ПОДЛОЖКА МАТРИЦЫ И СЕНСОРНАЯ ПАНЕЛЬ

1. ОБЛАСТЬ ТЕХНИКИ, К КОТОРОЙ ОТНОСИТСЯ ИЗОБРЕТЕНИЕ

[0001] Настоящее изобретение относится к сенсорной технологии и, в частности, к подложке матрицы и сенсорной панели.

2. ОПИСАНИЕ УРОВНЯ ТЕХНИКИ

[0002] С развитием электроники сенсорные панели нашли широкое применение в человеческой жизни. Сенсорные панели характеризуются такими признаками, как прочность, быстрое время отклика, экономия места и простота замены. Для активации желаемых функций пользователю необходимо лишь нажать на иконки на сенсорной панели, что облегчает взаимодействие человека с компьютером.

[0003] Сенсорные панели включают сенсорные панели, изготавливаемые посредством технологии On-cell, и сенсорные панели, изготавливаемые посредством технологии In-cell, причем сенсорные панели, изготавливаемые посредством технологии In-cell, подразумевают встраивание функций контактного опознавания в физические пиксели. Это может обеспечивать тонкую и легкую конструкцию, и поэтому снискало предпочтение пользователей.

[0004] На фиг. 1 показан схематический вид традиционной жидкокристаллической панели. Жидкокристаллическая панель содержит верхнюю подложку 11, нижнюю подложку 12 и жидкокристаллический слой 13 между верхней подложкой 11 и нижней подложкой 12. Нижняя подложка 12 содержит металлический слой 121 сток-исток, имеющий TFT, органический изолирующий слой 122, слой 123 общего электрода, пассивирующий слой 124 и слой 125 электродов пикселей.

[0005] На фиг. 2 показан схематический вид традиционной сенсорной панели, изготавливаемой посредством технологии In-cell. По отношению к традиционной сенсорной панели, изготавливаемой посредством технологии In-cell, слой 21 сенсорного электрода и изолирующий слой 22 расположены на нижней подложке 12. Слой 21 сенсорного электрода и слой 123 общего электрода функционируют в качестве индикаторного электрода, обеспечивая функции касания/индикации сенсорной панели, причем изолирующий слой 22 покрывает слой 123 общего электрода. Слой 21 сенсорного электрода расположен на части изолирующего слоя 22. Пассивирующий слой 124 покрывает слой 21 сенсорного электрода и изолирующий слой 22. Слой 125 электродов пикселей расположен на пассивирующем слое 124. Поскольку паразитная емкость может генерироваться между слоем 21 сенсорного электрода и слоем 123 общего электрода, обычно может быть образован более толстый изолирующий слой 22 во избежание высокой паразитной емкости между слоем 21 сенсорного электрода и слоем 123 общего электрода.

[0006] Однако, как показано на фиг. 2, толщина изолирующего слоя 22 может изменять зазор между слоем 125 электродов пикселей и верхней подложкой 11 и зазор между слоем 125 электродов пикселей и слоем 123 общего электрода. Таким образом, если толщина изолирующего слоя 22 увеличена для уменьшения паразитной емкости сенсорного электрода, это может повлиять на размеры жидкокристаллического конденсатора и накопительного конденсатора и, таким образом, на качество отображения.

СУЩНОСТЬ ИЗОБРЕТЕНИЯ

[0007] Настоящее изобретение относится к подложке матрицы и сенсорной панели для уменьшения паразитной емкости между сенсорными электродами без влияния на размеры жидкокристаллического конденсатора и накопительного конденсатора.

[0008] В одном аспекте подложка матрицы для сенсорных панелей содержит: слой электродов пикселей, первый слой сенсорного электрода и изолирующий слой и второй слой сенсорного электрода, расположенные последовательно на первом слое сенсорного электрода; при этом слой электродов пикселей не перекрывается с по меньшей мере одним из первого слоя сенсорного электрода и второго слоя сенсорного электрода, и изолирующий слой не предусмотрен в области вертикальной проекции слоя электродов пикселей; и первый слой сенсорного электрода представляет собой слой общего электрода, а второй слой сенсорного электрода выполнен в области вертикальной проекции черной матрицы.

