывания») за счет образования «замка» по индию (фиг.3, поз.3).

3. Возможность проведения повторной стыковки при неудачном попадании микроконтактов одного кристалла в зазоры между микроконтактами другого кристалла, микроконтакты при этом практически не деформированы.

Способ гибридизации кристаллов БИС считывания и матрицы фоточувствительных элементов фотоприемных устройств посредством сдавливания индиевых микроконтактов, расположенных на стыкуемых кристаллах, отличающийся тем, что с целью повышения надежности стыковки микроконтакты выполняют в форме вытянутых прямоугольников с размерами сторон менее зазоров между микроконтактами, как по вертикали, так и по горизонтали, причем микроконтакты на кристаллах БИС и матрицы фоточувствительных элементов расположены под углом по отношению к друг другу.
СПОСОБ ГИБРИДИЗАЦИИ КРИСТАЛЛОВ БИС СЧИТЫВАНИЯ И МАТРИЦЫ ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ ФОТОПРИЕМНЫХ УСТРОЙСТВ
СПОСОБ ГИБРИДИЗАЦИИ КРИСТАЛЛОВ БИС СЧИТЫВАНИЯ И МАТРИЦЫ ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ ФОТОПРИЕМНЫХ УСТРОЙСТВ
СПОСОБ ГИБРИДИЗАЦИИ КРИСТАЛЛОВ БИС СЧИТЫВАНИЯ И МАТРИЦЫ ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ ФОТОПРИЕМНЫХ УСТРОЙСТВ
СПОСОБ ГИБРИДИЗАЦИИ КРИСТАЛЛОВ БИС СЧИТЫВАНИЯ И МАТРИЦЫ ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ ФОТОПРИЕМНЫХ УСТРОЙСТВ
СПОСОБ ГИБРИДИЗАЦИИ КРИСТАЛЛОВ БИС СЧИТЫВАНИЯ И МАТРИЦЫ ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ ФОТОПРИЕМНЫХ УСТРОЙСТВ
Источник поступления информации: Роспатент

Показаны записи 11-20 из 27.
10.11.2014
№216.013.04ac

Способ изготовления кремниевого p-i-n фотодиода

Изобретение относится к технологии изготовления кремниевых p-i-n-фотодиодов (ФД), чувствительных к излучению с длинами волн 0,9-1,06 мкм. Способ изготовления кремниевого фотодиода согласно изобретению включает операции термического окисления, диффузии фосфора для формирования областей n-типа...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002532594
Дата охранного документа: 10.11.2014
20.12.2014
№216.013.124f

Способ изготовления фотоприемников на основе эпитаксиальных p-i-n структур gan/ algan

Изобретение относится к технологии фотодиодов на основе эпитаксиальных p-i-n структур GaN/AlGaN, преобразующих излучение ультрафиолетовой области спектра. Согласно изобретению предложен способ изготовления многоэлементного фотоприемника на основе эпитаксиальных p-i-n структур GaN/AlGaN....
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002536110
Дата охранного документа: 20.12.2014
27.12.2014
№216.013.161d

Способ снижения омического сопротивления индиевых микроконтактов с помощью термического отжига

Изобретение относится к технологии изготовления индиевых микроконтактов в матричных фотоприемниках ИК-излучения и БИС считывания фотосигнала. Изобретение обеспечивает изготовление индиевых микроконтактов с низким сопротивлением и высокой однородностью их значений в пределах больших массивов....
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002537085
Дата охранного документа: 27.12.2014
27.12.2014
№216.013.161f

Способ изготовления кремниевого p-i-n фотодиода

Изобретение относится к технологии изготовления кремниевых p-i-n фотодиодов (ФД), чувствительных к излучению с длинами волн 0,9-1,06 мкм. Согласно изобретению в способе изготовления кремниевых p-i-n фотодиодов для снижения концентрации электрически активных центров, создаваемых загрязняющими...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002537087
Дата охранного документа: 27.12.2014
10.02.2015
№216.013.26eb

Способ изготовления кремниевого p-i-n фотодиода

Изобретение относится к технологии изготовления кремниевых p-i-n фотодиодов (ФД), чувствительных к излучению с длинами волн 0,9-1,06 мкм. Они предназначены для использования в различной электронно-оптической аппаратуре, в которой требуется регистрация коротких импульсов лазерного излучения...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002541416
Дата охранного документа: 10.02.2015
27.03.2015
№216.013.35f3

Способ химико-механического полирования пластин арсенида галлия

Изобретение относится к области обработки полупроводниковых материалов и может быть использовано в технологии изготовления приборов, в том числе матричных большого формата на основе арсенида галлия. Способ включает обработку пластин вращающимся полировальником и полирующим составом,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002545295
Дата охранного документа: 27.03.2015
20.08.2015
№216.013.72d5

Способ коррекции топологии бис

Изобретение относится к вопросам проектирования схемотехники и топологии интегральных схем и может быть использовано для коррекции топологии БИС, гибридных тонко- и толстопленочных микросхем, а также совмещенных ГИС. Кроме того, предложенный способ может быть использован также и для...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002560967
Дата охранного документа: 20.08.2015
10.10.2015
№216.013.81c0

Многокристальное многоцветное фотоприемное устройство с расширенной спектральной характеристикой квантовой эффективности

