×
10.05.2018
218.016.474a

Результат интеллектуальной деятельности: УСТРОЙСТВО ДЛЯ ГЕНЕРАЦИИ ВТОРОЙ ГАРМОНИКИ ОПТИЧЕСКОГО ИЗЛУЧЕНИЯ

Вид РИД

Изобретение

Аннотация: Изобретение относится к квантовой электронике, а именно к устройствам удвоения частоты оптического излучения. Устройство для генерации второй гармоники оптического излучения содержит активный элемент на основе нитрида алюминия. Активный элемент выполнен по меньшей мере из одной пары чередующихся слоев: слоя (1) из нитрида алюминия собственной проводимости толщиной 100-900 нм и слоя (2) из материала с металлической проводимостью толщиной 1-5 нм. Изобретение обеспечивает повышение эффективности генерации второй гармоники оптического излучения. 2 з.п. ф-лы, 4 ил.

Изобретение относится к квантовой электронике, а именно к устройствам удвоения частоты оптического излучения.

Известно устройство для генерации второй гармоники оптического излучения (см. заявка WO 9950709, МПК H01S 03/16, опубликована 07.10.1999), содержащее двулучепреломляющий нелинейный кристалл GdxY1-xCa4O(BO3)3, где 0.01<=х<=0.35.

Недостатком данного подхода является малая нелинейная восприимчивость таких кристаллов, что снижает эффективность генерации второй гармоники.

Известно устройство для генерации второй гармоники оптического излучения (см. авт. свид. RU 784550, МПК G02F 1/37, опубликовано 20.05.2000), состоящее из волноводного слоя, нанесенного на подложку, гребенчатого электрода, нанесенного на волноводный слой, отличающееся тем, что с целью генерации второй гармоники в материалах, не обладающих нелинейной восприимчивостью второго порядка, подложка выполнена из полупроводникового материала, а период структуры гребенчатого электрода, выбрав равным

где λ - длина волны излучения накачки;

nω и n - эффективные показатели преломления волноводных мод основой частоты и второй гармоники соответственно.

Устройство обеспечивает достижение так называемого «квазисинхронизма» за счет поворота поляризации кристалла в противоположном направлении по достижении длины синхронизма. Это позволяет использовать для нелинейного преобразования одноосные нелинейные кристаллы с высоким значением квадратичной нелинейной восприимчивости. Недостатком известного устройства является снижение эффективности преобразования по сравнению с истинным синхронизмом.

Известно устройство для генерации второй гармоники оптического излучения (см. заявка JPH 06347848, МПК G02F 01/37, H01S 05/00, опубликована 22.12.1994), содержащее нелинейный кристалл с наведенной периодической поляризацией. В данном устройстве доменная структура направления поляризации уже закреплена при изготовлении кристалла, что существенно упрощает устройство в использовании.

Недостатком устройства является применение квазисинхронизма, снижающего эффективность нелинейного преобразования.

Известно устройство для генерации второй гармоники оптического излучения (см. заявка WO 2009075363, МПК G02F 01/35, G02F 01/35, G02F 01/37, G02F 01/37, опубликована 18.06.2009), совпадающее с настоящим решением по наибольшему числу существенных признаков и принятое за прототип. Устройство-прототип содержит активный элемент из нитрида алюминия AIN, имеющего структуру с периодически меняющимся на противоположное направлением поляризации кристалла. Устройство может осуществлять удвоение или утроение частоты оптического излучения за счет квазисинхронизма.

Недостатком прототипа является применение квазисинхронизма для согласования фаз, что снижает эффективность генерации второй гармоники.

Задачей настоящего изобретения является разработка такого устройства для генерации второй гармоники оптического излучения, которое бы обеспечивало повышение эффективности генерации второй гармоники оптического излучения.

Поставленная задача решается тем, что устройство для генерации второй гармоники оптического излучения содержит активный элемент на основе нитрида алюминия, выполненный из одной или нескольких пар чередующихся слоев нитрида алюминия собственной проводимости толщиной 100-900 нм и материала с металлической проводимостью толщиной 1-5 нм.

