×
10.05.2018
218.016.48ee

СПОСОБ ПОДГОТОВКИ СУБСТРАТА ДЛЯ ВЫРАЩИВАНИЯ ВЕШЕНКИ ОБЫКНОВЕННОЙ

Вид РИД

Изобретение

Юридическая информация Свернуть Развернуть
№ охранного документа
0002651140
Дата охранного документа
18.04.2018
Краткое описание РИД Свернуть Развернуть
Аннотация: Изобретение относится к области сельского хозяйства, в частности к грибоводству, и биотехнологии. В способе подготавливают субстрат для выращивания вешенки обыкновенной с обработкой субстрата путем вымачивания его в емкости. Причем в процессе вымачивания производят озонирование субстрата генератором озона. Перед началом озонирования емкость закрывают крышкой, которая препятствует распространению озона в помещении. Озонирование производят или в течение 12-14 часов, или 6-8 часов, или 3-5 часов, либо в течение 1 часа при дозировке озона 1-2 мг/ч. Способ позволяет сократить срок обработки субстрата для инактивации или уничтожения вредных конкурентных организмов в процессе его вымачивания с использованием озона. 6 з.п. ф-лы, 1 ил., 1 табл.
Реферат Свернуть Развернуть

Изобретение относится к сельскому хозяйству и биотехнологии, а именно к способу подготовки субстрата, используемого при выращивании культуры гриба-ксилотрофа вешенки обыкновенной по индустриальной интенсивной европейской технологии.

В настоящее время чаще всего для подготовки субстратов используется метод тщательной термической обработки (автоклавирование, длительное пропаривание или кипячение) (Тишенков А.Д. Европа голосует за селективный субстрат вешенки // Школа грибоводства, 2007, №2. - С. 23-25). В этом случае подготавливаемый для инокуляции (посадки грибницы) субстрат (как правило, это солома) является фактически стерильным, но не обладает избирательностью (селективностью). Поэтому после инокуляции его посевным мицелием, особенно в отсутствие «чистой» зоны (т.е. при несоблюдении строгих правил асепции), наблюдается бурное развитие контаминирующих спор конкурирующих микроорганизмов, в том числе плесени, что зачастую приводит к значительному снижению, а в некоторых случаях и к полной потере урожая.

Наиболее опасными для гриба-ксилотрофа вешенки являются «сорные» плесени (виды микромицетов из родов Trichoderma, Aspergillus, Penicillium, Rhizomukor и др.) (см. патент №2409019 Способ бациллярной термоанаэробной подготовки качественного соломистого субстрата для интенсивного нестерильного культивирования вешенки обыкновенной, опубликовано 20.01.2011 г.). В процессе метаболизма большинство из них выделяет сильные токсины (антимикотики), к которым у еще неразвитого мицелия вешенки отсутствует устойчивость, он останавливается в росте и гибнет. Сильное негативное влияние на развитие мицелия вешенки токсинов микромицетов, которые не разрушаются даже при многочасовом воздействии высокими температурами, было обнаружено в процессе производства зерновой посадочной грибницы в ГНУ-ДВ ордена ТКЗ НИИСХ Россельхозакадемии. Приготовление качественного селективного субстрата состоит в инактивации или уничтожении вредных конкурентных организмов, но при этом должна сохраниться полезная (термофильная) микрофлора.

Наиболее близким к заявляемому техническому решению по решаемым технологией задачам является способ бациллярной термоанаэробной подготовки качественного соломистого субстрата для интенсивного нестерильного культивирования вешенки обыкновенной, сущность которого заключается в том, что отобранные качественные соломистые сельскохозяйственные отходы (солому, полову, труху), прошедшие комбайновый обмолот, сухие, золотистого цвета, не имеющие очагов прелости и сырости, замачивают в горячей воде со слабой разводкой бациллярной термофильной культуры B. cereus в эмалированных емкостях (чанах) с крышками и оставляют для последующего медленного остывания - упрощенная схема; или залитые горячей водой емкости с разводкой B. cereus помещают в термостаты для 12-часового прогревания (пастеризации) при 60°С и последующего 1,5-2-суточного остывания до 30°С - классическая схема. Культуру B. cereus используют «чистую», выращенную на питательной среде КГА, молодого возраста (до 15 дней). Бациллы B. cereus вносят в подготавливаемый субстрат в умеренном количестве - из расчета одного пробирочного косячка на 50-75-литровую емкость или одного газона обычной чашки Петри на 1,5-2-тонную емкость. Это относится к обеим схемам (патент на изобретение №2409019, опубликовано 20.01.2011 г.).

