Правообладатель РИД: ЭРЛИКОН ТРЕЙДИНГ АГ, ТРЮББАХ (CH)

Изобретение относится к жидкостному химическому удалению покрытия с детали и может быть использовано для инструментов и компонентов, которые имеют высокопрочное покрытие, содержащее оксиды. Покрытие с детали удаляют путем помещения в раствор для удаления покрытий, который является водным...

Изобретение относится к области обработки материалов посредством ионной бомбардировки. Обеспечены планетарные устройства (22) для перемещения для заготовок, установленные на вращающемся устройстве (19) внутри вакуумной камеры. Обеспечен источник (24) облака, включающего ионы, (CL), таким...

Изобретение относится к нанесению покрытий искровым напылением. Мишень для нанесения металлооксидного и/или металлонитридного покрытия включает металлическую матрицу с размещенным в ней неэлектропроводящим оксидом и/или нитридом металла. Металлическая матрица выполнена из того же металла, что и...

Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий, в частности к кассете для обрабатываемых деталей. Несколько дисков (7) кассеты расположены вдоль центрального вала и снабжены держателями (8), равномерно распределенными по окружности, наклоненными в направлении наружу и...

Изобретение относится к барьерным слоям, обеспечивающим снижение проницаемости материала для конкретных субстанций. Способ для получения на подложке барьера, препятствующего прониканию водорода, содержит стадию осаждения на подложке слоевой системы (LS), содержащей, по меньшей мере, один слой...

Изобретение относится к вакуумной камере для установок для нанесения покрытии. Камера включает в себя раму камеры. В раму механически разъемно и герметично вставлены вставные панели, причем некоторые из вставных панелей несут функциональные элементы. Рама камеры включает в себя, по меньшей...

Вакуумная установка нанесения покрытий содержит впуск (12) реакционноспособного газа, по меньшей мере один PVD-источник (8, 21) покрытия с плоским катодом (11) и подложкодержатель (6), содержащий несколько подложек (7), при этом подложкодержатель (6) обладает двухмерной горизонтальной...

Изобретение относится к области плазменной обработки. При обработке поверхностей подложек или обрабатываемых деталей с помощью вакуумного плазменного разряда между анодом (9) и катодом (7) образуется и осаждается на анодной поверхности (21) твердое вещество (19), которое имеет более высокий...