Новым в устройстве является выполнение активного элемента в виде по меньшей мере из одной пары чередующихся слоев нитрида алюминия собственной проводимости толщиной 100-900 нм и материала с металлической проводимостью толщиной 1-5 нм.

В устройстве материал с металлической проводимостью может быть выполнен из нитрида алюминия, легированного до концентрации от 1⋅1012 см-2 до 1⋅1014 см-2 или из металла.

Настоящее устройство может быть выращено на подложке, например, из Si, или GaAs, или AlN, или InP, или AlGaN, или Аl2O3, или β-Ga2O3. После чего подложка может быть удалена.

Настоящее устройство поясняется чертежом, где

на фиг. 1 схематически показано в разрезе настоящее устройство;

на фиг. 2 приведен расчет зависимости длины когерентности в предлагаемом устройстве от угла распространения при генерации второй гармоники для волны второй гармоники 545 нм;

на фиг. 3 приведен расчет зависимости длины когерентности в настоящем устройстве от угла распространения при генерации второй гармоники для волны второй гармоники 550 нм;

на фиг. 3 приведен расчет зависимости длины когерентности в настоящем устройстве от угла распространения при генерации второй гармоники для волны второй гармоники 555 нм.

Устройство для генерации второй гармоники оптического излучения (фиг. 1) содержит активный элемент на основе нитрида алюминия в виде одной или нескольких пар чередующихся слоев - слоя 1, состоящего из нитрида алюминия собственной проводимости толщиной 100-900 нм, и слоя 2, обладающего металлической проводимостью и состоящего из нитрида алюминия, легированного до концентрации от 1⋅1012 см-2 до 1⋅1014 см-2 или из металла толщиной 1-5 нм.

Диапазон толщин слоя 1 и слоя 2 определяют из следующих условий. Свет, распространяясь в подобных структурах, имеет характерный закон дисперсии, определяемый свойствами используемых материалов и соотношением между толщинами слоев полупроводника и металла. Толщина полупроводника должна быть порядка длины волны распространяющегося в материале света, чтобы свет испытывал воздействие возмущения показателя преломления в подобной периодической структуре. Выбор толщины слоя 2 с металлической проводимостью определяется тем, что он должен быть более чем на порядок тоньше слоя полупроводника, чтобы уменьшить поглощение в нем, но при этом иметь достаточную толщину, обеспечивающую дисперсионное изменение показателя преломления, удовлетворяющее условию согласования фаз 2k1= k2, где k1 - волновой вектор фундаментальной гармоники, а k2 - волновой вектор второй гармоники. Таким образом, нижняя граница толщины нитрида алюминия собственной проводимости 100 нм определяется краем поглощения нитрида алюминия для излучения второй гармоники. Верхняя граница толщины слоя нитрида алюминия 900 нм определяется тем, что с практической точки зрения генерации второй гармоники является важной для получения света в видимом - ультрафиолетовом спектральном диапазоне (250-700 нм). Нижняя граница слоя с металлической проводимостью 1 нм определяется технологической достижимостью, а верхняя граница 5 нм обусловлена требованием малого поглощения в этих слоях. Границы уровня концентрации задаются тем, что при достижении нижнего уровня концентрации легирования 1⋅1012 см-2 нитрид алюминия приобретает металлическую проводимость, верхняя граница 1⋅1014 см-2 определяется технологически достижимым уровнем.

