Правообладатель РИД: Нэй Хтет Аунг (MM)

Изобретение относится к ионно-плазменной технологии и может быть использовано для осаждения покрытий на изделия в вакууме. Магнетронное распылительное устройство содержит плоскую круглую мишень, являющуюся катодом тлеющего разряда, магнитную систему, один из полюсов которой прилегает к центру...

Изобретение относится к машиностроению, в частности к устройствам для обработки поверхности изделий быстрыми атомами с целью получения изделий с повышенными механическими и электрофизическими характеристиками поверхности за счет имплантации в нее легирующих элементов и формирования в ней...