×
20.08.2014
216.012.ed09

СПОСОБ СБОРКИ ИК-ФОТОПРИЕМНИКА

Вид РИД

Изобретение

Юридическая информация Свернуть Развернуть
№ охранного документа
0002526489
Дата охранного документа
20.08.2014
Краткое описание РИД Свернуть Развернуть
Аннотация: Изобретение относится к технологии гибридизации ИК-фотоприемника способом перевернутого монтажа (flip chip) и может быть использовано для выравнивания зазоров между кристаллами БИС и МФЧЭ, что приводит к увеличению надежности соединения и стойкости к термоциклированию соединения кристаллов, с помощью так называемых индиевых "подушек" на обоих кристаллах. Способ перевернутого монтажа дополнен новым конструктивным элементом - индиевыми микроконтактами увеличенной площади - «подушками», расположенными на периферии БИС и МФЧЭ и обеспечивающими выравнивание зазоров при гибридизации. Последовательность технологических операций при создании БИС и МФЧЭ с «подушками» остается стандартной, и лишь добавляются новые конструктивные элементы топологии кристаллов БИС и МФЧЭ. Большая площадь индиевых «подушек» предохраняет индиевые микроконтакты от передавливания и перекоса. Индиевые «подушки» МФЧЭ попадают в пазы между индиевыми «подушками» БИС, зазор становится ровным и равным высоте индиевых "подушек", что повышает качество и надежность стыковки. 6 ил.
Основные результаты: Способ сборки ИК-фотоприемника способом перевернутого монтажа, включающий формирование индиевых микроконтактов на кристаллах БИС и МФЧЭ, отличающийся тем, что на периферии кристаллов БИС и МФЧЭ изготавливают индиевые микроконтакты, площадь которых увеличена, по сравнению с индиевыми микроконтактами фоточувствительных элементов, при этом индиевые микроконтакты увеличенной площади обеспечивают ровный зазор между БИС и МФЧЭ, равный по высоте индиевым микроконтактам увеличенной площади.
Реферат Свернуть Развернуть

Изобретение относится к технологии гибридизации ИК-фотоприемника способом перевернутого монтажа (flip chip).

Для соединения способом flip chip [Edited by J.H. Lau, Flip chip technologies, McGraw-Hill, Boston, New York, San Francisco, St Lois, 1995] кристалла БИС мультиплексора (фиг.1) с кристаллом матрицы фоточувствительных элементов (МФЧЭ) (фиг.2) используются индиевые микроконтакты высотой 8-12 мкм на каждом электронном компоненте, протравленные по стандартной технологии "напыление индия+фотолитография по индию", с последующим их совмещением. Гибридизация ИК-фотоприемника осуществляется методом сварки давлением.

Указанный способ гибридизации, его мы принимаем за прототип, имеет существенный недостаток: у полученной микросборки образуется неравномерность зазоров по периметру ИК-фотоприемника (фиг.3). Это происходит из-за возможной разной площади поверхности отдельных индиевых микроконтактов и разности высот индиевых микроконтактов на кристаллах БИС и МФЧЭ, возможной неровности кристаллов МФЧЭ. Опыт показывает, что перекос величины зазоров ~5 мкм в силу разных значений коэффициента температурного расширения и термоциклирования приводит к разрыву индиевого соединения.

Задачей изобретения является выравнивание зазоров между кристаллами БИС и МФЧЭ, что приводит к увеличению надежности соединения и стойкости к термоциклированию соединения кристаллов, исключению передавливания индиевых микроконтактов на кристаллах, вследствие чего может произойти их замыкание.

Цель изобретения достигается тем, что способ сборки ИК-фотоприемника способом перевернутого монтажа, включающий формирование индиевых микроконтактов на кристаллах БИС и МФЧЭ, включает изготовление на периферии кристаллов БИС и МФЧЭ индиевых микроконтактов, площадь которых увеличена, по сравнению с индиевыми микроконтактами фоточувствительных элементов, при этом индиевые микроконтакты увеличенной площади обеспечивают ровный зазор между БИС и МФЧЭ, равный по высоте индиевым микроконтактам увеличенной площади.