[0009] При этом подложка матрицы дополнительно содержит пассивирующий слой; и электрод пикселя не перекрывается со вторым слоем сенсорного электрода, электрод пикселя содержит множество стержней электрода пикселя, изолирующий слой содержит множество изолирующих слоев на первом слое сенсорного электрода, и изолирующие слои находятся на расстоянии друг от друга, и второй слой сенсорного электрода расположен на одном из изолирующих слоев, пассивирующий слой расположен на первом слое сенсорного электрода между вторым слоем сенсорного электрода и изолирующим слоем, стержни электрода пикселя расположены на пассивирующем слое между изолирующими слоями, и изолирующий слой выполнен не в области вертикальной проекции стержней электрода пикселя.

[0010] При этом подложка матрицы дополнительно содержит пассивирующий слой; и электрод пикселя не перекрывается со вторым слоем сенсорного электрода, электрод пикселя содержит множество стержней электрода пикселя, изолирующий слой покрывает часть первого слоя сенсорного электрода, и пассивирующий слой выполнен на втором слое сенсорного электрода и первом слое сенсорного электрода, не покрытых изолирующим слоем, стержни электрода пикселя выполнены на пассивирующем слое, и изолирующий слой выполнен не между областью вертикальной проекции каждого из стержней электрода пикселя и стержнями электрода пикселя.

[0011] В другом аспекте подложка матрицы для сенсорных панелей содержит: слой электродов пикселей, первый слой сенсорного электрода и изолирующий слой и второй слой сенсорного электрода, расположенные последовательно на первом слое сенсорного электрода; при этом слой электродов пикселей не перекрывается с по меньшей мере одним из первого слоя сенсорного электрода и второго слоя сенсорного электрода, и изолирующий слой не предусмотрен в области вертикальной проекции слоя электродов пикселей.

[0012] При этом подложка матрицы дополнительно содержит пассивирующий слой; и электрод пикселя не перекрывается со вторым слоем сенсорного электрода, электрод пикселя содержит множество стержней электрода пикселя, изолирующий слой содержит множество изолирующих слоев на первом слое сенсорного электрода, и изолирующие слои находятся на расстоянии друг от друга, и второй слой сенсорного электрода расположен на одном из изолирующих слоев, пассивирующий слой расположен на первом слое сенсорного электрода между вторым слоем сенсорного электрода и изолирующим слоем, стержни электрода пикселя расположены на пассивирующем слое между изолирующими слоями, и изолирующий слой выполнен не в области вертикальной проекции стержней электрода пикселя.

[0013] При этом подложка матрицы дополнительно содержит пассивирующий слой; и электрод пикселя не перекрывается со вторым слоем сенсорного электрода, электрод пикселя содержит множество стержней электрода пикселя, изолирующий слой покрывает часть первого слоя сенсорного электрода, и пассивирующий слой выполнен на втором слое сенсорного электрода и первом слое сенсорного электрода, не покрытых изолирующим слоем, стержни электрода пикселя выполнены на пассивирующем слое, и изолирующий слой выполнен не между областью вертикальной проекции каждого из стержней электрода пикселя и стержнями электрода пикселя.

[0014] При этом первый слой сенсорного электрода представляет собой слой общего электрода.

[0015] При этом второй сенсорный электрод выполнен в области вертикальной проекции черной матрицы.

[0016] В другом аспекте сенсорная панель содержит: подложку матрицы, подложку цветового фильтра (CF) и жидкокристаллический слой между подложкой матрицы и подложкой CF, подложка матрицы содержит слой электродов пикселей, первый слой сенсорного электрода и изолирующий слой и второй слой сенсорного электрода, расположенные последовательно на первом слое сенсорного электрода; при этом слой электродов пикселей не перекрывается с по меньшей мере одним из первого слоя сенсорного электрода и второго слоя сенсорного электрода, и изолирующий слой не предусмотрен в области вертикальной проекции слоя электродов пикселей.

