1.Структураскиральнымиэлектромагнитнымисвойствами,содержащаяискусственныйтвердотельныйкиральныйэлемент,отличающаясятем,чтокиральныйэлементвыполненввидемногослойнойоболочкисфункциональнымэлектромагнитнымслоемкиральнойгеометрическойформы,причемкривизнаоболочкиобеспеченанапряженнымиформообразующимислоями.12.Структурапоп.1,отличающаясятем,чтоонавыполненаввидемассиваодинаковыхилиразличныхкиральныхэлементовввидеоболочек,связанныхмеждусобойпосредствомобщегодляоболочекслоя,и/илиподложки,илиобъемнойматрицы.23.Структурапоп.1,отличающаясятем,чтоформообразующиеслоивыполненыввидепсевдоморфныхмонокристаллическихпленоквеществ,имеющихвсвободномсостоянииразличныепериодыкристаллическойрешетки;функциональныйэлектромагнитныйслойвыполненизметалла,полупроводникаилидиэлектрика;толщинаоболочекравнаот10до10м.34.Структурапоп.1,отличающаясятем,чтоформообразующиеслоивыполненысиспользованиемпарыматериаловGaAsиInGaAs,илиSiиSiGe,илиAuиTi,илиAuиNi,илиCrиSiGe,илиCrиSi.45.Структурапоп.2,отличающаясятем,чтоонавыполненасзаданнойнеоднородностьюмассива,обеспечивающейнеоднородностькиральныхэлектромагнитныхсвойств.56.Структурапоп.1,отличающаясятем,чтоформаиматериалкиральногоэлементавыбранытак,чтозначениярезонансныхчастотэлектромагнитныхколебанийкиральныхэлементовзаданывпределахдиапазонарабочихчастотэлектромагнитногоизлучения.67.Структурапоп.1или2,отличающаясятем,чтоконструктивныеэлементыструктурывыполненысиспользованиемматериалов,изменяющихсвоиэлектромагнитныесвойстваподдействиемэлектромагнитногоизлучения.78.Структурапоп.1или2,отличающаясятем,чтокиральныйэлемент/киральныеэлементывыполненыввидеоболочки,упругодеформируемойвпределах,обеспечивающихизменениекиральныхэлектромагнитныхсвойствструктуры.89.Структурапоп.2,отличающаясятем,чтоонадополнительноснабженауправляющимиполупроводниковымиэлементами,изменяющимикиральныеэлектромагнитныесвойстваструктуры.910.Способизготовленияструктурыскиральнымиэлектромагнитнымисвойствами,отличающийсятем,чтонаподложкеизготавливаютмногослойныйпленочныйэлемент,причемматериалы,геометриюивнутренниенапряженияегослоевзадаютобеспечивающимивпоследствиикиральныеэлектромагнитныесвойстваготовойструктуры,приэтомнастадииизготовленияпленочногоэлементасоздаютформообразующиенапряженныеслои,функциональныйэлектромагнитныйслой,азатемпутемотделенияпленочногоэлементаотподложкитрансформируютегоподдействиемвнутреннихнапряженийвоболочку,представляющуюсобойкиральныйэлемент.1011.Способпоп.10,отличающийсятем,чтоприизготовлениимногослойногопленочногоэлементанаподложкеформируютвсеконструктивныеслоипленочногоэлемента,приэтомпосредствомпланарнойтехнологииформируютрисункислоев,втомчислерисунки,задающиеконтурыпленочногоэлемента,причемрисунокфункциональногоэлектромагнитногослояформируютобеспечивающимприобретениеэтимслоемкиральнойформыпритрансформациипленочногоэлементавоболочку.1112.Способпоп.10или11,отличающийсятем,чтотолщинумногослойногопленочногоэлементазадаютот10до10м,причемвыполняютфункциональныйэлектромагнитныйслойсрисунком,несимметричнымкакотносительнонаправленияизгибания,такинаправления,перпендикулярногонаправлениюизгибания,приэтомрисункислоевпленочногоэлементаформируютспомощьюлитографии;последующееотделениепленочногоэлементаотподложкиосуществляютпутемудаленияматериалаэлемента,лежащегоподпленочнымэлементом,обеспечиваязасчетэтогонаправленноеизгибаниепленочногоэлемента.1213.Способпоп.10,отличающийсятем,чтонаподложкепредварительновыращиваютжертвенныйслой,отделениепленочногоэлементаотподложкиосуществляютпутемселективногобоковоготравленияжертвенногослоя.1314.Способпоп.10,отличающийсятем,чтоотделениепленочногоэлементаотподложкиосуществляютпутемселективноготравленияподложки.1415.Способпоп.10,отличающийсятем,чтоформообразующиеслоиформируютпутемэпитаксииизкристаллическихвеществсразличнымипостояннымирешетки,соблюдаяусловияпсевдоморфногороста,илиформообразующиеслоиформируютизметаллов,имеющихразличныекоэффициентытермическогорасширенияимодулиЮнга,функциональныйэлектромагнитныйслойвыполняютизметалла,илиполупроводника,илидиэлектрика.1516.