Настоящее устройство работает следующим образом. Свет фундаментальной гармоники вводят в активный элемент под некоторым углом к его поверхности. Свет распространяется по активному элементу, возбуждает нелинейное взаимодействие со средой активного элемента, в результате чего возникает генерация второй гармоники, излучающейся из поверхности, противолежащей поверхности ввода фундаментальной гармоники. Величина угла φ распространения света в активном элементе зависит от выбора толщин слоев 1 и 2 и длины волны фундаментальной гармоники, и лежит в диапазоне 0°<φ<90° так, чтобы волновой вектор света имел ненулевую проекцию как на направление вдоль слоев 1 и 2, так и на направление чередования слоев 1 и 2. Соотношение между этими проекциями задает тангенс угла распространения, который становится еще одним управляемым параметром задачи (помимо толщин слоев 1 и 2 и закона дисперсии света в металлическом и полупроводниковом материале слое 1 и 2). Управляя толщинами слоев 1 и 2, а также углом распространения света φ, можно добиться нулевой дисперсии показателя преломления для фундаментальной и второй гармоник, то есть достичь истинного фазового синхронизма и высокой эффективности генерации второй гармоники оптического излучения.

Были проведены теоретические расчеты, подтверждающие достижимость истинного согласования фаз, обеспечивающего максимальную эффективность генерации второй гармоники в настоящем устройстве для генерации второй гармоники оптического излучения. Обычно расчет дисперсии света в метаматериалах производят с помощью разложения по плоским волнам. Этот метод эффективен для структур с соотносимыми значениями толщин слоев. Для структуры настоящего устройства для генерации второй гармоники оптического излучения метод плоских волн применить не удается, поэтому для теоретических расчетов используют метод блоховских амплитуд. Для света, распространяющегося в плоскости слоев 1 и 2, такая структура представляет собой обыкновенный пленарный волновод. Модификация закона дисперсии происходит при распространении света поперек чередующихся слоев 1 и 2, как показано на фиг. 1. Диэлектрическая проницаемость εb в слое 2, обладающем металлической проводимостью, определяется как проницаемость плазмы с характерной плазменной частотой ωр:

где ω - частота оптического излучения, Гц;

а для полупроводникового материала слоя 1 формально учитывается хроматическая дисперсия (J. Pastrňák and L. Roskovcová. Refraction index measurements on AIN single crystals, Phys. Stat. Sol. 14, K5-K8, 1966) с помощью коэффициентов Селлмайера. Результаты расчета показывают, что для каждого направления распространения света внутри рассматриваемой многослойной системы существует свой закон дисперсии и свои области разрешенных и запрещенных значений длин волн. Задача генерации второй гармоники сводится к подбору таких значений параметров, при которых одновременно осуществляются два условия: свет на основной и удвоенной частотах распространяется в одном направлении; на основной и удвоенной частотах выполняется условие фазового синхронизма, которое в терминах длины L когерентности формулируется следующим образом:

Из расчета следует, что при достаточно точном задании угла ϕ распространения излучения длина L когерентности может достигать нескольких сантиметров, и даже нескольких десятков сантиметров, что более чем на два порядка выше значений, достигаемых в известных устройствах. Возникает задача исследования чувствительности предложенной системы к возможным неточностям в задании угла распространения и длины волны падающего света. Результаты проведенных теоретических расчетов показаны на фигурах 2, 3, 4. Показаны зависимости длины когерентности от угла распространения для трех значений длин волн (550±5 нм). Приведенные зависимости показывают, что для структуры с толщинами слоев 1 и 2, лежащих в заданных интервалах, можно достичь истинного синхронизма для различных длин волн второй гармоники за счет изменения угла распространения света через предлагаемое устройство для генерации второй гармоники оптического излучения. Кроме того, из представленных фигур видно, что для весьма существенной длины когерентности L=10 мм, обеспечивающей высокую степень фазового синхронизма и высокий коэффициент эффективности генерации второй гармоники оптического излучения, ширина пика составляет порядка 20", что является достижимым с практической точки зрения.