[0017] При этом подложка матрицы дополнительно содержит пассивирующий слой; и электрод пикселя не перекрывается со вторым слоем сенсорного электрода, электрод пикселя содержит множество стержней электрода пикселя, изолирующий слой содержит множество изолирующих слоев на первом слое сенсорного электрода, и изолирующие слои находятся на расстоянии друг от друга, и второй слой сенсорного электрода расположен на одном из изолирующих слоев, пассивирующий слой расположен на первом слое сенсорного электрода между вторым слоем сенсорного электрода и изолирующим слоем, стержни электрода пикселя расположены на пассивирующем слое между изолирующими слоями, и изолирующий слой выполнен не в области вертикальной проекции стержней электрода пикселя.

[0018] При этом подложка матрицы дополнительно содержит пассивирующий слой; и электрод пикселя не перекрывается со вторым слоем сенсорного электрода, электрод пикселя содержит множество стержней электрода пикселя, изолирующий слой покрывает часть первого слоя сенсорного электрода, и пассивирующий слой выполнен на втором слое сенсорного электрода и первом слое сенсорного электрода, не покрытых изолирующим слоем, стержни электрода пикселя выполнены на пассивирующем слое, и изолирующий слой выполнен не между областью вертикальной проекции каждого из стержней электрода пикселя и стержнями электрода пикселя.

[0019] При этом первый слой сенсорного электрода представляет собой слой общего электрода.

[0020] При этом подложка CF содержит черную матрицу, и второй слой сенсорного электрода выполнен в области вертикальной проекции черной матрицы.

[0021] С учетом вышеописанного изолирующий слой расположен между первым слоем сенсорного электрода и вторым слоем сенсорного электрода. В дополнение, область вертикальной проекции слоя электродов пикселей не содержит изолирующий слой. То есть изолирующий слой между первым слоем сенсорного электрода и вторым слоем сенсорного электрода находится не в области вертикальной проекции слоя электродов пикселей. Таким образом, толщина изолирующего слоя между первым слоем сенсорного электрода и вторым слоем сенсорного электрода может не влиять на зазор между электродом пикселя и общим электродом на другой подложке. Также зазор между электродом пикселя и общим электродом на подложке матрицы может быть не затронут. Таким образом, когда толщина изолирующего слоя между первым слоем сенсорного электрода и вторым слоем сенсорного электрода увеличена для уменьшения паразитной емкости между слоями сенсорных электродов, предотвращено влияние на размеры жидкокристаллического конденсатора и накопительного конденсатора.

КРАТКОЕ ОПИСАНИЕ ГРАФИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВ

[0022] На фиг. 1 показан схематический вид традиционной жидкокристаллической панели.

[0023] На фиг. 2 показан схематический вид традиционной сенсорной панели, изготавливаемой посредством технологии in-cell.

[0024] На фиг. 3 показан схематический вид подложки матрицы сенсорной панели в соответствии с одним вариантом осуществления.

[0025] На фиг. 4 показан схематический вид подложки матрицы сенсорной панели в соответствии с другим вариантом осуществления.

[0026] На фиг. 5 показан схематический вид сенсорной панели в соответствии с одним вариантом осуществления.

ПОДРОБНОЕ ОПИСАНИЕ ВАРИАНТОВ ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ

[0027] Варианты осуществления настоящего изобретения будут описаны далее более подробно со ссылкой на прилагаемые графические материалы, на которых показаны варианты осуществления настоящего изобретения.

