УПРАВЛЕНИЕ КОНТУРНЫМ ФОРМОВАНИЕМ

ОБЛАСТЬ ПРИМЕНЕНИЯ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Настоящее изобретение представляет способы и устройство для управления производством изделия при помощи устройства контурного формования. Более конкретно, управление устройством контурного формования на основе процесса сведения может осуществляться для производства контурно формованных линз до тех пор, пока конфигурация линзы не будет соответствовать критерия приемлемости.

ИЗЛОЖЕНИЕ СУЩНОСТИ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Соответственно, один аспект настоящего изобретения представляет реализацию процесса сведения для создания контурно формованной контактной линзы, соответствующей критериям приемлемости, предъявляемым к конфигурации линзы. Например, использование ЦМУ-демонстрации может привести к созданию линзы, не соответствующей критериям приемлемости, причем процесс сведения может быть применен в следующей итерации. В процессе сведения можно использовать одну или более из различных методик маскирования, технологии сведения и способа коррекций толщины.

Методика маскирования может включать одну или более из методики радиального маскирования, методики секторного маскирования, методики сегментного маскирования и методики областного маскирования, причем при необходимости можно использовать связующие зоны. Технология может включать одну или более из технологии одностороннего сведения и технологии двустороннего сведения. Соответственно, при использовании одной или обеих из технологии одностороннего сведения и технологии двустороннего сведения можно применять одну или обе из методики фиксации верхушки и методики поршневого смещения.

Более того, способ коррекции толщины может включать одно или более из коррекции толщины процентным способом, коррекции толщины арифметическим способом и коррекции толщины способом секущей. При использовании способа коррекции толщины может применяться либо способ равномерного пространственного усиления, либо способ неравномерного пространственного усиления. Может существовать множество типов способа неравномерного пространственного усиления, включая способ неравномерного пространственного усиления на основе функции и способ неравномерного пространственного усиления с прямым картированием.

Настоящее изобретение представляет способ управления производством офтальмологического устройства при помощи устройства контурного формования, содержащий стадии, на которых:

(a) подают инструкцию на устройство контурного формования для изготовления офтальмологического устройства;

(b) изготавливают офтальмологическое устройство при помощи устройства контурного формования на основе инструкции;

(c) измеряют офтальмологическое устройство;

(d) определяют, соответствует ли офтальмологическое устройство критериям приемлемости, предъявляемым к конфигурации линзы; и причем

(e) при выявлении несоответствия офтальмологического устройства критериям приемлемости способ дополнительно содержит стадию, на которой

(f) выполняют процесс сведения для приближения офтальмологического устройства к конфигурации линзы.

Процесс сведения может содержать стадию (g), на которой модифицируют предыдущую инструкцию для создания следующей инструкции, позволяющей получить следующее офтальмологическое устройство.

Способ может дополнительно содержать стадию (h), на которой изготавливают новое офтальмологическое устройство при помощи устройства контурного формования на основе следующей инструкции.

Способ может дополнительно содержать повторение стадий (g) и (h), пока не будет определено, что офтальмологическое устройство соответствует критериям приемлемости, предъявляемым к конфигурации линзы.

Устройство контурного формования может содержать цифровое микрозеркальное устройство (ЦМУ), и каждая инструкция может представлять собой инструкцию ЦМУ-демонстрации.

Процесс сведения может содержать методику сводящего маскирования.

Методика сводящего маскирования может содержать определение выбранного участка маскирования и избирательное выполнение процесса сведения внутри выбранного участка маскирования.

Методика сводящего маскирования может содержать определение выбранного участка маскирования и избирательное выполнение процесса сведения за пределами выбранного участка маскирования.

Выбранный участок маскирования может содержать один или более из радиуса сектора, сегмента и области.

Методика сводящего маскирования может содержать одну или более связующих зон.

Связующая зона может содержать одну или более указанных зон, соединяющих указанный выбранный участок маскирования с одним или более немаскированными участками.

Процесс сведения может содержать технологию сведения.

Технология сведения может содержать модификацию предыдущей инструкции на участках измеренного офтальмологического устройства, которые имеют слишком большую толщину по сравнению с целевой толщиной, и модификацию предыдущей инструкции на участках измеренного офтальмологического устройства, которые имеют слишком малую толщину по сравнению с целевой толщиной.

