Автор РИД: Зеленцов Сергей Васильевич

Изобретение относится к технологии изготовления резистных масок в производстве микросхем, в частности изготовления резистных масок с расширенным диапазоном разрешения изображений. Технический результат изобретения - разработка способа изготовления резистной маски позитивного типа с расширенным...

Изобретение относится к взрывной фотолитографической технологии и может быть использовано, когда получение рабочего рисунка из активного материала (металла или полупроводника) методами избирательного химического или плазмохимического травления через фоторезистную маску затруднено или...

Группа изобретений относится к области составов для ухода за полостью рта и может быть использовано в парфюмерно-косметической промышленности для производства указанных составов. Предлагается применение соли цинка или меди (II) общей формулы , где M - Zn или Cu, R - водород или метил, R выбран...

Группа изобретений относится к способам, предназначенным для изготовления полупроводниковых приборов на твердом теле с использованием светочувствительных составов, например фоторезистов, содержащих диазосоединения в качестве светочувствительных веществ, а именно к способам формирования...