[0028] Далее будут описаны подложка матрицы и жидкокристаллическая панель, которые могут быть применены в настоящем изобретении. Подложка матрицы и подложка цветового фильтра (CF) соединены вместе, и между подложкой матрицы и подложкой CF предусмотрены жидкие кристаллы для получения жидкокристаллической панели. При этом жидкокристаллический конденсатор представляет собой плоский конденсатор, образованный электродом пикселя на подложке матрицы и общим электродом на подложке CF, и накопительный конденсатор представляет собой плоский конденсатор, образованный электродом пикселя на подложке матрицы и общим электродом на подложке матрицы.

[0029] На фиг. 3 показан схематический вид подложки матрицы сенсорной панели в соответствии с одним вариантом осуществления. Подложка матрицы содержит слой 31 электродов пикселей, первый слой 32 сенсорного электрода, изолирующий слой 33, уложенный последовательно на первый слой 32 сенсорного электрода, и второй слой 34 сенсорного электрода. То есть изолирующий слой 33 расположен между первым слоем 32 сенсорного электрода и вторым слоем 34 сенсорного электрода.

[0030] При осуществлении функции касания первый слой 32 сенсорного электрода может быть управляющим электродом, а второй слой 34 сенсорного электрода может быть индикаторным электродом. Первый слой 32 сенсорного электрода и второй слой 34 сенсорного электрода совместно работают для выполнения функции касания/индикации.

[0031] Слой 31 электродов пикселей и второй слой 34 сенсорного электрода не перекрываются, и область вертикальной проекции слоя 31 электродов пикселей не содержит изолирующий слой 33. То есть изолирующий слой 33, образованный между первым слоем 32 сенсорного электрода и вторым слоем 34 сенсорного электрода, находится не в области вертикальной проекции слоя 31 электродов пикселей. Таким образом, когда подложка матрицы соединена с другой подложкой CF, толщина изолирующего слоя 33 между первым слоем 32 сенсорного электрода и вторым слоем 34 сенсорного электрода может не влиять на зазор между слоем 31 электродов пикселей и слоем общего электрода подложки CF. Также зазор между слоем 31 электродов пикселей и общим электродом на подложке матрицы может быть не затронут. Таким образом, когда толщина изолирующего слоя 33 между первым слоем 32 сенсорного электрода и вторым слоем 34 сенсорного электрода увеличена для уменьшения паразитной емкости между слоями 32, 34 сенсорных электродов, предотвращено влияние на размеры жидкокристаллического конденсатора и накопительного конденсатора таким образом, что качество отображения гарантировано.

[0032] Кроме того, в варианте осуществления подложка матрицы дополнительно содержит пассивирующий слой 35. Первый слой 32 сенсорного электрода представляет собой слой общего электрода подложки матрицы. Слой 31 электродов пикселей не перекрывается со вторым слоем 34 сенсорного электрода. Слой 31 электродов пикселей частично перекрывается с первым слоем 32 сенсорного электрода и находится над первым слоем 32 сенсорного электрода. Изолирующий слой 33 содержит множество изолирующих слоев 33 на первом слое 32 сенсорного электрода. Изолирующие слои 33 находятся на расстоянии друг от друга. Второй слой 34 сенсорного электрода расположен на одном из изолирующих слоев 33, и первый слой 32 сенсорного электрода между изолирующими слоями 33 не содержит на нем изолирующего слоя 33.

[0033] Пассивирующий слой 35 расположен на втором слое 34 сенсорного электрода, первом слое 32 сенсорного электрода между изолирующими слоями 33 и на изолирующем слое 33, не покрытом вторым слоем 34 сенсорного электрода. Слой 31 электродов пикселей содержит множество стержней 311 электрода пикселя, соответственно расположенных на пассивирующем слое 35 между изолирующими слоями 33. То есть стержни 311 электрода пикселя непосредственно покрывают пассивирующий слой 35 на первом слое 32 сенсорного электрода. В дополнение, стержни 311 электрода пикселя непосредственно контактируют с пассивирующим слоем 35 так, что область вертикальной проекции стержней 311 электрода пикселя не содержит изолирующий слой 33.