Технология сведения может содержать модификацию предыдущей инструкции только на тех участках измеренного офтальмологического устройства, которые являются слишком тонкими по сравнению с целевой толщиной.

Модификация предыдущей инструкции может содержать инструкцию увеличения значения на участках измеренного офтальмологического устройства, которые являются слишком тонкими по сравнению с целевой толщиной.

Технология сведения может содержать модификацию предыдущей инструкции только на тех участках измеренного офтальмологического устройства, которые являются слишком толстыми по сравнению с целевой толщиной.

Модификация предыдущей инструкции может содержать инструкцию уменьшения значения на участках измеренного офтальмологического устройства, которые являются слишком толстыми по сравнению с целевой толщиной.

Технология сведения может содержать методику поршневого смещения.

Методика поршневого смещения может содержать выполнение равномерного смещения на равную величину одной или более выбранных частей инструкции предыдущей ЦМУ-демонстрации.

Технология сведения может содержать методику фиксации верхушки.

Методика фиксации верхушки может содержать фиксированное значение I_CT, причем указанному I_CT присваивают указанное значение, которое остается постоянным в ходе следующей итерации.

Процесс сведения может содержать способ коррекции толщины.

Способ коррекции толщины может содержать один или более из процентного способ, арифметического способа и способа секущей.

Способ коррекции толщины может содержать процесс фильтрации одной или более точек данных.

Процесс фильтрации может содержать одно или более из определения, обнаружения, удаления и коррекции ошибок в указанных данных.

Способ коррекции толщины может содержать процесс подбора поверхности одной или более указанных точек данных.

Процесс подбора поверхности может содержать построение одной или обеих из поверхности и математической функции, наилучшим образом соответствующей серии указанных точек данных посредством реализации либо интерполяции, либо сглаживания.

Способ коррекции толщины может содержать способ равномерного пространственного усиления.

Способ равномерного пространственного усиления может обеспечивать применение одного или более одинаковых указанных способов коррекции толщины по всему указанному формируемому участку, причем величина коэффициента усиления одинакова для положения каждого пикселя.

Способ коррекции толщины может содержать способ неравномерного пространственного усиления.

Способ неравномерного пространственного усиления может содержать применение одного или более одинаковых указанных способов коррекции толщины по всему указанному формируемому участку, причем величина коэффициента усиления может быть разной для положения каждого пикселя.

Способ неравномерного пространственного усиления может представлять собой метод неравномерного пространственного усиления на основе функции.

Способ неравномерного пространственного усиления на основе функции может содержать соотнесение указанной величины коэффициента усиления с радиальным положением данного пикселя.

Способ неравномерного пространственного усиления может представлять собой метод неравномерного пространственного усиления с прямым картированием.

Способ неравномерного пространственного усиления с прямым картированием может содержать соответствующие данные из формируемого участка, полученные из одной или более из предыдущих ЦМУ-демонстраций, указанной измеренной линзы и указанной конфигурации линзы, причем необходимую указанную величину коэффициента усиления можно вычислить для положения каждого пикселя.

Настоящее изобретение дополнительно представляет устройство для модификации демонстрации цифрового микрозеркального устройства для создания контурно формованной офтальмологической линзы, приближающейся к конфигурации линзы, содержащее:

компьютерный процессор, сообщающийся по цифровой связи с устройством контурного формования; и

устройство хранения цифровых данных, сообщающееся с компьютерным процессором, причем на устройстве хранения цифровых данных хранится исполняемый программный код, выполняемый по требованию для реализации способа, описанного в настоящем изобретении.

На устройстве хранения цифровых данных необязательно хранятся цифровые данные, описывающие перечень данных, причем указанные данные содержат данные об одной или обеих из конфигурации линзы и ЦМУ-демонстрации.

КРАТКОЕ ОПИСАНИЕ ЧЕРТЕЖЕЙ

На фиг. 1 представлены стадии способов, которые можно использовать для реализации настоящего изобретения.

На фиг. 2a представлен пример методики радиального маскирования, которую можно использовать для реализации настоящего изобретения.

На фиг. 2b представлен пример методики секторного маскирования, которую можно использовать для реализации настоящего изобретения.

На фиг. 2c представлен пример методики сегментного маскирования, которую можно использовать для реализации настоящего изобретения.

На фиг. 2d представлен пример методики областного маскирования, которую можно использовать для реализации настоящего изобретения.

На фиг. 2e представлен пример связующих зон, которые можно использовать для реализации настоящего изобретения.

