Правообладатель РИД: ВАН Луяо (CN)

Устройство регулирования распределения газовой фазы, содержащее: слой наполнителя для удаления жидкости из газовой фазы и распределительный слой, расположенный над слоем наполнителя и снабженный по меньшей мере двумя каналами для газовой фазы, независимыми друг от друга и сообщающимися,...

Изобретение относится к области химического кристаллизационного оборудования для проведения газофазных реакций, в частности реакции двух газов с получением твердой фазы. Кристаллизационная колонна включает верхнюю головку 1 с выпускным отверстием 4 для газа, корпус 2 и нижнюю головку 3 с...

Настоящее изобретение относится к оборудованию для химической обработки и описывает диск для равномерного распределения потока материала и реактор. Указанный диск содержит тарелку (100) колонны, патрубок (200) для сброса материала, проходящий сквозь тарелку (100) колонны, и ослабляющее ударное...