[0034] Таким образом, в варианте осуществления изолирующий слой 33 расположен между стержнями 311 электрода пикселя. В дополнение, изолирующий слой 33 между стержнями 311 электрода пикселя также содержит на нем пассивирующий слой 35.

[0035] При этом подложка матрицы дополнительно содержит основание 36 и изолирующий слой 37 затвора на основании 36, изоляционный слой (ILD) 38, металлический слой 39 сток-исток и органический изолирующий слой 40. Слой 31 электродов пикселей расположен на органическом изолирующем слое 40.

[0036] В одном варианте осуществления подложка матрицы может быть изготовлена согласно способу, включающему следующие этапы.

[0037] На этапе S41 предоставление основания 36.

[0038] На этапе S42 образование изолирующего слоя 37 затвора, слоя 38 ILD, металлического слоя 39 сток-исток и органического изолирующего слоя 40 последовательно.

[0039] На этапе S43 образование первого слоя 32 сенсорного электрода на органическом изолирующем слое 40.

[0040] На этапе S44 образование изолирующего слоя 33 на первом слое 32 сенсорного электрода, и изолирующий слой 33 покрывает первый слой 32 сенсорного электрода.

[0041] На этапе S45 удаление части изолирующего слоя 33 с образованием изолирующих слоев 33 на первом слое 32 сенсорного электрода, и изолирующие слои 33 находятся на расстоянии друг от друга. В дополнение, открытие первого слоя 32 сенсорного электрода между изолирующими слоями 33.

[0042] На этапе S46 образование второго слоя 34 сенсорного электрода на изолирующем слое 33.

[0043] На этапе S47 образование пассивирующего слоя 35 на первом слое 32 сенсорного электрода между вторым слоем 34 сенсорного электрода и изолирующим слоем 33 и на изолирующем слое 33, не покрытом вторым слоем 34 сенсорного электрода.

[0044] На этапе S48 образование стержней 311 электрода пикселя на пассивирующем слое 35 между изолирующими слоями 33.

[0045] Между этапами S45 и S46 и после образования изолирующего слоя 33 на первом слое 32 сенсорного электрода в качестве альтернативы второй слой 34 сенсорного электрода может быть образован на изолирующем слое 33. После этого второй слой 34 сенсорного электрода работает как самовыравнивающаяся маска для удаления изолирующего слоя 33, не покрытого вторым слоем 34 сенсорного электрода, с образованием изолирующих слоев 33 на первом слое 32 сенсорного электрода, и изолирующие слои 33 находятся на расстоянии друг от друга. В дополнение, первый слой 32 сенсорного электрода между изолирующими слоями 33 является открытым.

[0046] С учетом вышеописанного область вертикальной проекции стержней 311 электрода пикселя не содержит изолирующий слой 33. Таким образом, когда изолирующий слой 33 выполнен с разной толщиной для уменьшения паразитной емкости между первым слоем 32 сенсорного электрода и вторым слоем 34 сенсорного электрода, может быть предотвращено влияние изолирующего слоя 33 на жидкокристаллический конденсатор и накопительный конденсатор. Кроме того, путем выполнения стержней 311 электрода пикселя между изолирующим слоем 33 высота изолирующего слоя 33 может быть эталоном при образовании стержней 311 электрода пикселя для обеспечения плоскости каждого из стержней 311 электрода пикселя. Термин «плоскость» относится к постоянству высоты каждого из стержней 311 электрода пикселя.

[0047] На фиг. 4 показан схематический вид подложки матрицы сенсорной панели в соответствии с другим вариантом осуществления. Разница между фиг. 4 и 3 заключается в том, что в этом варианте осуществления изолирующие слои 33 образованы только в местах, соответствующих второму слою 34 сенсорного электрода. То есть изолирующие слои 33 не образованы в остальных местах, т. е. изолирующие слои 33 не образованы между стержнями 311 электрода пикселя.