На фиг. 3 показано графическое представление на плоском пространстве технологии двустороннего сведения, которую можно использовать для реализации настоящего изобретения.

На фиг. 4 показано графическое представление на плоском пространстве технологии одностороннего сведения с использованием способа утолщающего храпового механизма, который можно использовать для реализации настоящего изобретения.

На фиг. 5 показано графическое представление на плоском пространстве технологии одностороннего сведения с использованием способа утончающего храпового механизма, который можно использовать для реализации настоящего изобретения.

На фиг. 6 и фиг. 7 показаны графические представления на плоском пространстве методики фиксации верхушки, которые можно использовать для реализации настоящего изобретения.

На фиг. 8 показано графическое представление на плоском пространстве методики поршневого смещения, которую можно использовать для реализации настоящего изобретения.

На фиг. 9 изображен процессор, который можно использовать для реализации настоящего изобретения.

ПОДРОБНОЕ ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Настоящее изобретение представляет способы и устройство для одного или обоих из создания и модификации ЦМУ-демонстраций для создания линзы, приближающейся к конфигурации линзы. В следующих разделах будет приведено подробное описание вариантов осуществления настоящего изобретения. Приведенные описания как предпочтительных, так и альтернативных вариантов осуществления, несмотря на детальность, представляют собой лишь примеры возможных вариантов осуществления, и подразумевается, что для специалиста в данной области будет очевидна возможность вариаций, модификаций и изменений. Таким образом, необходимо понимать, что указанные примеры возможных вариантов осуществления не ограничивают широту аспектов описываемого изобретения. Стадии способов, описанные в настоящем документе, перечислены в данном описании в логической последовательности, однако данная последовательность никоим образом не ограничивает порядок, в котором они могут быть реализованы, если особо не указано другое.

ОПРЕДЕЛЕНИЯ

В приведенном описании и пунктах формулы, относящихся к настоящему изобретению, могут быть использованы различные термины, для которых будут приняты следующие определения.

В настоящем документе «критерии приемлемости» обозначают один или оба из указанного диапазона параметров и указанных значений параметров таким образом, что если измеренные параметры изготовленной линзы или предшественника линзы находятся в диапазоне или совпадают со значениями одного или обоих из конфигурации линзы и необходимого целевого файла, то изготовленный продукт можно считать приемлемым.

В настоящем документе «связующая зона» обозначает смежную область, связывающую одну или обе из части линзы с другой смежной частью линзы и частью ЦМУ-демонстрации с другой смежной частью ЦМУ-демонстрации. Связующая зона представляет собой область, в которой свойства одной части линзы смешиваются со свойствами другой смежной части линзы.

В настоящем документе «элемент каталога» обозначает файл, элемент, компонент, конфигурацию, данные или дескриптор, которые могут временно или постоянно храниться, например, в библиотеках или базах данных и могут вызываться для использования без повторного создания.

В настоящем документе «устройство контурного формования» обозначает оборудование и способы производства одного или более из формы предшественника линзы, предшественника линзы и линзы, причем устройство может включать, например, использование актиничного излучения, реакционной смеси и ЦМУ-устройств.

В настоящем документе «сведение» (также иногда называемое в настоящем документе «процессом сведения» или «сближением» с тем же значением, что и «процесс сведения») обозначает процесс модификации инструкции и использования модифицированной инструкции в итерационном цикле. Итерации могут продолжаться до тех пор, пока параметры следующей изготовленной линзы не станут соответствовать одному или обоим из критериев приемлемости и необходимого целевого файла. Инструкция может представлять собой файл ЦМУ или файлы ЦМУ.

В настоящем документе «изогнутое пространство» обозначает пространство координатного отображения (например, декартово, полярное, сферическое и т.п.), где кривизна конфигурации не была устранена.

В настоящем документе «специализированный продукт» обозначает продукт, включающий один или более параметров, которые могут быть доступны помимо шагов приращения. Параметры специализированного продукта предусматривают большую точность сферической силы, цилиндрической силы и оси цилиндра (например, -3,125 дптр/-0,47 дптр ×18°), чем параметры стандартного продукта, и могут включать параметры базовой кривизны, диаметров, профилей стабилизации и профилей толщины, связанные с конкретной областью применения предлагаемого продукта.

