Правообладатель РИД: ТАНГ Хайкью (CN)

Изобретение относится к области косметической промышленности, а именно к композиции для ухода за полостью рта, которая содержит а) от 0,01% до 5%, по массе композиции, источника ионов цинка; b) от 0,01% до 5%, по массе композиции, ароматизирующей композиции; c) от 30% до 75%, по массе...