×
16.05.2023
223.018.5f4b

Результат интеллектуальной деятельности: Устройство для выращивания кристаллов из раствора при постоянной температуре

Вид РИД

Изобретение

№ охранного документа
0002745770
Дата охранного документа
31.03.2021
Аннотация: Изобретение относится к области кристаллографии, а более конкретно к устройствам для выращивания кристаллов из растворов, например к технике скоростного выращивания кристаллов группы КДР (KHPO), в том числе, в промышленных масштабах. Устройство для выращивания кристаллов из раствора при постоянной температуре содержит кристаллизатор 1, снабженный гидравлическим контуром 7 циркуляции раствора, в котором установлен насос 8, фильтр 9 и регулируемый дроссель 11, подключенный через штуцер к кристаллизатору 1, при этом к кристаллизатору 1 двумя гидравлическими линиями подключен компенсационный сосуд 13, одна гидравлическая линия – выходная 12 - соединяет выходной патрубок кристаллизатора 1 непосредственно с выходным патрубком компенсационного сосуда 13, а другая – входная 14 - соединяет линией контура циркуляции раствора 7 выходной патрубок кристаллизатора 1 с входным патрубком компенсационного сосуда 13, компенсационный сосуд 13 снабжен крышкой 16 с кольцевым выступом вокруг сквозного отверстия, на крышке 16 с зазором относительно выступа размещен конденсатор 17, к полости между выступом крышки 16 и внутренней стенкой конденсатора 17, предназначенного для сбора конденсата, подключен патрубок с клапаном 19, обеспечивающим периодический слив конденсата, в крышке 16 дополнительно выполнено отверстие для установки дозирующего средства 23 подачи соли или лома кристаллов в компенсационный сосуд 13, кристаллизатор снабжен датчиком температуры раствора 4, подключенным к средству термостатирования 6 кристаллизатора 1, а компенсационный сосуд 13 снабжен датчиком температуры 21, подключенным к нагревателю 15, размещенному в линии связи 14 сосуда 13 с контуром циркуляции раствора 7 в кристаллизатор 1. Средство термостатирования 6 кристаллизатора 1 может быть выполнено в виде рубашки водяного охлаждения или воздушного вентилятора. Дозирующее средство 23 подачи соли или лома кристаллов в компенсационный сосуд 13 выполнено в виде воронки или перфорированного контейнера, заполненного солью или ломом кристаллов. Конденсатор 17 имеет сферическую форму, а компенсационный сосуд 13 снабжен мешалкой 18. За счет условий поддержания в процессе роста постоянной температуры и концентрации раствора получают кристаллы КДР высокого качества. 6 з.п. ф-лы, 1 пр., 1 ил.

Изобретение относится к области кристаллографии, а более конкретно к устройствам для выращивания кристаллов из растворов, например, к технике скоростного выращивания кристаллов группы КДР (KH2PO4) при условии поддержания в процессе роста постоянной температуры и концентрации раствора.

Кристаллы КДР и кристаллы дейтерированного ДКДР (KD2PO4) дигидрофосфата калия широко применяются в качестве нелинейных оптических кристаллов и сегнетоэлектриков. Наиболее часто используемым электрооптическим кристаллом является ДКДР с дейтерированием более 95%. Эти кристаллы выращивают путем кристаллизации из водного раствора. Учитывая этот фактор, выращивание названных кристаллов высокого качества имеет большое практическое значение.

Известно устройство для выращивания кристаллов типа КДР из раствора, содержащее кристаллизатор, включенный в гидравлический контур циркуляции раствора, в котором установлен насос, фильтр и нагреватель. В этом устройстве входной и выходной патрубки кристаллизатора соединены перепускным каналом, причем перепускной канал и входной патрубок снабжены клапаном с регулируемым дросселем.

Перепускной канал включен в контур циркуляции раствора, в котором температура существенно выше температуры насыщенного раствора. Концентрация вещества в таком перегретом растворе равна концентрации вещества, выходящего из кристаллизатора (патент РФ RU 2285068, "Способ выращивания кристаллов из раствора и устройство для его осуществления", МПК С30В 7/08, опубл. 10.10.2006, приор. 18.03.2005 г.

Основным недостатком данного технического решения является то, что в таком кристаллизаторе нельзя выращивать, например, кристаллы КДР с высокой степенью дейтерирования т.е. более 95%, поскольку кристаллы с такой степенью дейтерирования можно выращивать при температуре ниже 40°С [L.N. Rashovich,//KDP-family Single Crystal, «AdamHilger, Bristol, Philadelphia and NewYork», 1991, p. 16.]

