×
17.08.2019
219.017.c11b

Результат интеллектуальной деятельности: СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ СПИН-ПОЛЯРИЗОВАННЫХ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА В ГРАФЕНЕ

Вид РИД

Изобретение

№ охранного документа
0002697517
Дата охранного документа
15.08.2019
Аннотация: Использование: для получения спин-поляризованных носителей заряда в графене. Сущность изобретения заключается в том, что методом молекулярно-лучевой эпитаксии на поверхности предварительно сформированной структуры монослой графена/подложка формируют субмонослой европия со структурой Eu. Технический результат: обеспечение возможности получения спин-поляризованных носителей заряда в графене. 4 ил., 2 пр.

Область техники

Изобретение относится к областям спинтроники и эпитаксиальных тонкопленочных материалов и заключается в получении спин-поляризованных носителей заряда в графене посредством формирования поверхностной фазы европия, и может быть использовано для создания таких устройств спинтроники, как спиновые логические устройства, спиновый транзистор и инжектор спин-поляризованных носителей.

Уровень техники

Интерес последних лет к спиновому транспорту связан с возможностью создавать энергоэффективные и быстродействующие устройства. Графен стал одним из приоритетных направлений спинтронных исследований, так как является перспективным материалом для электроники благодаря большой длине спиновой диффузии, достигающей нескольких микронов, возможности получить спиновый транспорт вплоть до комнатных температур, высокой подвижности носителей и контролю их концентрацию посредством затвора. Таким образом, в настоящее время стоит задача разработать способ получения графена высокого качества, обладающего магнитными свойствами.

Известно значительное количество работ, посвященных попыткам сделать графен магнитным различными, методами. В данном техническом решении предложен способ получения спин-поляризованных носителей в графене за счет создания поверхностной фазы Eu, демонстрирующей ферромагнитное поведение.

Известен подход, в котором спиновая поляризация носителей достигается за счет создания дефектов в структуре графена. Примером может послужить статья «Контроль магнетизма в графене при помощи атомов водорода на атомарном масштабе» «Atomic-scale control of graphene magnetism by using hydrogen atoms» (статья DOI: 10.1126/science.aad8038), в которой дефекты в структуре создаются при помощи легких адатомов водорода, образующих сильную ковалентную связь, что приводит к исчезновению одной pz орбитали на адатом. Нарушение симметрии приводит к возникновению квазилокального магнитного момента в соответствии с теоремой Либа в рамках модели Хаббарда для двух подрешеток - структуры характерной для графена, чья решетка состоит из двух треугольных подрешеток.

Известны и другие способы получения магнитных состояний в графене путем создания вакансий и нарушения симметрий решетки. К ним относят облучение графена протонами, создание графеновых нанолент или имплантирование тяжелых атомов, однако нарушение структуры кристалла приводит к значительному ухудшению спинового транспорта. Кроме того, процессы формирования дефектов зачастую вероятностны и неудобны для производства наноразмерных устройств.

Известны изобретения «Графеновый спиновый фильтр» патент РФ №2585404, «Наноустройства для спинтроники и методы их использования» «Nanodevices for spintronics and methods of using same» патент США № US 8378329 и научные статьи «Эффективная спиновая инжекция в графен через туннельный барьер: преодоление несоответствия в спиновой проводимости» «Efficient Spin Injection into Graphene through a Tunnel Barrier: Overcoming the Spin-Conductance Mismatch» (DOI: 10.1103/PhysRevApplied.2.044008), в которых спин-поляризованные носители инжектируются в графен из металлов Fe, Со, Ni и их сплавов. Описаны различные схемы инжекций: с прямым контактом с металлом, с контактом через тонкий диэлектрический слой, с контактом через немагнитный металл. Общим недостатком данных методов является низкая эффективность инжекций спин-поляризованных носителей и низкие спиновые токи.