Известный способ - прототип, дополнен новым конструктивным элементом - изготовлением индиевых микроконтактов увеличенной, в сравнении с индиевыми контактами фоточувствительных элементов, площади - «подушками», расположенными на периферии БИС (фиг.4) и МФЧЭ (фиг.5) и которые обеспечивают выравнивание зазоров при гибридизации (фиг.6). При этом индиевые «подушки» МФЧЭ попадают в пазы между индиевыми «подушками» БИС, зазор становится ровным и равным высоте индиевых "подушек", что повышает качество и надежность стыковки.

Технический результат достигается тем, что большая площадь индиевых «подушек» (по сравнению с индиевыми микроконтактами фоточувствительных элементов), находящихся на периферии БИС, предохраняет индиевые микроконтакты от передавливания и перекоса и не дает им, в процессе гибридизации, сдавиться до высоты, меньшей уровня индиевых «подушек». Последовательность технологических операций при создании БИС и МФЧЭ с «подушками» остается стандартной и лишь добавляется новый конструктивный элемент - изготовление индиевых «подушек».

На фиг.1-6 изображены:

1 - фрагмент БИС;

2 - индиевые микроконтакты на БИС;

3 - фрагмент МФЧЭ;

4 - индиевые микроконтакты на МФЧЭ;

5 - индиевые микроконтакты после гибридизации (без "подушек");

6 - индиевые "подушки" на БИС;

7 - индиевые "подушки" на МФЧЭ;

8 - индиевые микроконтакты после гибридизации (с "подушками");

9 - индиевые "подушки" после гибридизации БИС и МФЧЭ.

Последовательность технологических операций включает:

- формирование индиевых микроконтактов на кристалле БИС мультиплексора и изготовление микроконтактов увеличенной площади на периферии кристалла;

- формирование индиевых микроконтактов на кристалле МФЧЭ и изготовление микроконтактов увеличенной площади на периферии кристалла;

- гибридизация кристаллов БИС и МФЧЭ.

Отличие способа сборки ИК-фотоприемника способом перевернутого монтажа, включающего формирование индиевых микроконтактов на кристаллах БИС и МФЧЭ и изготовление на периферии кристаллов БИС и МФЧЭ индиевых микроконтактов, большей площади (Фиг.4, 5) от способа сборки ИК-фотоприемника способом перевернутого монтажа, без изготовления микроконтактов большей площади на периферии кристаллов БИС и МФЧЭ (Фиг.1, 2) иллюстрируют фиг.3 и 6. Показано, что при изготовлении на периферии кристаллов БИС и МФЧЭ индиевых микроконтактов большей площади зазор становится ровным и равным высоте индиевых "подушек", что повышает качество, надежность стыковки и исключает передавливание индиевых микроконтактов и, как следствие, их замыкание.

Изготовлены образцы кристаллов БИС мультиплексоров и МФЧЭ с индиевыми «подушками», проведена их гибридизация.

Способ сборки ИК-фотоприемника способом перевернутого монтажа, включающий формирование индиевых микроконтактов на кристаллах БИС и МФЧЭ, отличающийся тем, что на периферии кристаллов БИС и МФЧЭ изготавливают индиевые микроконтакты, площадь которых увеличена, по сравнению с индиевыми микроконтактами фоточувствительных элементов, при этом индиевые микроконтакты увеличенной площади обеспечивают ровный зазор между БИС и МФЧЭ, равный по высоте индиевым микроконтактам увеличенной площади.
СПОСОБ СБОРКИ ИК-ФОТОПРИЕМНИКА
СПОСОБ СБОРКИ ИК-ФОТОПРИЕМНИКА
СПОСОБ СБОРКИ ИК-ФОТОПРИЕМНИКА
СПОСОБ СБОРКИ ИК-ФОТОПРИЕМНИКА
СПОСОБ СБОРКИ ИК-ФОТОПРИЕМНИКА
СПОСОБ СБОРКИ ИК-ФОТОПРИЕМНИКА
Источник поступления информации: Роспатент

Показаны записи 1-10 из 23.
10.08.2013
№216.012.5e57

Способ измерения квантовой эффективности и темнового тока фоточувствительных элементов матричных инфракрасных фотоприемных устройств

Изобретение относится к способам измерения параметров инфракрасных матричных фотоприемных устройств (ИК ФПУ), работающих в режиме накопления. Способ измерения квантовой эффективности и темнового тока фоточувствительных элементов матричных ИК ФПУ включает установку ФПУ на заданном расстоянии от...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002489772
Дата охранного документа: 10.08.2013
10.09.2013
№216.012.6912