Недостатками известного способа являются:

1. Необходимость выращивания живых бацилл B. cereus на питательной среде КГА, что требует введения нового производственного процесса, следовательно, дополнительных затрат, времени, ресурсов.

2. Длительность процесса вымачивания субстрата в воде от 1,5 до 3 суток.

3. Высокие энергетические затраты, необходимые для подогрева воды до 60 градусов в промышленных масштабах.

Задачами, на которые направлено заявляемое техническое решение, являются:

1. Проведение обработки субстрата во время процесса его вымачивания, с целью предотвращения заражения субстрата вредными конкурентными организмами из водопроводной воды.

2. Сокращение сроков процесса обработки субстрата для инактивации или уничтожения вредных конкурентных организмов в процессе его вымачивания.

3. Получение готового субстрата при незначительных энергетических затратах.

4. Упрощение процесса приготовления субстрата.

Техническим результатом, на который направлено заявляемое изобретение, является сокращение срока обработки субстрата для инактивации или уничтожения вредных конкурентных организмов в процессе его вымачивания, с использованием озона.

Заявляемый технический результат достигается тем, что субстрат обрабатывают путем вымачивания в емкости, согласно изобретению в процессе вымачивания производят озонирование субстрата

Озонирование производят генератором озона.

Перед началом озонирования емкость закрывают крышкой, которая препятствует распространению озона в помещении.

Озонирование производят преимущественно в течение 12-14, 6-8, 3-5 часов или 1 часа при дозировке озона 1-2 мг. в ч. мг/ч.

Заявляемое техническое решение поясняется чертежом, на котором представлена система для озонирования субстрата.

Предлагаемый способ подготовки субстрата для выращивания вешенки обыкновенной осуществляют следующим образом.

На дно емкости 1, в которой производят вымачивание субстрата, кладут мелкую сетку 2, на которую плотно укладывают сухое сырье субстрата - солому (на чертеже не показана). Под сеткой 2 размещена выходная трубка 3 генератора озона 4. Емкость 1 заливают водой и закрывают крышкой 5. Затем запускают генератор озона 4. Генератор запускают дистанционно, из другого помещения, обеспечивая тем самым безопасность работы сотрудников. Крышка 5 закрывает емкость 1 негерметично, поэтому в процессе озонирования необходимо обеспечить отсутствие людей в помещении, в котором находится емкость 1. Данное помещение находится в закрытом состоянии, дезинфекции подвергаются столы, перчатки, мешки, инструменты и другие предметы, находящиеся в помещении. По выходной трубе 3 генератора озона 4 подают газ в концентрации 1 мг в час. Процесс озонирования длится 10-12 часов. Через заданное время генератор озона 4 отключают таймером. В течение последующих 10-30 минут озон распадается в воздухе, помещение становится безопасным для работы.

После обработки из субстрата удаляют избыточную влагу за счет открытия сливного отверстия 6 в емкости 1.

Заявляемый способ экспериментально исследован путем изменения времени озонирования субстрата для определения оптимального времени для различных целей, которые ставит перед собой производство, данные приведены в таблице. Полученные результаты показали, что для сокращения времени сбора урожая оптимальное время озонирования от 6 до 14 часов. Варианты дозировок озона и времени его использования, а также сроки хранения субстрата без вредных конкурентных организмов приведены в таблице.

Таким образом, заявляемый способ обработки субстрата позволяет сократить срок обработки субстрата для инактивации или уничтожения вредных конкурентных организмов в процессе его вымачивания, упростить способ подготовки субстрата для выращивания вешенки, а также снизить энергетические затраты.


СПОСОБ ПОДГОТОВКИ СУБСТРАТА ДЛЯ ВЫРАЩИВАНИЯ ВЕШЕНКИ ОБЫКНОВЕННОЙ
Источник поступления информации: Роспатент
+ добавить свой РИД