Правообладатель РИД: ЭТИДЗЭНИА, Такацугу (JP)

Изобретение относится к устройству для производства нановолокон, а также используемой в нем головке фильеры. Устройство для производства нановолокон содержит поверхность 22 для выпуска исходного материала, на которой располагается проход 25 для потока исходного материала, предназначенный для...