Правообладатель РИД: ТАТИБАНА Сигео (JP)

Изобретение относится к способу очистки внутреннего пространства емкости высокого давления для взрывных работ, допускающему кратковременную обработку независимо от состояния остаточных веществ. Способ включает этап установки взрывчатого вещества для очистки, отличного от взрывчатого вещества...