Способ изготовления индиевых микроконтактов ионным травлением

Изобретение относится к технологии получения индиевых микроконтактов для соединения больших интегральных схем (БИС) и фотодиодных матриц. Сущность изобретения: в способе изготовления индиевых микроконтактов пластину с матрицами БИС или фотодиодными матрицами защищают перфорированной в местах...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002492545
Дата охранного документа: 10.09.2013
10.06.2014
№216.012.d005

Многоэлементный ик фотоприемник

Изобретение относится к многоэлементным или матричным фотоприемникам (МФП) на основе антимонида индия, чувствительным в спектральном диапазоне 3-5 мкм. Конструкция МФП позволяет повысить выход годных и улучшить однородность параметров МФП в серийном производстве за счет увеличения квантовой...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002519024
Дата охранного документа: 10.06.2014
20.07.2014
№216.012.de97

Способ изготовления индиевых микроконтактов с помощью позитивного обращаемого фоторезиста

Использование: для получения индиевых микроконтактов и соединения больших интегральных схем (БИС) и фотодиодных матриц. Сущность изобретения заключается в том, что на полупроводниковую пластину с металлическими площадками для формирования индиевых микроконтактов наносят слой позитивного...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002522769
Дата охранного документа: 20.07.2014
20.07.2014
№216.012.deb8

Способ изготовления микроконтактов матричных фотоприемников

Изобретение относится к технологии получения индиевых микроконтактов для соединения больших интегральных схем (БИС) и фотодиодных матриц. В способе изготовления микроконтактов матричных фотоприемников согласно изобретению формируют на пластине с матрицами БИС или фотодиодными матрицами...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002522802
Дата охранного документа: 20.07.2014
20.07.2014
№216.012.e26e

Способ обнаружения скрытых дефектов матричных бис считывания

Изобретение относится к тестированию матричных БИС считывания и может быть использовано для определения координат скрытых дефектов типа утечек сток-исток, которые невозможно обнаружить до стыковки кристаллов БИС считывания и матрицы фоточувствительных элементов. На кремниевой пластине с годными...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002523752
Дата охранного документа: 20.07.2014
27.09.2014
№216.012.f783

Способ измерения квантовой эффективности и темнового тока фоточувствительных элементов в матрице ик фпу

Изобретение относится к способам измерения параметров инфракрасных фотоприемных устройств (ИК ФПУ), работающих в режиме накопления. Технический результат - повышение производительности измерения. Способ измерения квантовой эффективности и темнового тока фоточувствительного элемента (ФЧЭ)...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002529200
Дата охранного документа: 27.09.2014
10.10.2014
№216.012.fc64

Способ изготовления многоэлементного фотоприемника на основе эпитаксиальных структур ingaas/inp

Изобретение может быть использовано в системах лазерной локации, обнаружения лазерного излучения, ИК-спектрометрии, многоспектральных ВОЛС, а также нового поколения систем ночного видения. Согласно изобретению изготовление многоэлементного фотоприемника на основе эпитаксиальных p-i-n-структур...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002530458
Дата охранного документа: 10.10.2014
10.11.2014
№216.013.04ac

Способ изготовления кремниевого p-i-n фотодиода

Изобретение относится к технологии изготовления кремниевых p-i-n-фотодиодов (ФД), чувствительных к излучению с длинами волн 0,9-1,06 мкм. Способ изготовления кремниевого фотодиода согласно изобретению включает операции термического окисления, диффузии фосфора для формирования областей n-типа...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002532594
Дата охранного документа: 10.11.2014
20.12.2014
№216.013.124f

Способ изготовления фотоприемников на основе эпитаксиальных p-i-n структур gan/ algan

Изобретение относится к технологии фотодиодов на основе эпитаксиальных p-i-n структур GaN/AlGaN, преобразующих излучение ультрафиолетовой области спектра. Согласно изобретению предложен способ изготовления многоэлементного фотоприемника на основе эпитаксиальных p-i-n структур GaN/AlGaN....
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002536110
Дата охранного документа: 20.12.2014
Показаны записи 1-10 из 33.
10.08.2013
№216.012.5e57

Способ измерения квантовой эффективности и темнового тока фоточувствительных элементов матричных инфракрасных фотоприемных устройств