Технической задачей предлагаемого изобретения является создание устройства, обеспечивающего выращивание кристаллов группы КДР при постоянной температуре раствора и его постоянной концентрации, при температурах близким к комнатной.

Технический результат - получение кристаллов группы KDP высокого качества.

Поставленные техническая задача и результат достигаются устройством для выращивания кристаллов из раствора при постоянной температуре, содержащим кристаллизатор, снабженный гидравлическим контуром циркуляции раствора, в котором установлен насос, фильтр и регулируемый дроссель, подключенный через штуцер к кристаллизатору, к последнему двумя гидравлическими линиями подключен компенсационный сосуд, одна из которых – выходная - соединяет выходной патрубок кристаллизатора непосредственно с выходным патрубком компенсационного сосуда, а другая – входная - соединяет линией контура циркуляции раствора выходной патрубок кристаллизатора с входным патрубком компенсационного сосуда, при этом компенсационный сосуд снабжен крышкой с кольцевым выступом вокруг сквозного отверстия, на крышке с зазором относительно выступа размещен конденсатор, к полости между выступом крышки и внутренней стенкой конденсатора, предназначенного для сбора конденсата, подключен патрубок с клапаном, обеспечивающим периодический слив конденсата, в крышке дополнительно выполнено отверстие для установки дозирующего средства подачи соли или лома кристаллов в компенсационный сосуд, кристаллизатор снабжен датчиком температуры раствора, подключенным к средству термостатирования кристаллизатора, а компенсационный сосуд снабжен датчиком температуры, подключенным к нагревателю, размещенному в линии связи сосуда с контуром циркуляции раствора в кристаллизаторе.

Средство термостатирования кристаллизатора может быть выполнено в виде рубашки водяного охлаждения или воздушного вентилятора. Дозирующее средство подачи соли, примесей или лома кристаллов в крышке компенсационной емкости может быть выполнено в виде воронки, либо в виде перфорированного контейнера, заполненного солью, примесью или ломом кристаллов. Конденсатор имеет сферическую форму. В компенсационной емкости может устанавливаться мешалка.

Схема предлагаемой установки представлена на чертеже.

Устройство содержит кристаллизатор 1, внутри которого на кристаллоносце 2 размещается кристалл 3. Температура раствора в кристаллизаторе 1 замеряется датчиком температуры 4, подключенным через контроллер 5 к вентилятору 6. Поступление раствора в кристаллизатор осуществляется через линию 7, насос 8, фильтр 9, линию 10 и регулируемый дроссель 11. Выходной штуцер кристаллизатора 1 линией 12 подключен непосредственно к компенсационному сосуду 13. Линия 14 связывает циркуляционный контур с сосудом 13. В линии 14 размещен нагреватель 15. Сосуд 13 снабжен крышкой 16, на которой установлен конденсатор 17. С целью равномерного стекания конденсата растворителя по внутренней стенке конденсатор имеет сферическую форму. Для интенсификации установления однородности циркулирующего раствора в компенсационной емкости 13 применяется мешалка 18. Слив раствора из кармана между выступом крышки 16 и внутренней поверхностью конденсатора 17 производится через клапан 19 в емкость 20. Датчик температуры 21 раствора в компенсационной емкости 13 через контроллер 22 подключен к нагревателю 15. В крышке 16 выполнено отверстие, в котором размещен дозатор 23.

Установка функционирует следующим образом.

После заполнения системы раствором и выхода ее на рабочий режим обеспечивают поддержание в кристаллизаторе 1 температуры роста кристалла Трост., которая может быть равна температуре насыщения Тнас, если рост осуществляется контролируемым введением вещества в раствор в компенсационную емкость 13 через дозатор 23, или ниже температуры насыщения Тнас., если в процессе роста кристалла сконденсированный растворитель отводят из компенсационного сосуда. Температура циркулирующего раствора Т всегда выше температуры насыщения Тнас.. Такая температура Т в компенсационной емкости 13 поддерживается нагревателем 15. Кроме того, через нее постоянно циркулирует раствор...Это осуществляют путем подачи в нее раствора через линию 7, соединенную с выходным патрубком кристаллизатора, насос 8, фильтр 9, линию 14 и нагреватель 15. Нагреватель 15 включается контроллером 22 по сигналу от датчика температуры 21