УСТРОЙСТВО ДЛЯ ГЕНЕРАЦИИ ВТОРОЙ ГАРМОНИКИ ОПТИЧЕСКОГО ИЗЛУЧЕНИЯ
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ГЕНЕРАЦИИ ВТОРОЙ ГАРМОНИКИ ОПТИЧЕСКОГО ИЗЛУЧЕНИЯ
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ГЕНЕРАЦИИ ВТОРОЙ ГАРМОНИКИ ОПТИЧЕСКОГО ИЗЛУЧЕНИЯ
Источник поступления информации: Роспатент

Показаны записи 41-50 из 114.
13.01.2017
№217.015.81e0

Способ измерения магнитного поля

Изобретение относится к способам измерения магнитного поля и включает воздействие на кристалл карбида кремния гексагонального или ромбического политипа, содержащего спиновые центры с основным квадруплетным спиновым состоянием, вдоль его кристаллографической оси с симметрии сфокусированным...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002601734
Дата охранного документа: 10.11.2016
13.01.2017
№217.015.83bb

Способ оценки качества гетероструктуры полупроводникового лазера

Изобретение относится к области контроля полупроводниковых устройств. Способ оценки качества гетероструктуры полупроводникового лазера включает воздействие на волноводный слой гетероструктуры полупроводникового лазера световым излучением, не испытывающим межзонное поглощение в его активной...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002601537
Дата охранного документа: 10.11.2016
13.01.2017
№217.015.91ea

Оксидный материал ловушки расплава активной зоны ядерного реактора

Группа изобретений относится к составам материалов для атомной энергетики, в частности к жертвенным материалам. Оксидный материал ловушки расплава активной зоны ядерного реактора, включающий AlO, FeO и/или FeO, первую целевую добавку в виде GdO или EuO, или SmO и вторую целевую добавку в виде...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002605693
Дата охранного документа: 27.12.2016
25.08.2017
№217.015.9b70

Четырехпереходный солнечный элемент

Четырехпереходный солнечный элемент включает последовательно выращенные на подложке (1) из p-Ge четыре субэлемента (2), (3), (4), (5), соединенные между собой туннельными p-n переходами (6, 7, 8), метаморфный градиентный буферный слой (9) между первым (2) и вторым (3) субэлементами и контактный...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002610225
Дата охранного документа: 08.02.2017
25.08.2017
№217.015.a56c

Оптический магнитометр

Изобретение относится к области измерения магнитных полей и касается оптического магнитометра. Магнитометр включает генератор низкой частоты, конденсатор, по меньшей мере одну катушку электромагнита, активный материал виде кристалла карбида кремния, содержащий по меньшей мере один спиновый...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002607840
Дата охранного документа: 20.01.2017
25.08.2017
№217.015.a5d3

Способ изготовления фотоэлемента на основе gaas

Способ изготовления фотопреобразователя на основе GaAs включает выращивание методом жидкофазной эпитаксии на подложке n-GaAs базового слоя n-GaAs, легированного оловом или теллуром, толщиной 10-20 мкм и слоя p-AlGaAs, легированного цинком, при х=0,2-0,3 в начале роста и при х=0,10-0,15 в...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002607734
Дата охранного документа: 10.01.2017
25.08.2017
№217.015.a9ae

Солнечный концентраторный модуль

Солнечный концентраторный модуль (1) содержит боковые стенки (2), фронтальную панель (3) с линзами (4) Френеля на внутренней стороне фронтальной панели (3), тыльную панель (9) с фоконами (6) и солнечные элементы (7), снабженные теплоотводящими основаниями (8). Теплоотводящие основания (8)...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002611693
Дата охранного документа: 28.02.2017
25.08.2017
№217.015.a9ce

Система управления платформой концентраторных солнечных модулей

Система управления платформой концентраторных солнечных модулей содержит платформу (6) с концентраторными каскадными солнечными модулями, оптический солнечный датчик (24), выполненный в виде CMOS матрицы, подсистему (7) азимутального вращения, подсистему (8) зенитального вращения, включающую...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002611571
Дата охранного документа: 28.02.2017
25.08.2017
№217.015.aa69