[0048] Таким образом, после образования первого слоя 32 сенсорного электрода изолирующий слой 33 образован на первом слое 32 сенсорного электрода, и второй слой 34 сенсорного электрода образован на изолирующем слое 33. После этого второй слой 34 сенсорного электрода работает как самовыравнивающаяся маска для удаления изолирующего слоя 33, не покрытого вторым слоем 34 сенсорного электрода. Пассивирующий слой 35 образован на втором слое 34 сенсорного электрода и первом открытом слое 32 сенсорного электрода. Стержни 311 электрода пикселя образованы на пассивирующем слое 35, непосредственно контактирующем с первым слоем 32 сенсорного электрода, при этом стержни 311 электрода пикселя не перекрываются со вторым слоем 34 сенсорного электрода. Таким образом, область вертикальной проекции стержней 311 электрода пикселя не содержит изолирующий слой 33, и изолирующий слой 33 расположен только между первым слоем 32 сенсорного электрода и изолирующим слоем 33.

[0049] Что касается подложки матрицы в настоящем изобретении, процесс изготовления может быть упрощен по той причине, что изолирующий слой 33, не покрытый вторым слоем 34 сенсорного электрода, удален.

[0050] При этом в настоящем изобретении второй слой 34 сенсорного электрода расположен в соответствующей области вертикальной проекции черной матрицы, то есть второй слой 34 сенсорного электрода расположен между ячеек пикселей. Черная матрица расположена на подложке CF, и одна ячейка пикселя соответствует одному красному фоторезистивному слою (R), зеленому фоторезистивному слою (G) или одному синему фоторезистивному слою (B) на подложке CF.

[0051] В другом варианте осуществления первый слой 32 сенсорного электрода может представлять собой слой сенсорного электрода, дополнительно выполненный на подложке матрицы для осуществления функции касания и индикации. В этот момент слой 31 электродов пикселей не перекрывается с первым слоем 32, 34 сенсорного электрода.

[0052] На фиг. 5 показан схематический вид сенсорной панели в соответствии с одним вариантом осуществления. Сенсорная панель представляет собой жидкокристаллическую панель, обеспеченную функцией касания. Сенсорная панель содержит подложку 51 матрицы, подложку 52 CF и жидкокристаллический слой 53 между подложкой матрицы и жидкокристаллическим слоем 53.

[0053] Подложка 51 матрицы может представлять собой подложку матрицы в любом приведенном выше варианте осуществления. Если взять подложку матрицы на фиг. 3 в качестве одного примера, жидкокристаллический слой 53 содержит разделитель 531 для обеспечения зазора между жидкими кристаллами. Подложка 51 матрицы содержит слой 31 электродов пикселей, первый слой 32 сенсорного электрода и изолирующий слой 33 и второй слой 34 сенсорного электрода, расположенные последовательно на первом слое 32 сенсорного электрода. То есть изолирующий слой 33 расположен между первым слоем 32 сенсорного электрода и вторым слоем 34 сенсорного электрода.

[0054] Слой 31 электродов пикселей и второй слой 34 сенсорного электрода не перекрываются, и область вертикальной проекции слоя 31 электродов пикселей не содержит изолирующий слой 33. То есть изолирующий слой 33, образованный между первым слоем 32 сенсорного электрода и вторым слоем 34 сенсорного электрода, находится не в области вертикальной проекции слоя 31 электродов пикселей. Таким образом, когда подложка 51 матрицы и подложка 52 CF соединены вместе, толщина изолирующего слоя 33 между первым слоем 32 сенсорного электрода и вторым слоем 34 сенсорного электрода может не влиять на зазор между слоем 31 электродов пикселей и слоем общего электрода подложки CF. Также зазор между слоем 31 электродов пикселей и общим электродом на подложке матрицы может быть не затронут. Таким образом, когда толщина изолирующего слоя 33 между первым слоем 32 сенсорного электрода и вторым слоем 34 сенсорного электрода увеличена для уменьшения паразитной емкости между слоями 32, 34 сенсорных электродов, предотвращено влияние на размеры жидкокристаллического конденсатора и накопительного конденсатора таким образом, что качество отображения гарантировано.