Способпоп.10,отличающийсятем,чтоформообразующиеслоивыполняютсиспользованиемпарыматериаловGaAsиInGaAs,илиSiиSiGe,илиAuиTi,илиAuиNi,илиCrиSiGe,илиCrиSi.1617.Способпоп.10,отличающийсятем,чтонаподложкеизготавливаютмассиводинаковыхилиразныхмногослойныхпленочныхэлементов,имеющихсвязьилинеимеющихсвязимеждусобойпосредствомобщегослоя,сохраняющегосяприотделениипленочныхэлементовотподложкиитрансформацииихвоболочку.1718.Способпоп.10,отличающийсятем,чтопослеформированияоболочекихпереносятсподложкинадругойнесущийэлементилиразмещаютвобъеметрехмернойматрицы.1819.Способпоп.10или18,отличающийсятем,чтоприизготовленииструктурыиспользуютматериалы,изменяющиесвоиэлектромагнитныесвойстваподдействиемэлектромагнитногоизлучения.1920.Способпоп.10,отличающийсятем,чтовструктуреформируютуправляющийполупроводниковыйэлемент,обуславливающийизменениекиральныхэлектромагнитныхсвойствструктуры.2021.Способизготовленияструктурыскиральнымиэлектромагнитнымисвойствами,отличающийсятем,чтонаподложкеизготавливаютмногослойныйпленочныйэлемент,причемматериалы,геометриюивнутренниенапряженияегослоевзадаютобеспечивающимикиральнуюформуоболочки,образующейсяприотделениипленочногоэлементаотподложки,затемпутемотделенияпленочногоэлементаотподложкитрансформируютегоподдействиемвнутреннихнапряженийвоболочкукиральнойформы,послечегонаносятнаоболочкуфункциональныйэлектромагнитныйслой,обеспечиваяегокиральнуюформу.2122.Способпоп.21,отличающийсятем,чтоприизготовлениимногослойногопленочногоэлементанаподложкеформируютмногослойнуютвердотельнуюпленку,содержащуюформообразующиеслои,внутренниминапряжениямикоторыхотносительнодругдругаобеспеченавпоследствиилокальнаякривизнаготовойоболочки,методамипланарнойтехнологииформируютрисункислоев,втомчислерисунки,задающиеконтурыпленочногоэлемента,нанесениефункциональногоэлектромагнитногослояосуществляютпутемхимическогоосаждения.2223.Способпоп.21или22,отличающийсятем,чтотолщинумногослойногопленочногоэлементазадаютот10до10м,причемконтурыпленочногоэлементаформируютнесимметричнымикакотносительнонаправленияегоизгибаподдействиемвнутреннихнапряжений,такинаправления,перпендикулярногонаправлениюегоизгиба,приэтомрисункислоевпленочногоэлементаформируютспомощьюлитографии,последующееотделениепленочногоэлементаотподложкиосуществляютпутемудаленияматериалаэлемента,лежащегоподпленочнымэлементом,обеспечиваязасчетэтогонаправленноеизгибаниепленочногоэлемента.2324.Способпоп.21,отличающийсятем,чтонаподложкепредварительновыращиваютжертвенныйслой,отделениепленочногоэлементаотподложкиосуществляютпутемселективногобоковоготравленияжертвенногослоя.2425.Способпоп.21,отличающийсятем,чтоотделениепленочногоэлементаотподложкиосуществляютпутемселективноготравленияподложки.2526.Способпоп.21,отличающийсятем,чтоформообразующиеслоиформируютпутемэпитаксииизкристаллическихвеществсразличнымипостояннымирешетки,соблюдаяусловияпсевдоморфногороста,илиформообразующиеслоиформируютизметаллов,имеющихразличныекоэффициентытермическогорасширенияимодулиЮнга,функциональныйэлектромагнитныйслойвыполняютизметалла.2627.Способпоп.21,отличающийсятем,чтоформообразующиеслоивыполняютсиспользованиемпарыматериаловGaAsиInGaAs,илиSiиSiGe,илиAuиTi,илиAuиNi,илиCrиSiGe,илиCrиSi.2728.Способпоп.21,отличающийсятем,чтонаподложкеизготавливаютмассиводинаковыхилиразныхмногослойныхпленочныхэлементов,имеющихсвязьилинеимеющихсвязимеждусобойпосредствомобщегослоя,сохраняющегосяприотделениипленочныхэлементовотподложкиитрансформацииихвоболочку.2829.Способпоп.21,отличающийсятем,чтопослеформированиякиральныхэлементовихпереносятсподложкинадругойнесущийэлементилиразмещаютвобъеметрехмернойматрицы.2930.Способпоп.21или29,отличающийсятем,чтоприизготовленииструктурыиспользуютматериалы,изменяющиесвоиэлектромагнитныесвойстваподдействиемэлектромагнитногоизлучения.3031.Способпоп.21,отличающийсятем,чтовструктуреформируютуправляющийполупроводниковыйэлемент,позволяющийизменятькиральныеэлектромагнитныесвойстваструктуры.31