Метаморфный фотопреобразователь

Изобретение относится к полупроводниковой электронике и может быть использовано для создания солнечных элементов. Метаморфный фотопреобразователь включает подложку (1) из GaAs, метаморфный буферный слой (2) и по меньшей мере один фотоактивный p-n-переход (3), выполненный из InGaAs и включающий...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002611569
Дата охранного документа: 28.02.2017
25.08.2017
№217.015.aaa3

Способ изготовления наногетероструктуры со сверхрешеткой

Изобретение относится к электронной технике, в частности к способам создания наногетероструктур для фотопреобразующих и светоизлучающих устройств. Способ изготовления наногетероструктуры со сверхрешеткой включает выращивание на подложке GaSb газофазной эпитаксией из металлоорганических...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002611692
Дата охранного документа: 28.02.2017
Показаны записи 1-7 из 7.
10.01.2014
№216.012.95d2

Полупроводниковый электролюминесцентный излучатель

Изобретение к полупроводниковым электролюминесцентным излучателям с управляемыми цветовыми характеристиками. Полупроводниковый электролюминесцентный излучатель включает соединенный с источником электропитания полупроводниковый светоизлучающий кристалл, генерирующий световой поток при протекании...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002504048
Дата охранного документа: 10.01.2014
13.02.2018
№218.016.249d

Устройство для генерации второй гармоники оптического излучения

Изобретение относится к квантовой электронике, а именно к устройствам удвоения частоты оптического излучения. Устройство для генерации второй гармоники оптического излучения содержит активный элемент на основе нитрида алюминия. Активный элемент выполнен в виде волновода с воздушными обкладками,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002642472
Дата охранного документа: 25.01.2018
10.05.2018
№218.016.4617

Устройство для генерации второй гармоники оптического излучения

Изобретение относится к квантовой электронике, а именно к устройствам удвоения частоты оптического излучения. Устройство для генерации второй гармоники оптического излучения содержит активный элемент на основе нитрида алюминия, а также две обкладки из твердого раствора AlGaN. Активный элемент...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002650352
Дата охранного документа: 11.04.2018
30.11.2018
№218.016.a24c

Способ подачи газов в реактор для выращивания эпитаксиальных структур на основе нитридов металлов iii группы и устройство для его осуществления

Изобретение относится к технологии химического нанесения покрытий путем разложения газообразных соединений, в частности к способам введения газов в реакционную камеру. Способ подачи газов в реактор для выращивания эпитаксиальных структур на основе нитридов металлов III группы включает подачу в...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002673515
Дата охранного документа: 27.11.2018
01.03.2019
№219.016.ce12

Способ выращивания слоя нитрида галлия и способ получения нитридного полупроводникового устройства

Изобретение относится к технологии выращивания слоя нитрида галлия с использованием эпитаксии металлоорганических соединений из газовой фазы и получению нитридного полупроводникового устройства. Способ включает инжекцию в реактор газа - источника азота и газа - источника галлия для выращивания...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002414549
Дата охранного документа: 20.03.2011
11.03.2019
№219.016.daa6

Светоизлучающий прибор на основе нитридного полупроводника

Нитридный полупроводниковый светоизлучающий прибор включает в себя: нитридную полупроводниковую область n-типа, активный слой, сформированный на нитридной полупроводниковой области n-типа, и нитридную полупроводниковую область р-типа, сформированную на активном слое. Нитридная полупроводниковая...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002369942
Дата охранного документа: 10.10.2009
27.05.2023
№223.018.7099

Способ изготовления мощного полевого транзистора свч на полупроводниковой гетероструктуре на основе нитрида галлия

Изобретение относится к электронной технике СВЧ. Способ изготовления мощного полевого транзистора СВЧ на полупроводниковой гетероструктуре на основе нитрида галлия согласно изобретению включает формирование на лицевой поверхности подложкиполупроводниковой гетероструктуры на основе нитрида...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002787550
Дата охранного документа: 10.01.2023
+ добавить свой РИД