В настоящем документе «необходимый целевой файл» или «целевой файл» обозначает данные, представляющие один или более из конфигурации линзы, карты толщины, конфигурации предшественника линзы, конфигурации формы предшественника линзы, конфигурации элемента предшественника линзы и их комбинаций. Необходимый файл может быть представлен или в гидратированном, или негидратированном состоянии в плоском или изогнутом пространстве, в двухмерном или трехмерном пространстве и способами, включающими, без ограничений, геометрические чертежи, профиль оптической силы, форму, характеристики, толщину и т.д. Необходимые целевые файлы могут содержать данные с решеткой, имеющей регулярные или нерегулярные интервалы.

В настоящем документе «раздел цифровой основы» обозначает диапазон продуктов, где выбранные элементы предшественника линзы или управляющие параметры или другие элементы могут быть идентичны и оставаться постоянными в указанном диапазоне продуктов.

В настоящем документе ЦМУ (цифровое микрозеркальное устройство) обозначает бистабильный пространственный модулятор света, состоящий из матрицы микрозеркал, выполненных с возможностью перемещения, установленных на чип КМОП-памяти. Каждое зеркало может по отдельности управляться путем загрузки данных в ячейку памяти под зеркалом для направления отраженного света, позволяя пространственно отображать пиксель видеоданных на пиксель экрана. Данные электростатически управляют углом наклона зеркала, которое может находиться в двух состояниях: под углом +X градусов («включено») и под углом - X градусов («выключено»). Например, в указанных устройствах X может составлять либо 10 градусов, либо 12 градусов (номинал); будущие устройства могут содержать различные углы наклона. Свет, отраженный от зеркал, находящихся во «включенном» состоянии, проходит через проектирующую линзу и направляется на экран. Свет, отраженный от зеркал, находящихся в «выключенном» состоянии, создает темное поле и определяет черный уровень фона изображения. Изображения создаются модуляцией уровня серого путем быстрого переключения зеркал между состояниями «включено» и «выключено» с частотой, достаточной для восприятия наблюдателем. Каждое зеркало может получать ряд инструкций от одного, ни от одного или от множества ЦМУ-демонстраций. Выбранные зеркала могут быть «включены» в процессе производства линзы. ЦМУ (цифровое микрозеркальное устройство) может находиться в цифровых проекционных системах (DLP).

В настоящем документе «управляющее ЦМУ программное обеспечение» обозначает программное обеспечение, использующее файлы ЦМУ и ЦМУ-демонстрации, что позволяет производить предшественники линзы или элементы предшественников линз.

В настоящем документе «ЦМУ-демонстрация» или «файл ЦМУ» обозначает набор одних или обоих из хронологических инструкционных точек данных и инструкционных точек данных на основе толщины, которые могут использоваться для активации зеркал ЦМУ и позволяют производить линзу, предшественника линзы, форму предшественника линзы или элемент(ы) предшественника линзы. ЦМУ-демонстрация может иметь различные форматы, наиболее распространенными из которых являются (x, y, t) и (r, θ, t), где x и y, например, являются положениями зеркал ЦМУ в прямоугольной системе координат, r и θ являются положениями зеркал ЦМУ в полярной системе координат, а t представляет временные инструкции, управляющие состояниями зеркал ЦМУ. ЦМУ-демонстрации могут содержать данные с решеткой, имеющей регулярные или нерегулярные интервалы.

В настоящем документе «условия производственного процесса» обозначают параметры, условия, способы, оборудование и процессы, используемые при производстве одного или более из предшественника линзы, формы предшественника линзы и линзы.

В настоящем документе «фильтрация» обозначает процесс, включающий один или более из определения, обнаружения, удаления и коррекции ошибок в указанных данных для сведения к минимуму влияния ошибок входных данных на следующие анализы.

В настоящем документе «плоское пространство» обозначает пространство координатного отображения (например, декартово, полярное, сферическое и т.п.), где кривизна конфигурации считается устраненной.

В настоящем документе «текучая линзообразующая реакционная среда» обозначает реакционную смесь, которая способна течь в первоначальной форме, прореагировавшей форме или частично прореагировавшей форме и которая при дополнительной обработке может превращаться в часть офтальмологической линзы.

В настоящем документе «свободная форма» или «свободно формованная» (также иногда называемая «контурно формованной» или «контурной формой» с тем же значением, что и «контурно формованная») обозначает поверхность, образующуюся при образовании сшивок в реакционной смеси в результате повоксельного воздействия актиничного излучения, со слоем текучей среды или без такового, а не сформированная при помощи литья, токарной обработки или лазерной абляции. Подробное описание способов свободного формования раскрыто в патенте США № US2009/0053351 и патенте США № US2009/0051059.