Изобретение относится к фоточувствительным приборам, предназначенным для обнаружения и регистрации инфракрасного (ИК) излучения в нескольких спектральных поддиапазонах инфракрасной области спектра от 3,5 до 12,7 мкм. Многокристальное многоцветное фотоприемное устройство (ФПУ) с расширенной...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002564813
Дата охранного документа: 10.10.2015
27.10.2015
№216.013.88e7

Способ изготовления фотодиода

Изобретение относится к технологии изготовления матричных фотоприемников ИК-излучения на основе антимонида индия, теллурида кадмия-ртути. Способ изготовления матричного фотоприемника согласно изобретению включает формирование на полупроводниковой пластине р+-n- или n+-р-перехода по всей...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002566650
Дата охранного документа: 27.10.2015
20.12.2015
№216.013.9b83

Способ изготовления индиевых микроконтактов

Изобретение относится к технологии получения индиевых микроконтактов для соединения больших интегральных схем (БИС) и фотодиодных матриц, выполненных на основе полупроводниковых материалов. Способ изготовления индиевых микроконтактов согласно изобретению включает напыление слоя индия на...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002571436
Дата охранного документа: 20.12.2015
Показаны записи 11-20 из 44.
10.11.2014
№216.013.04ac

Способ изготовления кремниевого p-i-n фотодиода

Изобретение относится к технологии изготовления кремниевых p-i-n-фотодиодов (ФД), чувствительных к излучению с длинами волн 0,9-1,06 мкм. Способ изготовления кремниевого фотодиода согласно изобретению включает операции термического окисления, диффузии фосфора для формирования областей n-типа...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002532594
Дата охранного документа: 10.11.2014
20.12.2014
№216.013.124f

Способ изготовления фотоприемников на основе эпитаксиальных p-i-n структур gan/ algan

Изобретение относится к технологии фотодиодов на основе эпитаксиальных p-i-n структур GaN/AlGaN, преобразующих излучение ультрафиолетовой области спектра. Согласно изобретению предложен способ изготовления многоэлементного фотоприемника на основе эпитаксиальных p-i-n структур GaN/AlGaN....
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002536110
Дата охранного документа: 20.12.2014
27.12.2014
№216.013.161d

Способ снижения омического сопротивления индиевых микроконтактов с помощью термического отжига

Изобретение относится к технологии изготовления индиевых микроконтактов в матричных фотоприемниках ИК-излучения и БИС считывания фотосигнала. Изобретение обеспечивает изготовление индиевых микроконтактов с низким сопротивлением и высокой однородностью их значений в пределах больших массивов....
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002537085
Дата охранного документа: 27.12.2014
27.12.2014
№216.013.161f

Способ изготовления кремниевого p-i-n фотодиода

Изобретение относится к технологии изготовления кремниевых p-i-n фотодиодов (ФД), чувствительных к излучению с длинами волн 0,9-1,06 мкм. Согласно изобретению в способе изготовления кремниевых p-i-n фотодиодов для снижения концентрации электрически активных центров, создаваемых загрязняющими...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002537087
Дата охранного документа: 27.12.2014
10.02.2015
№216.013.26eb

Способ изготовления кремниевого p-i-n фотодиода

Изобретение относится к технологии изготовления кремниевых p-i-n фотодиодов (ФД), чувствительных к излучению с длинами волн 0,9-1,06 мкм. Они предназначены для использования в различной электронно-оптической аппаратуре, в которой требуется регистрация коротких импульсов лазерного излучения...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002541416
Дата охранного документа: 10.02.2015
27.03.2015
№216.013.35f3

Способ химико-механического полирования пластин арсенида галлия

Изобретение относится к области обработки полупроводниковых материалов и может быть использовано в технологии изготовления приборов, в том числе матричных большого формата на основе арсенида галлия. Способ включает обработку пластин вращающимся полировальником и полирующим составом,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002545295
Дата охранного документа: 27.03.2015
20.08.2015
№216.013.72d5

Способ коррекции топологии бис

Изобретение относится к вопросам проектирования схемотехники и топологии интегральных схем и может быть использовано для коррекции топологии БИС, гибридных тонко- и толстопленочных микросхем, а также совмещенных ГИС. Кроме того, предложенный способ может быть использован также и для...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002560967
Дата охранного документа: 20.08.2015
10.10.2015
№216.013.81c0

Многокристальное многоцветное фотоприемное устройство с расширенной спектральной характеристикой квантовой эффективности

Изобретение относится к фоточувствительным приборам, предназначенным для обнаружения и регистрации инфракрасного (ИК) излучения в нескольких спектральных поддиапазонах инфракрасной области спектра от 3,5 до 12,7 мкм. Многокристальное многоцветное фотоприемное устройство (ФПУ) с расширенной...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002564813
Дата охранного документа: 10.10.2015
27.10.2015
№216.013.88e7

Способ изготовления фотодиода

Изобретение относится к технологии изготовления матричных фотоприемников ИК-излучения на основе антимонида индия, теллурида кадмия-ртути. Способ изготовления матричного фотоприемника согласно изобретению включает формирование на полупроводниковой пластине р+-n- или n+-р-перехода по всей...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002566650
Дата охранного документа: 27.10.2015
20.12.2015
№216.013.9b83

Способ изготовления индиевых микроконтактов

Изобретение относится к технологии получения индиевых микроконтактов для соединения больших интегральных схем (БИС) и фотодиодных матриц, выполненных на основе полупроводниковых материалов. Способ изготовления индиевых микроконтактов согласно изобретению включает напыление слоя индия на...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002571436
Дата охранного документа: 20.12.2015
+ добавить свой РИД