×

Правообладатель РИД: Иванов Владимир Витальевич

Показаны записи 1-9 из 9.
15.07.2020
№220.018.3250

Высокояркостный источник коротковолнового излучения на основе лазерной плазмы

Изобретение относится к высокояркостному источнику коротковолнового излучения на основе лазерной плазмы. Источник содержит вакуумную камеру (1) с вращающимся мишенным узлом (2), поставляющим в зону взаимодействия (3) со сфокусированным лазерным пучком (7) мишень (4) в виде слоя расплавленного...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002726316
Дата охранного документа: 13.07.2020
20.12.2019
№219.017.efa3

Источник рентгеновского излучения с жидкометаллической мишенью и способ генерации излучения

Изобретение относится к области рентгенотехники, в частности к высокояркостным источникам рентгеновского излучения с жидкометаллической мишенью. Жидкометаллическая мишень (6) представляет собой слой расплавленного металла, образованный центробежной силой на обращенной к оси вращения (7)...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002709183
Дата охранного документа: 17.12.2019
22.11.2019
№219.017.e4e9

Источник коротковолнового излучения высокой яркости

Изобретение направлено на усовершенствование высокояркостных источников излучения в диапазоне длин волн от 0,01 до 20 нм за счет глубокого подавления загрязняющих частиц на пути прохождения пучка коротковолнового излучения. Цель достигается за счет использования пучка энергии (11),...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002706713
Дата охранного документа: 20.11.2019
23.10.2018
№218.016.9538

Устройство и способ для генерации излучения из лазерной плазмы

Изобретение относится к источнику излучения на основе лазерной плазмы. Область применений включает ЭУФ метрологию, инспекцию микро- и наноструктур, актиническую инспекцию литографических ЭУФ масок. Мишенью (4) является образуемый при воздействии центробежной силы слой расплавленного металла на...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002670273
Дата охранного документа: 22.10.2018
25.06.2018
№218.016.6754

Высокояркостный источник эуф-излучения и способ генерации излучения из лазерной плазмы

Изобретение обеспечивает создание коммерчески доступного источника ЭУФ излучения для ЭУФ метрологии и актинической инспекции литографических ЭУФ масок. Реализуется за счет использования лазерной мишени в виде непрерывной струи жидкого лития (1), циркулирующего через зону взаимодействия по...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002658314
Дата охранного документа: 20.06.2018
20.01.2016
№216.013.a053

Устройство для отделочно-зачистной обработки

Изобретение относится к машиностроению и может быть использовано для отделочно-зачистной и упрочняющей обработки деталей в свободном состоянии. Устройство содержит установленный на станине галтовочный барабан, средства для загрузки и выгрузки деталей и привод его вращения. Барабан установлен...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002572685
Дата охранного документа: 20.01.2016
10.09.2014
№216.012.f404

Устройство для отделочно-упрочняющей обработки

Изобретение относится к машиностроению и может быть использовано для шлифования, полирования и упрочнения поверхностного слоя деталей. Устройство содержит многосекционный барабан, связанный с приводом и загрузочным и разгрузочным приспособлениями и установленный упруго на станине. Барабан...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002528291
Дата охранного документа: 10.09.2014
10.06.2014
№216.012.d17b

Станок для химико-отделочно-упрочняющей обработки деталей

Изобретение относится к машиностроению и может быть использовано для отделочно-зачистной и упрочняющей обработки деталей в свободном состоянии с использованием химических растворов. Станок содержит установленный горизонтально на станине барабан, выполненный с многозаходной винтовой...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002519398
Дата охранного документа: 10.06.2014
20.10.2013
№216.012.779e

Устройство и способ для генерации излучения из разрядной плазмы

Группа изобретений относится к устройству и способу для генерации мощного оптического излучения, в частности, в области экстремального УФ (ЭУФ) или мягкого рентгеновского излучения в диапазоне длин волн примерно от 1 нм до 30 нм. Область применения включает ЭУФ - литографию при производстве...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002496282
Дата охранного документа: 20.10.2013
+ добавить свой РИД