Известно изобретение «Графеновое устройство, способное осуществлять спиновую поляризацию, и метод его создания» Заявка Китай № CN 106449968 А, в котором спиновая поляризация носителей достигается за счет близости графенового листа со слоем ферромагнитного изолятора. Недостатком данного изобретения является то, что объединение производится путем переноса тонкого листа изолятора на графен. Подобная схема сложно воспроизводима в промышленных масштабах и обеспечивает плохой контакт изолятора с графеновым листом, что ведет к худшей спиновой поляризации носителей.

Известны научные статьи, в которых спиновая поляризация достигается за счет переноса графена на ферромагнитные металлические пластины или создания тонкой пленки ферромагнитного металла на графене. Примером может являться статья «Электронная структура и магнитные свойства интеркаляционной системы графен/Fe/Ni(111)» «Electronic structure and magnetic properties of the graphene/Fe/Ni(111) intercalation-like system» (статья DOI: 10.1039/c1cp00014d), в которой графен расположен на поверхности кристалла никеля, а для улучшения магнитных свойств произведена интеркаляция графена атомами железа, обладающими большим, чем никель, магнитным моментом. Недостатком данного подхода является шунтирование графена металлом.

Задачей, решаемой изобретением, является создание эффективного способа получения спин-поляризованных носителей заряда в графене с сохранением его физических свойств, что может быть использовано для создания таких технических устройств, как спиновый транзистор и спиновый фильтр.

Для достижения технического результата предложен способ получения спин-поляризованных носителей заряда в графене, заключающийся в том, что методом молекулярно-лучевой эпитаксии на поверхности предварительно сформированной структуры монослой графена/подложка формируют субмонослой европия со структурой .

Описанный способ позволяет получить поверхностную фазу Eu на поверхности монослоя графена, что приводит появлению спин-поляризованных носителей в графене. Предложенный способ позволяет достичь высокой спиновой. Поляризации электронов в графене за счет обменного взаимодействия с атомами европия, обладающими большим магнитным моментом и находящимися в непосредственном контакте с поверхностью, в то же время покрытие поверхности субмонослоем не создает шунтирующего металлического проводящего слоя и не нарушает структуру графена, что не может быть достигнуто способами, указанными в аналогах.

Краткое описание чертежей

Изобретение поясняется чертежами.

На Фиг. 1 даны изображения дифракции быстрых электронов на исходной поверхности Графен/SiO2/Si до отжига (а) и после отжига (б). На рисунке (в) приведено изображение поверхностной фазы в процессе формирования поверхностной фазы европия - Eu/Графен/SiO2/Si.

На Фиг. 2 дано схематичное изображение поверхностной фазы Eu/Графен. Под субмонослоем понимают слой вещества толщиной в один атом с неполным покрытием поверхности атомами (Фиг. 2).

На Фиг. 3 приведена зависимость намагниченности образца от магнитного поля, приложенного параллельно плоскости поверхности.

На Фиг. 4 приведено поведение намагниченности образца в зависимости от температуры в захваченном поле. Стрелками на изображении отмечено направление протекания процесса.

Осуществление изобретения

В изобретении предложен способ получения спин-поляризованных носителей в графене за счет создания поверхностной фазы. Eu, демонстрирующей ферромагнитное поведение, при температуре подложки Ts=20÷100°С и давлении потока атомов европия PEu=(1⋅10-8÷1⋅10-7) торр.

В установках молекулярно-лучевой эпитаксии обычно имеет место неоднозначная трактовка температур подложки. В настоящем изобретении температуры подложки выше 270°С определяются по показаниям инфракрасного пирометра, ниже - по показаниям термопары.

Давлением потока считается давление, измеренное ионизационным манометром Баярда-Альперта, находящимся в положении подложки.

Все параметры и материалы, указанные в примерах, соответствуют используемой в экспериментах установке и не являются единственно возможными.