Часть раствора по линии 10 через регулируемый дроссель 11 поступает в кристаллизатор 1. Температура в кристаллизаторе 1 поддерживается в режиме Трост.нас.<Т или Трост.нас<Т благодаря охлаждению кристаллизатора вентилятором 6. Включение этого вентилятора производится контроллером 5 по сигналу от датчика 4 температуры в кристаллизаторе 1. Кроме вентилятора возможно применение водяной рубашки вокруг корпуса кристаллизатора, По мере роста кристалла 3, размещенного на кристаллоносце 2, происходит уменьшение концентрации раствора. Для поддержания концентрации раствора в заданном диапазоне необходимо или отводить из него часть растворителя (воды.) или вводить в циркулирующий раствор такое же количество вещества, какое пошло на прирост кристалла. Это достигается тем, что вода в компенсационном сосуде 13 (из-за того, что Т>Тнас.) испаряется и ее пары конденсируются на стенке конденсатора 17. Конденсат стекает в полость кармана, образованного между стенкой конденсатора 17 и крышкой 16 компенсационной емкости 13. Слив воды из названного кармана в емкость 20 может производиться автоматически или вручную путем открытия клапана 19. Перемешивание раствора в полости компенсационной емкости 13 обеспечивают посредством мешалки 18. Для повышения концентрации вещества в циркулирующем растворе возможно непосредственное добавление в раствор в компенсационной емкости 13 соли или мелких некондиционных кристаллов. Это достигается применением дозатора 23. Последний может быть выполнен в виде перфорированного цилиндра заполненного солью, примесями или мелкими кристаллами. Возможно также применение воронки, через которую загружают названные ингредиенты.

Следует отметить, что режим Трост.нас очень удобен при затравке кристаллизатора. При этом режиме затравка ни растет, ни растворяется и режимом ее регенерации легко управлять, добавляя с помощью дозатора 23 в циркулирующий раствор необходимое количество вещества. Затравку при этом режиме почти невозможно потерять.

Пример работы кристаллизатора.

В кристаллизаторе 1 выращивался кристалл КДП (КН2РО4). Температура насыщения (Тнас.) была близка к комнатной и составляла 35°С. Насыщенный раствор перегревался до 60°С, фильтровался через ядерный фильтр с порами 0,02 мк, а затем при этой температуре заливался в кристаллизатор 1 и компенсационную емкость 13. Объем всей системы составлял примерно 3,5 литра. Включался насос 8 и в системе начиналась постоянная циркуляция раствора. С помощью жидкостного термостата стенки кристаллизатора 1 охлаждались до температуры 40°С. В кристаллизатор была введена прогретая до указанной температуры «точечная» затравка. Температура раствора в компенсационной емкости 13 все время поддерживалась постоянной и была равна 60°С. При этой температуре происходит хорошее испарение растворителя (воды). Затем температура в кристаллизаторе 1 была понижена до температуры роста 30°С (Трост..), включена терморегуляция. и с помощью регулировочного винта на дросселе 11 установлено необходимое поступление перегретого до 60°С раствора из компенсационной емкости в кристаллизатор 1. Таким образом, выращивание кристалла КДП велось при постоянной температуре 30°С., а температура в компенсационной емкости 13 составляла 60°С при постоянной циркуляции части раствора через кристаллизатор 1. Чтобы пересыщение раствора не изменялось при росте кристалла, из кармана между выступом крышки 16 и внутренней поверхностью конденсатора 17 (сборник конденсата) периодически вручную, отбирался растворитель (вода) по 5 мл.

Полученный кристалл имел чистые грани и хорошую форму. Скорость роста по оси Z составляла более 10-11 мм / сутки.

Проведенные эксперименты подтвердили возможность выращивания качественных кристаллов КДР в промышленных масштабах.

Источник поступления информации: Роспатент

Showing 31-39 of 39 items.
20.04.2023
№223.018.4d95

Способ изготовления зонных пластин

Способ изготовления зонных пластин, в котором формируют блок из стеклянных пластин двух сортов, имеющих различную плотность и диэлектрическую проницаемость, но одинаковую площадь и объем, располагая пластины первого и второго сорта поочередно. С обеих сторон блока находятся пакеты пластин из...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002793078
Дата охранного документа: 28.03.2023
14.05.2023
№223.018.5491

