Правообладатель РИД: АКАСИ Тоору (JP)

Изобретение относится к области оксидирования стального материала, Для получения после охлаждения стального материала требуемой толщины оксидной пленки допускают образование оксидной пленки на поверхности стального материала d+d≤15 нм, где d - толщина оксидной пленки, образующейся с участием...