Правообладатель РИД: Закрытое акционерное общество "Институт прикладной нанотехнологии"

Настоящее изобретение относится к фотолитографическому процессу формирования рельефных покрытий на функциональных поверхностях подложек для интегральных схем с помощью фоторезиста и, в частности, к безметальному проявителю позитивного фоторезиста. Безметальный проявитель позитивного фоторезиста...

Изобретение относится к экспериментальной медицине, в частности к биополимерному матриксу для пролиферации клеток и регенерации нервных тканей. Биополимерный матрикс разработан на основе гетерогенной коллагенсодержащей структуры, состоящей из микрочастиц коллагена с размером 30-300 мкм,...

Заявленная группа изобретений относится к составу, имитирующему внутрисуставную жидкость (синовиальную жидкость), и к способу получения добавки для указанного состава. Состав, имитирующий внутрисуставную жидкость, содержит 15%-ный водный раствор среднемолекулярного поливинилпирролидона,...

Изобретение относится к эпоксидным композициям на основе эпоксидных смол холодного отверждения. Предназначенно для склеивания, герметизации и ремонта материалов и изделий медицинского и бытового назначения, материалов, эксплуатируемых в замкнутых и герметичных помещениях. Эпоксидная композиция...