Способ формирования 3d микроструктур в оптических материалах

Изобретение относится к способу формирования 3D микроструктур в оптически прозрачном материале и может быть использовано, например, для изготовления элементов микрооптики, волоконной и интегральной оптики, фотоники, плазмоники, сенсорики и микрофлюидики. Осуществляют воздействие импульсного...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002729253
Дата охранного документа: 05.08.2020
14.05.2023
№223.018.54a6

Устройство для измерения термо-эдс тонких пленок

Изобретение относится к измерительной технике и предназначено для измерения термо-ЭДС в тонких пленках металлических, полупроводниковых термоэлектрических материалов. Сущность: устройство для измерения термо-ЭДС тонких пленок длиной L и шириной S, содержит термопары и средства для замера ЭДС....
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002737341
Дата охранного документа: 27.11.2020
15.05.2023
№223.018.5a31

Устройство для термической обработки металлических, полупроводниковых подложек и аморфных плёнок

Изобретение относится к технологии термической обработки металлических, полупроводниковых подложек и аморфных пленок. Устройство содержит корпус с размещенной внутри него теплоизоляцией, подложкодержатель и нагреватель, нагреватель содержит два дистанционно расположенных кварцевых кольца,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002761867
Дата охранного документа: 13.12.2021
15.05.2023
№223.018.5a51

Способ многократного использования раствора-расплава при синтезе febo

Изобретение относится к области получения высокосовершенных монокристаллов FeBO. Способ многократного использования раствора-расплава при синтезе FeBO заключается в том, что после синтеза FeBO раствор-расплав сливают, среди синтезированных кристаллов отбирают высокосовершенные монокристаллы...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002769681
Дата охранного документа: 05.04.2022
15.05.2023
№223.018.5a52

Способ многократного использования раствора-расплава при синтезе febo

Изобретение относится к области получения высокосовершенных монокристаллов FeBO. Способ многократного использования раствора-расплава при синтезе FeBO заключается в том, что после синтеза FeBO раствор-расплав сливают, среди синтезированных кристаллов отбирают высокосовершенные монокристаллы...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002769681
Дата охранного документа: 05.04.2022
16.05.2023
№223.018.628d

Способ азотирования покрытий из оксида титана на твердой подложке

Изобретение относится к области термохимической обработки материалов, находящихся в твердой фазе, в частности, к азотированию покрытий титана на твердой подложке. Способ азотирования покрытий из титана на твердой подложке включает воздействие на открытом воздухе на покрытие без его...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002785576
Дата охранного документа: 08.12.2022
16.05.2023
№223.018.6330

Способ травления поверхности сапфировых пластин

Изобретение относится к области радиационно-химической обработки кристаллических материалов. Способ травления поверхности сапфировых пластин включает обработку электронным пучком, предварительно на поверхность сапфира наносят слой золота толщиной 100÷120 нм, отжигают полученный композит на...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002771457
Дата охранного документа: 04.05.2022
16.05.2023
№223.018.6382

Способ азотирования покрытий из оксида титана на твердой подложке

Изобретение относится к способу азотирования покрытий титана на твердой подложке. Способ включает воздействие на покрытие низкотемпературной плазмой азота атмосферного давления на открытом воздухе без его предварительного прогрева со среднемассовой температурой в диапазоне от 3727°С до 4727°С в...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002775988
Дата охранного документа: 12.07.2022
Showing 1-3 of 3 items.
20.10.2014
№216.012.ff32

Способ выращивания кристаллов из раствора и устройство для осуществления

Изобретение относится к технологии выращивания кристаллов, предназначенных для использования в оптико-электронных устройствах. Способ выращивания кристаллов из пересыщенного раствора включает испарение растворителя с поверхности пересыщенного раствора, находящегося внутри кристаллизационного...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002531186
Дата охранного документа: 20.10.2014
09.05.2019
№219.017.4eec

Устройство для выращивания кристаллов биологических макромолекул

Изобретение относится к кристаллографии, а более конкретно - к устройству для выращивания кристаллов биологических макромолекул, например кристаллов белка. В настоящее время весьма перспективным направлением в области выращивания кристаллов биологических макромолекул является кристаллизация...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002424383
Дата охранного документа: 20.07.2011
28.03.2020
№220.018.1131

Способ выращивания кристалла из раствора при постоянной температуре

Изобретение относится к области выращивания искусственных кристаллов из растворов. В способе выращивания кристалла из раствора при постоянной температуре, включающем отвод и последующее возвращение раствора в кристаллизатор, общий объем раствора в кристаллизаторе делят на две сообщающиеся...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002717799
Дата охранного документа: 25.03.2020
+ добавить свой РИД