Правообладатель РИД: Ромашкин Алексей Валентинович

Изобретение относится к защитным и маскирующим покрытиям на основе воска или парафина, обеспечивающим сохранение параметров поверхности и/или формирование областей с различными свойствами по маске; может быть использовано для модификации поверхности, в том числе у имплантатов, улучшения их...

Изобретение относится к биоразлагаемым полимерным покрытиям с улучшенной гидрофильностью поверхности, имеющей полярные группы, и может быть использовано для улучшения биоинтеграции имплантов, культивирования клеток. Предложен способ получения покрытия на основе биодеградируемого полимера из...

Устройство предназначено для приготовления, а также поддержания во взвешенном состоянии дисперсий в сменных емкостях небольшого объема типа шприцев, пробирок с патрубком в дне или аналогичных и дает возможность в процессе работы подавать в емкость или забирать из нее обрабатываемую жидкость или...

Изобретение относится к технологии получения улучшенных композитных структур. Для повышения прочности на разрыв композитного материала модифицируют поверхность углеволокон углеродными нанотрубками (УНТ). УНТ наносят на поверхность углеволокна с помощью пропитки углеволокон раствором УНТ в...

Изобретение относится к способам формирования тонких наноструктурных пленок оксида графена на подложках из различных, в том числе, гибких полимерных материалов, и может быть использовано для создания активных элементов сенсоров на основе оксида графена. Cпособ состоит в формировании...

Использование: для формирования фоторезистивных пленок. Сущность изобретения заключается в том, что способ формирования фоторезистивной пленки толщиной от 0,8 до 20 мкм из раствора на поверхности подложки включает нанесение фоторезистивного материала из раствора методом аэрозольного...

Изобретение может быть использовано для дозирования и нанесения жидкостей и растворов, в том числе коллоидных с повышенной точностью и воспроизводимостью дозируемого объема, как розливом для заполнения контейнеров, так и аэрозольным распылением на поверхности. Содержит устройство и способ...

Изобретение может быть использовано для формирования фоторезистивных пленок, однородных по толщине и пригодных для проведения операций фотолитографии для формирования интегральных микросхем, МЭМС и СВЧ-структур на подложках, в том числе со сложным рельефом, где перепад высот существенно больше...

Изобретение относится к полимерной промышленности и может быть использовано для медицинских имплантов и культивирования клеток. Осуществляют модификацию поверхности изделий из полилактида путем функционализации гидроксильными группами посредством обработки высокочастотной плазмой разряда...

Изобретение относится к области литографии и касается способа получения фоторезистивного слоя. Фоторезистивный слой получают аэрозольным распылением из раствора фоторезистивного материала. Одновременно с аэрозольным потоком, при расходе не более 0,3 мл/мин, над подложкой формируют поток газа, с...