В настоящем документе «итерация» обозначает создание следующего файла ЦМУ/ЦМУ-демонстрации, которая в дальнейшем используется в процессе сведения для обеспечения соответствия критериям приемлемости.

В настоящем документе «итерационный цикл» обозначает один или серию стадий процесса, позволяющих изготовить линзу, предшественник линзы и элемент предшественника линзы таким образом, чтобы при каждом прохождении цикла один или более из линзы, предшественника линзы и элемента предшественника линзы становились более соответствующими необходимой конфигурации линзы, чем предыдущий вариант. Процесс сведения может содержать один или более итерационных циклов, в которых может осуществляться модификация одного или обоих из ЦМУ-демонстраций и условий производственного процесса.

В настоящем изобретении «линза» обозначает любое офтальмологическое устройство, находящееся в глазу или на нем. Такие устройства могут обеспечить возможность оптической или косметической коррекции. Например, термин «линза» может обозначать контактную линзу, интраокулярную линзу, накладную линзу, глазную вставку, оптическую вставку или другое аналогичное устройство, которое используется для коррекции или модификации зрения или для косметической коррекции физиологии глаза (например, изменения цвета радужной оболочки) без ущерба для зрения. Предпочтительные линзы могут представлять собой мягкие контактные линзы, которые могут быть изготовлены из силиконовых эластомеров или гидрогелей, которые включают без ограничений силикон-гидрогели и фторированные гидрогели.

Используемый в настоящем документе термин «конфигурация линзы» означает форму и/или функцию требуемой линзы, которая при изготовлении может обеспечить коррекцию оптической силы, приемлемое прилегание линзы (например, закрытие роговицы и перемещение), приемлемую ротационную устойчивость линзы и т.п. Конфигурация линзы может быть представлена либо в гидратированном, либо негидратированном состоянии, в плоском или изогнутом пространстве, в двухмерном или трехмерном пространстве, и с помощью способов, включающих один или более из геометрических рисунков, профиля оптической силы, формы, характеристик, толщины и т.п. Конфигурация линзы может содержать данные с решеткой, имеющей регулярные или нерегулярные интервалы.

Используемый в настоящем документе термин «заготовка линзы» означает составной объект, состоящий из формы для заготовки линзы и текучей линзообразующей реакционной среды, контактирующей с формой для заготовки линзы, которая может быть или не быть ротационно симметричной. Например, текучая линзообразующая реакционная среда может быть образована в процессе изготовления формы для заготовки линзы в объеме реакционной смеси. Отделение формы для заготовки линзы и текучей линзообразующей реакционной среды от объема реакционной смеси, использованной для изготовления формы для заготовки линзы, позволяет получить заготовку линзы. Кроме того, заготовка линзы может быть преобразована в другой объект либо путем удаления некоторого количества текучей линзообразующей реакционной среды, либо путем превращения некоторого количества текучей линзообразующей реакционной среды в нетекучий материал линзы.

Используемый в настоящем документе термин «элемент заготовки линзы», также именуемый «элемент», обозначает нетекучее основание формы для заготовки линзы и служит структурной основой заготовки линзы. Элементы заготовки линзы могут быть определены эмпирически или описаны математически с помощью контрольных параметров (высота, ширина, длина, форма, местоположение и т.д.) и могут быть изготовлены с применением инструкций ЦМУ-демонстрации. Примеры элементов заготовки линзы могут включать одну или более из: элемента края линзы, элемента зоны стабилизации, элемента формирователя объема донной части, элемента оптической зоны, элемента канавки, элемента отводного канала и т.п. Элементы предшественника линзы могут быть произведены с использованием вокселей актиничного излучения и могут быть встроены в офтальмологическую линзу при дополнительной обработке.

В настоящем документе «форма для предшественника линзы» обозначает нетекучий объект, который может быть подходящим для включения в офтальмологическую линзу при дополнительной обработке.

В настоящем документе «офтальмологическое устройство» или «продукт» обозначает один или более из линзы, предшественника линзы и формы предшественника линзы и может включать либо «стандартный продукт», либо «специализированный продукт».

