Правообладатель РИД: ВАКАБАЯСИ Хисамото (JP)

Изобретение относится к области оксидирования стального материала, Для получения после охлаждения стального материала требуемой толщины оксидной пленки допускают образование оксидной пленки на поверхности стального материала d+d≤15 нм, где d - толщина оксидной пленки, образующейся с участием...

Изобретение относится к черной металлургии, а именно к очистке валков прокатных станов. Устройство для очистки рабочего валка, используемого в прокатном стане, содержит кавитационное сопло, которое используется для очистки рабочего валка от цинка, прилипшего к его поверхности, с сохранением...