Правообладатель РИД: КАСПАР Мартин (CH)

Данное изобретение относится к способу УФ-сшивания лаковых слоев. Кроме того, изобретение относится к устройству облучения для выполнения способа. Поверхность компонента по меньшей мере частично имеет покрытие, которое содержит PVD-покрытие, расположенное между первым лаковым слоем и вторым...