1.Полаянаноиглавинтегральномисполнении,содержащаятрубкуизмеханическинапряженныхслоев,связаннуюскристаллом-подложкой,отличающаясятем,чтоонасоединенаскристаллом-подложкойизогнутымпленочнымэлементомизмеханическинапряженныхслоев,обеспечивающимпозиционированиетрубкиотносительнокристалла-подложки,ижесткозакрепленаскристаллом-подложкойпосредствомзакрепляющегоэлемента.12.Полаянаноиглапоп.1,отличающаясятем,чтомеханическинапряженныеслоивыполненыввидепсевдоморфныхмонокристаллическихпленоквеществ,имеющихвсвободномсостоянииразличныепериодыкристаллическойрешеткииливвидепленокматериалов,имеющихразличныекоэффициентытермическогорасширенияимодулиЮнга,илисиспользованиемипервых,ивторых.23.Полаянаноиглапоп.1,отличающаясятем,чтомеханическинапряженныеслоивыполненысиспользованиемпарыматериаловGaAsиInGaAs,илиSiиSiGe,илиAuиTi,илиCrиSiGe,илиCrиSi;либотрехвидовматериаловSi,иSiGe,иCr;либочетырехвидовSi,SiGe,Au,TiилиGaAs,InGaAs,Au,Ti.34.Полаянаноиглапоп.1,отличающаясятем,чтосуммарныетолщинымеханическинапряженныхслоевтрубкиимеханическинапряженныхслоевизогнутогопленочногоэлементаравныот5·10до,10м,приэтомконкретноезначениетолщинымеханическинапряженныхслоевтрубкизаданоисходяизполучениятребуемогодиаметратрубки,аконкретноезначениетолщинымеханическинапряженныхслоевизогнутогопленочногоэлементазаданоисходяиздостижениятребуемогопозиционированиятрубкиотносительнокристалла-подложки.45.Полаянаноиглапоп.1,отличающаясятем,чтозакрепляющийэлементвыполненизполимеризованногорезиста.56.Способизготовленияполойнаноиглывинтегральномисполнении,заключающийсявтом,чтонакристалле-подложкеизготавливаютмногослойнуюпленочнуюструктурусмеханическинапряженнымислоями,послечегоформируютконтуросвобождаемойобластипленочнойструктурыоткристалла-подложки,отличающийсятем,чтоосвобождаемуюобластьпленочнойструктурыформируютсодержащейучасток,предназначенныйдляформированиятрубки,иучасток,предназначенныйдляформированияизогнутогопленочногоэлемента,обеспечивающегопозиционированиетрубкиотносительнокристалла-подложки,азатемпоследовательноосвобождаютпервыйизуказанныхучастков,трансформируяегозасчетмеханическихнапряженийвтрубку,ивторойучасток,изгибающийсязасчетмеханическихнапряжений,итемсамымобеспечивающийпозиционированиетрубкиотносительнокристалла-подложки,послечегозакрепляюттрубкунакристалле-подложке.67.Способпоп.6,отличающийсятем,чтоприизготовлениимногослойнойпленочнойструктурысмеханическинапряженнымислоямиформируютконструктивныеслоитрубкииизогнутогопленочногоэлемента,обеспечивающегопозиционированиетрубки.78.Способпоп.6,отличающийсятем,чтонакристалле-подложкепередизготовлениеммногослойнойпленочнойструктурывыращиваютжертвенныйслой.89.Способпоп.6или7,отличающийсятем,чтотолщинумногослойнойпленочнойструктурызадаютот5·10до10м,причемтолщинаучастка,предназначенногодляформированиятрубки,итолщинаучастка,предназначенногодляформированияизогнутогопленочногоэлемента,одинаковаяилиразная.910.Способпоп.6,отличающийсятем,чтоконтуросвобождаемойобластипленочнойструктурыформируютпутемлитографииипоследующеготравления,приэтомрисунок,задающийконтур,формируютобеспечивающимпервомуучасткуприобретениеформытрубки,авторомуучастку-приобретениекриволинейнойконфигурации,обеспечивающейтребуемоепозиционированиетрубкивпространстве.1011.Способпоп.6или10,отличающийсятем,чторисунокпервогоучасткаирисуноквторогоучасткаформируютнесимметричнымиотносительноусловнойразделяющейихграницы.1112.Способпоп.6,отличающийсятем,чтопоследовательноеосвобождениепервогоивторогоуказанныхучастковоткристалла-подложкиосуществляютпутемселективноготравлениякристалла-подложки.1213.Способпоп.8,отличающийсятем,чтопоследовательноеосвобождениепервогоивторогоуказанныхучастковоткристалла-подложкиосуществляютпутемселективноготравленияжертвенногослоя.1314.Способпоп.6,отличающийсятем,чтопоследовательноосвобождаютпервыйизуказанныхучастков,трансформируяегозасчетмеханическихнапряженийвтрубку,ивторойучасток,изгибающийсязасчетмеханическихнапряженийитемсамымобеспечивающийпозиционированиетрубкиотносительнокристалла-подложки,путемреализациинаправленноготравления,задающегонаправлениеизгибанияосвобождаемыхучастков,анаправлениеизгибаниязадаютвпроцессеформированияконтураосвобождаемойобластипленочнойструктуры.1415.Способпоп.7,отличающийсятем,чтоконструктивныеслоиформируютпутемэпитаксииизкристаллическихвеществсразличнымипостояннымирешетки,соблюдаяусловияпсевдоморфногороста,илиихформируютвакуумнымнапылениемизматериалов,имеющихразличныекоэффициентытермическогорасширенияимодулиЮнга,илиихформируютсочетаниемпервогоивторого.1516.Способпоп.7или15,отличающийсятем,чтоконструктивныеслоиформируютсиспользованиемпарыматериаловGaAsиInGaAs,илиSiиSiGe,илиAuиTi,илиCrиSiGe,илиCrиSi;либотрехвидовматериаловSi,иSiGe,иCr;либочетырехвидовSi,SiGe,Au,TiилиGaAs,InGaAs,Au,Ti.1617.Способпоп.6,или12,или13,отличающийсятем,чтозакреплениетрубкинакристалле-подложкеосуществляюттем,чтозакрепляющийэлементформируютспомощьюлитографии,приэтомнакристалл-подложкуструбкойиизогнутымпленочнымэлементомнаносятслойрезиста,участокслоярезиста,всредекоторогорасположенатрубкасизогнутымпленочнымэлементом,подвергаютвоздействиюсветаилиэлектронногопучка,осуществляятакимобразомполимеризациюрезиста,аучасткинеполимеризованногорезистаудаляют.17