В технологическом процессе может использоваться любая подложка с осажденным на нее монослоем графена, кроме указанной в примерах подложки из кремния, не деградирующая при приведенных ростовых условиях. Монослой графена предварительно может быть осажден на поверхность различных подложек при помощи как ростовых технологий, так и технологий переноса пленки «Science and technology roadmap for graphene, related two-dimensional crystals, and hybrid systems» (DOI: 10.1039/c4nr01600a)).

Примеры

Пример 1 осуществления способа изобретения. Структура Графен/SiO2/Si помещается в сверхвысоковакуумную камеру (остаточный вакуум Р~1⋅10-10 торр). Затем для очистки поверхности графена, осуществляется отжиг структуры при температуре Ts=600°С. Тот факт, что графен очищен, устанавливается с помощью дифракции быстрых электронов (Фиг. 1а-б). После чего структуру охлаждают до Ts=20÷100°С, затем открывают на 20 сек заслонку ячейки Eu предварительно прогретой до температуры, обеспечивающей давление потока PEu=4.5⋅10-8 торр, что соответствует субмонослойному покрытию поверхности необходимой структуры . Условия осуществления регламентированы оборудованием - в данном эксперименте использовалось установка молекулярно-лучевой эпитаксии Riber Compact 12.

Во время осаждения чистого Eu на картинах дифракции быстрых электронов появляются промежуточные рефлексы (Фиг. 1в). Эти изменения свидетельствуют об образовании периодичного субмонослойного покрытия металлического европия со структурой типа (Фиг. 2). В связи с необходимостью полной защиты субмонослоя от окисления по окончании роста, не доставая образец; из высоковакуумной камеры, при помощи метода молекулярно-лучевой эпитаксии, пленку закрывают сплошным слоем Al толщиной не менее 100 нм. Исследования магнетизма структуры показали наличие ферромагнитного поведения. Полевая зависимость имеет нелинейный характер, присутствует насыщение при 4000÷5000 Э (Фиг. 3), измерения остаточной намагниченности в захваченном поле показали, что намагниченность образца, наведенная в поле 1000 Э при температуре 2 K, распадается при росте температуры. При последующем охлаждении образец не демонстрирует возвращение к прежнему значению намагниченности, что говорит о наличии, ферромагнитной составляющей магнетизма (Фиг. 4).

Пример 2

Способ реализуется, как в Примере 1, по окончании осаждения защитного слоя Al производится осаждение методом молекулярно-лучевой эпитаксии дополнительного защитного слоя SiOx толщиной 200 нм.

Все ростовые процессы, указанные в примерах, производятся последовательно в одной установке молекулярно-лучевой эпитаксии в сверхвысоком вакууме.

В результате осуществления ростовых процедур, описанных в примерах, и последующей характеризации полученных пленок были впервые получены и изучены магнитные свойства графена с осажденным субмонослоем Eu со структурой .

Таким образом, показана возможность получения поверхностной фазы Eu. Получение такой фазы приводит к появлению спин-поляризованных носителей заряда в графене, что подтверждает достижение технического результата и может быть использовано при создании устройств спинтроники, например спиновых фильтров и инжекторов спин-поляризованного тока.

Способ получения спин-поляризованных носителей заряда в графене, заключающийся в том, что методом молекулярно-лучевой эпитаксии на поверхности предварительно сформированной структуры монослой графена/подложка формируют субмонослой европия со структурой Eu.
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ СПИН-ПОЛЯРИЗОВАННЫХ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА В ГРАФЕНЕ
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ СПИН-ПОЛЯРИЗОВАННЫХ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА В ГРАФЕНЕ
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ СПИН-ПОЛЯРИЗОВАННЫХ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА В ГРАФЕНЕ
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ СПИН-ПОЛЯРИЗОВАННЫХ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА В ГРАФЕНЕ
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ СПИН-ПОЛЯРИЗОВАННЫХ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА В ГРАФЕНЕ
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ СПИН-ПОЛЯРИЗОВАННЫХ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА В ГРАФЕНЕ
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ СПИН-ПОЛЯРИЗОВАННЫХ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА В ГРАФЕНЕ
Источник поступления информации: Роспатент