[0055] Кроме того, в варианте осуществления подложка матрицы дополнительно содержит пассивирующий слой 35. Первый слой 32 сенсорного электрода представляет собой слой общего электрода подложки матрицы. Слой 31 электродов пикселей не перекрывается со вторым слоем 34 сенсорного электрода. Слой 31 электродов пикселей частично перекрывается с первым слоем 32 сенсорного электрода и находится над первым слоем 32 сенсорного электрода. Изолирующий слой 33 содержит множество изолирующих слоев 33 на первом слое 32 сенсорного электрода. Изолирующие слои 33 находятся на расстоянии друг от друга. Второй слой 34 сенсорного электрода расположен на одном из изолирующих слоев 33, и первый слой 32 сенсорного электрода между изолирующими слоями 33 не содержит на нем изолирующего слоя 33.

[0056] Пассивирующий слой 35 расположен на втором слое 34 сенсорного электрода, первом слое 32 сенсорного электрода между изолирующими слоями 33 и на изолирующем слое 33, не покрытом вторым слоем 34 сенсорного электрода. Слой 31 электродов пикселей содержит множество стержней 311 электрода пикселя, соответственно расположенных на пассивирующем слое 35 между изолирующими слоями 33. То есть стержни 311 электрода пикселя непосредственно покрывают пассивирующий слой 35 на первом слое 32 сенсорного электрода. В дополнение, стержни 311 электрода пикселя непосредственно контактируют с пассивирующим слоем 35 так, что область вертикальной проекции стержней 311 электрода пикселя не содержит изолирующий слой 33.

[0057] При этом подложка матрицы дополнительно содержит основание 36 и изолирующий слой 37 затвора на основании 36, изоляционный слой (ILD) 38, металлический слой 39 сток-исток и органический изолирующий слой 40. Слой 31 электродов пикселей расположен на органическом изолирующем слое 40.

[0058] Подложка 52 CF содержит стеклянное основание 521 и фоторезистивный слой на стеклянном основании. Фоторезистивный слой содержит красный фоторезистивный слой, зеленый фоторезистивный слой и синий фоторезистивный слой. Каждый из фоторезистивных слоев соответствует одной ячейке пикселя на подложке 51 матрицы, причем показаны только красный фоторезистивный слой 523 и зеленый фоторезистивный слой 524. Подложка 52 CF содержит черную матрицу 522 и плоский слой 525. Подложка 52 CF дополнительно содержит слой общего электрода (не показан).

[0059] При этом разделитель 531 расположен в жидкокристаллическом слое 53 области вертикальной проекции черной матрицы 522.

[0060] Второй слой 34 сенсорного электрода подложки 51 матрицы расположен в области вертикальной проекции черной матрицы 522.

[0061] С учетом вышеописанного область вертикальной проекции слоя электродов пикселей не содержит изолирующий слой 33, так что изолирующий слой 33 может быть расположен между первым слоем 32 сенсорного электрода и вторым слоем 34 сенсорного электрода, или изолирующий слой 33 с разной толщиной может быть выполнен так, чтобы уменьшать паразитную емкость между первым слоем 32 сенсорного электрода и вторым слоем 34 сенсорного электрода. Таким образом, предотвращено влияние на размеры жидкокристаллического конденсатора и накопительного конденсатора так, что качество отображения гарантировано.

[0062] Считается, что настоящие варианты осуществления и их преимущества будут понятны из вышеизложенного описания, а также очевидно, что в них могут быть внесены различные изменения без отхода от сущности и объема настоящего изобретения или без ущерба для всех его материальных преимуществ, при этом описанные выше примеры представляют собой лишь предпочтительные или иллюстративные варианты осуществления настоящего изобретения.