Правообладатель РИД: РОЛИК АГ (CH)

Изобретение относится к новым фотохимически активным полимерным материалам. Полимерный материал содержит повторяющиеся звенья формулы (I): в которой M обозначает мономерное звено, выбранное из группы, включающей акрилат, метакрилат, 2-хлоракрилат, 2-фенилакрилат, простой виниловый эфир,...

Рельефные микроструктуры поверхности могут быть использованы для защиты документов и различных предметов от подделки и подлога. Способ тиражирования образующей узор рельефной микроструктуры поверхности включает стадии: формирования первого слоя (21), имеющего образующую узор рельефную...