Showing 31-40 of 259 items.
10.12.2013
№216.012.8a5f

Способ продления ресурса графитового ядерного канального реактора

Изобретение относится преимущественно к канальным реакторам АЭС типа РБМК с графитовой кладкой активной зоны. Способ включает снижение температуры облучения графита путем уменьшения аксиальной неравномерности термического сопротивления газового зазора технологического канала графитового...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002501105
Дата охранного документа: 10.12.2013
20.12.2013
№216.012.8e1c

Способ измерения электронной температуры термоядерной плазмы

Изобретение относится к физике высокотемпературной плазмы и может найти применение в управляемом термоядерном синтезе. Сущность изобретения заключается в том, что способ измерения электронной температуры термоядерной плазмы, включающий операции, заключающиеся в том, что поток рентгеновских...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002502063
Дата охранного документа: 20.12.2013
27.12.2013
№216.012.920f

Способ формирования монокристаллических нанопроводников в матрице из собственного оксида

Изобретение относится к технологии создания сложных проводящих структур и может быть использовано в нанотехнологии, микроэлектронике для создания сверхминиатюрных приборов, интегральных схем и запоминающих устройств. Изобретение направлено на обеспечение формирование монокристаллических...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002503084
Дата охранного документа: 27.12.2013
10.01.2014
№216.012.947f

Способ переработки нефти и/или нефтяных остатков

Изобретение относится к нефтехимической и химической промышленности. Изобретение касается способа переработки нефти и/или нефтяных остатков, включающего плазмохимический пиролиз гомогенизированной смеси, представляющей собой гомогенно диспергированную в углеводородном сырье трехфазную систему,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002503709
Дата охранного документа: 10.01.2014
20.01.2014
№216.012.9758

Способ плазменно-каталитической переработки твердых бытовых отходов

Изобретение относится к способу переработки твердых бытовых отходов, включающему плазмохимический пиролиз гомогенизированной смеси, представляющей собой гомогенно диспергированную в сырье трехфазную систему, состоящую из высоко дисперсных частиц катализатора, метановодородной фракции,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002504443
Дата охранного документа: 20.01.2014
20.01.2014
№216.012.98aa

Способ диагностики предрасположенности пациента к наследственной макулодистрофии штаргардта

Изобретение относится к области биотехнологии и медицины. Предложен способ диагностики предрасположенности пациента к наследственной макулодистрофии Штаргардта. Фибробласты кожи, взятые у пациента, культивируют и обрабатывают вирусными конструкциями, несущими гены Oct4, Sox2 и Klf4 под...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002504781
Дата охранного документа: 20.01.2014
20.02.2014
№216.012.a3ac

Способ измерения эффективности стержней регулирования реакторной установки

Изобретение относится к физике ядерных реакторов и может быть использовано для измерения эффективности одного или групп стержней регулирования реакторных установок (РУ) в случаях, когда по условиям эксплуатации РУ необходимо обеспечить метрологическую аттестацию этих измерений в режимах...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002507615
Дата охранного документа: 20.02.2014
27.02.2014
№216.012.a5e0

Способ получения коллоидов металлов

Изобретение относится к получению коллоидов металлов электроконденсационным методом. Может использоваться для создания каталитических систем, модификации волокнистых и пленочных материалов, например, для изготовления экранов защиты от электромагнитного излучения. В жидкую фазу вводят по меньшей...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002508179
Дата охранного документа: 27.02.2014
10.03.2014
№216.012.a9af

Рекомбинантная плазмида phistevtsib0821, трансформированный ею штамм escherichia coli rosetta(de3)/phistevtsib0821 и способ получения рекомбинантной пролидазы tsib_0821