Изобретение относится к способам измерения параметров инфракрасных матричных фотоприемных устройств (ИК ФПУ), работающих в режиме накопления. Способ измерения квантовой эффективности и темнового тока фоточувствительных элементов матричных ИК ФПУ включает установку ФПУ на заданном расстоянии от...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002489772
Дата охранного документа: 10.08.2013
10.09.2013
№216.012.6912

Способ изготовления индиевых микроконтактов ионным травлением

Изобретение относится к технологии получения индиевых микроконтактов для соединения больших интегральных схем (БИС) и фотодиодных матриц. Сущность изобретения: в способе изготовления индиевых микроконтактов пластину с матрицами БИС или фотодиодными матрицами защищают перфорированной в местах...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002492545
Дата охранного документа: 10.09.2013
10.06.2014
№216.012.d005

Многоэлементный ик фотоприемник

Изобретение относится к многоэлементным или матричным фотоприемникам (МФП) на основе антимонида индия, чувствительным в спектральном диапазоне 3-5 мкм. Конструкция МФП позволяет повысить выход годных и улучшить однородность параметров МФП в серийном производстве за счет увеличения квантовой...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002519024
Дата охранного документа: 10.06.2014
20.07.2014
№216.012.de97

Способ изготовления индиевых микроконтактов с помощью позитивного обращаемого фоторезиста

Использование: для получения индиевых микроконтактов и соединения больших интегральных схем (БИС) и фотодиодных матриц. Сущность изобретения заключается в том, что на полупроводниковую пластину с металлическими площадками для формирования индиевых микроконтактов наносят слой позитивного...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002522769
Дата охранного документа: 20.07.2014
20.07.2014
№216.012.deb8

Способ изготовления микроконтактов матричных фотоприемников

Изобретение относится к технологии получения индиевых микроконтактов для соединения больших интегральных схем (БИС) и фотодиодных матриц. В способе изготовления микроконтактов матричных фотоприемников согласно изобретению формируют на пластине с матрицами БИС или фотодиодными матрицами...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002522802
Дата охранного документа: 20.07.2014
20.07.2014
№216.012.e26e

Способ обнаружения скрытых дефектов матричных бис считывания

Изобретение относится к тестированию матричных БИС считывания и может быть использовано для определения координат скрытых дефектов типа утечек сток-исток, которые невозможно обнаружить до стыковки кристаллов БИС считывания и матрицы фоточувствительных элементов. На кремниевой пластине с годными...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002523752
Дата охранного документа: 20.07.2014
27.09.2014
№216.012.f783

Способ измерения квантовой эффективности и темнового тока фоточувствительных элементов в матрице ик фпу

Изобретение относится к способам измерения параметров инфракрасных фотоприемных устройств (ИК ФПУ), работающих в режиме накопления. Технический результат - повышение производительности измерения. Способ измерения квантовой эффективности и темнового тока фоточувствительного элемента (ФЧЭ)...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002529200
Дата охранного документа: 27.09.2014
10.10.2014
№216.012.fc64

Способ изготовления многоэлементного фотоприемника на основе эпитаксиальных структур ingaas/inp

Изобретение может быть использовано в системах лазерной локации, обнаружения лазерного излучения, ИК-спектрометрии, многоспектральных ВОЛС, а также нового поколения систем ночного видения. Согласно изобретению изготовление многоэлементного фотоприемника на основе эпитаксиальных p-i-n-структур...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002530458
Дата охранного документа: 10.10.2014
10.11.2014
№216.013.04ac

Способ изготовления кремниевого p-i-n фотодиода

Изобретение относится к технологии изготовления кремниевых p-i-n-фотодиодов (ФД), чувствительных к излучению с длинами волн 0,9-1,06 мкм. Способ изготовления кремниевого фотодиода согласно изобретению включает операции термического окисления, диффузии фосфора для формирования областей n-типа...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002532594
Дата охранного документа: 10.11.2014
20.12.2014
№216.013.124f

Способ изготовления фотоприемников на основе эпитаксиальных p-i-n структур gan/ algan

Изобретение относится к технологии фотодиодов на основе эпитаксиальных p-i-n структур GaN/AlGaN, преобразующих излучение ультрафиолетовой области спектра. Согласно изобретению предложен способ изготовления многоэлементного фотоприемника на основе эпитаксиальных p-i-n структур GaN/AlGaN....
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002536110
Дата охранного документа: 20.12.2014
+ добавить свой РИД