Правообладатель РИД: МЭППЕР ЛИТОГРАФИ АйПи Б.В. (NL)

Изобретение относится к генерированию пучка заряженных частиц и системе литографии пучками заряженных частиц. Электрод коллиматора, используемый в генераторе пучков заряженных частиц, содержит тело (81) электрода, которое снабжено центральной апертурой (82), при этом тело электрода задает...

Изобретение относится к агрегату для переноса радикалов, например для удаления отложений загрязнения.. Агрегат включает генератор плазмы и направляющее тело. Генератор плазмы включает камеру (2), в которой может быть образована плазма. Камера имеет впуск (5) для приема вводимого газа и один или...

Изобретение относится к способу и устройству для манипуляции одним или более пучками заряженных частиц из множества элементарных пучков заряженных частиц в устройстве с множественными элементарными пучками заряженных частиц. Манипуляторное устройство содержит плоскую подложку, содержащую...

Изобретение относится к пакету электродов, содержащему уложенные стопой электроды (71-80) для управления пучком заряженных частиц вдоль оптической оси (A), и может использоваться для изготовления полупроводниковых структур методами литографии. Каждый электрод содержит тело электрода с апертурой...

Изобретение относится к области литографии и касается системы литографии. Система литографии включает в себя основание, установленную на основании оптическую колонну для проецирования шаблона на мишень, подвижный держатель мишени, модуль дифференциального интерферометра, предназначенный для...

Изобретение относится к метрологии, в частности к способам измерения тока. Измерительная система содержит источник тока и измерительную схему, зажим которой соединен с источником тока. Схема измерения тока содержит зажим для подключения источника питания и источник напряжения, соединенный с...

Изобретение относится к системе заряженных частиц, такой как система многолучевой литографии, содержащей устройство-манипулятор для манипуляции одним или более пучками заряженных частиц. Заявлена группа систем заряженных частиц, таких как системы многолучевой литографии, содержащие...

Изобретение относится к области литографии и касается литографической системы и способа хранения позиционных данных мишени. Литографическая система включает в себя систему управления посредством обратной связи, содержащую привод для перемещения мишени, измерительную систему для измерения...

Изобретение относится к способу определения расстояния между двумя составляющими лучами заряженных частиц в устройстве экспонирования с множеством составляющих лучей. В устройстве предусмотрен датчик, содержащий преобразовательный элемент (1), предназначенный для преобразования энергии...

Изобретение относится к кластерной литографической системе обработки подложки. Система содержит один или более литографических элементов, каждый литографический элемент выполнен с возможностью независимого экспонирования подложек в соответствии с данными шаблона. Каждый литографический элемент...