Изобретение относится к области биотехнологии и генной инженерии и представляет собой рекомбинантную плазмиду pHisTevTSIB0821 для экспрессии в клетках Escherichia coli пролидазы TSIB_0821 из археи Thermococcus sibiricus. Заявленная плазмида включает NdeI/SalI-фрагмент плазмиды pET-22b(+)...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002509154
Дата охранного документа: 10.03.2014
20.03.2014
№216.012.ab68

Способ мембранно-адсорбционного концентрирования водорода из обедненных газовых смесей (варианты)

Изобретение относится к области химии и биотехнологии. Способ непрерывного выделения и концентрирования водорода из биосингаза, состоящего из пяти и более компонентов, включающий подачу биосингаза из реактора (пиролизного реактора или биореактора) с помощью компрессора в мембранный модуль для...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002509595
Дата охранного документа: 20.03.2014
Showing 1-7 of 7 items.
25.08.2017
№217.015.ca35

Способ выращивания эпитаксиальных пленок дисилицида стронция на кремнии

Изобретение относится к способам получения эпитаксиальных тонкопленочных материалов, а именно новой фазы дисилицида стронция, обладающего в контакте с кремнием низкой высотой барьера Шоттки, и может быть использовано для создания контактов истока/стока в технологии производства полевых...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002620197
Дата охранного документа: 23.05.2017
09.08.2018
№218.016.79e3

Способ получения эпитаксиальной пленки многослойного силицена, интеркалированного европием

Изобретение относится к способам получения эпитаксиальных тонкопленочных материалов, а именно EuSi кристаллической модификации hP3 (пространственная группа N164, ) со структурой интеркалированных европием слоев силицена, которые могут быть использованы для проведения экспериментов по...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002663041
Дата охранного документа: 01.08.2018
23.02.2019
№219.016.c6f4

Способ выращивания эпитаксиальных пленок монооксида европия на графене (варианты)

Изобретение относится к способам получения эпитаксиальных тонкопленочных материалов, а именно пленок монооксида европия на графене, и может быть использовано для создания таких устройств спинтроники, как спиновый транзистор и инжектор спин-поляризованных носителей. Способ выращивания...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002680544
Дата охранного документа: 22.02.2019
29.12.2020
№219.017.f404

Способ создания двумерного ферромагнитного материала дисилицида гадолиния со структурой интеркалированных слоев силицена

Изобретение относится к технологии создания двумерных магнитных материалов для сверхкомпактных спинтронных устройств. Способ получения дисилицида гадолиния GdSiсо структурой интеркалированных слоев силицена методом молекулярно-лучевой эпитаксии заключается в осаждении атомарного потока...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002710570
Дата охранного документа: 27.12.2019
04.06.2020
№220.018.23dd

Способ создания двумерных ферромагнитных материалов euge и gdge на основе германена

Изобретение относится к технологии получения двумерных ферромагнитных материалов EuGe или GdGe, которые могут быть использованы при создании компактных спинтронных устройств. Способ создания двумерных ферромагнитных материалов EuGe и GdGe на основе германена заключается в осаждении атомарного...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002722664
Дата охранного документа: 02.06.2020
13.06.2020
№220.018.26c5

Способ создания материалов на основе германена euge и srge с высокой подвижностью носителей заряда

Изобретение относится к получению материалов на основе германена EuGe и SrGe с высокой подвижностью носителей заряда, которые могут использоваться при создании наноэлектронных устройств. Атомарный поток европия или стронция с давлением (0,1÷100)⋅10 Торр осаждают на предварительно очищенную...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002723125
Дата охранного документа: 08.06.2020
20.04.2023
№223.018.4d2f

Способ создания интерфейса для интеграции монокристаллического оксида европия с германием

Изобретение относится к технологии формирования эпитаксиальных гетероструктур, а именно тонких пленок оксида европия на германии, которые могут быть использованы при создании устройств германиевой наноэлектроники и спинтроники, в частности инжекторов спин-поляризационного тока, спиновых...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002793379
Дата охранного документа: 31.03.2023
+ добавить свой РИД