В настоящем документе ПВ (от пика до впадины) обозначает разность между самой высокой точкой и самой низкой точкой на поверхности одного или более из измеренного предшественника линзы, измеренной формы предшественника линзы и измеренной линзы для одного или обоих из всей поверхности и указанного участка (например, оптической зоны) и может быть частью критериев приемлемости.

В настоящем документе СКЗ (среднеквадратичное значение) обозначает гладкость одного или более из измеренного предшественника линзы, измеренной формы предшественника линзы и измеренной линзы для одного или обоих из всей поверхности и указанного участка (например, оптической зоны) и может быть частью критериев приемлемости.

В настоящем документе «стандартный продукт» обозначает продукт с ограниченной доступностью параметров, таких как параметры, получаемые дискретными шагами. Например, параметры сферической силы могут быть доступны только с шагом 0,25 дптр (например, -3,00 дптр, 3,25 дптр, -3,50 дптр и т.п.); параметры цилиндрической силы могут быть доступны только с шагом 0,50 дптр (например, -0,75 дптр, -1,25 дптр, -1,75 дптр и т.п.); а параметры оси цилиндра могут быть доступны только с шагом 10° (например, 10°, 20°, 30° и т.п.). Другие параметры и элементы стандартного продукта, получаемые дискретными шагами, включают без ограничений радиусы базовой кривизны, диаметр, профили стабилизации и профили толщины.

В настоящем документе «подложка» обозначает физический объект, на котором могут быть установлены или образованы другие объекты.

В настоящем документе «подбор поверхности» обозначает процесс построения поверхности или математической функции, лучше всего соответствующей серии точек данных с возможными ограничениями. Подбор поверхности может включать либо интерполяцию, где необходимо точное соответствие данным, либо сглаживание, при котором создают «сглаживающую» функцию, обеспечивающую приблизительное соответствие данным.

В настоящем документе «карта толщины» обозначает двухмерное или трехмерное представление профиля толщины необходимого продукта, формы предшественника линзы или предшественника линзы. Карта толщины может находиться либо в плоском, либо в изогнутом координатном пространстве и может содержать данные с решеткой, содержащей регулярные или нерегулярные интервалы.

В настоящем документе «формируемый участок» обозначает одну или обе из всей линзы одной или более частей линзы, которые могут быть пропущены через итерации в ходе процесса сведения.

В настоящем документе «воксель», также называемый «вокселем актиничного излучения», обозначает объемный элемент, представляющий значение на решетке, содержащей регулярные или нерегулярные интервалы в трехмерном пространстве. Воксель может рассматриваться как трехмерный пиксель, однако если пиксель представляет данные двухмерного изображения, воксель включает и третье измерение. Кроме того, хотя вокселы часто используют для визуализации и анализа медицинских и научных данных, в настоящем изобретении воксел применяют для задания границ дозы актиничного излучения, попадающего в некоторый объем реакционной смеси и тем самым контролирующего скорость поперечной сшивки или полимеризации в конкретном объеме реакционной смеси. В качестве примера, в рамках настоящего изобретения воксели считаются расположенными в одном слое, прилегающими к двухмерной поверхности формы для литья, причем актиничное излучение может быть направлено по нормали к двухмерной поверхности и вдоль общей для каждого вокселя оси. В качестве примера, конкретный объем реакционной смеси может быть сшит или полимеризован в соответствии с разбиением на 768×768 вокселей.

Линза может быть произведена на основе необходимой конфигурации линзы с использованием ЦМУ-демонстраций. Более того, произведенная линза может не соответствовать критериям приемлемости, предъявляемых к конфигурации линзы, причем может потребоваться выполнение итерации предыдущей ЦМУ-демонстрации. Например, итерация предыдущей ЦМУ-демонстрации может обеспечить лучшее сведение необходимой конфигурации линзы.

На фиг. 1 представлена блок-схема возможных стадий способа для реализации настоящего изобретения. В пункте 101 в некоторых вариантах осуществления поверхность линзы может проверяться на предмет аномалий поверхности (например, вкраплений, грязи и т.п.), которые могут на ней присутствовать. В пункте 102 после выявления наличия аномалий на поверхности линзы линза может быть отбракована, и может быть изготовлена новая линза, например, с использованием тех же параметров, что и у предыдущей ЦМУ-демонстрации. В пункте 103, если аномалии на поверхности линзы не обнаруживаются, можно определить значение ПВ. Если значение ПВ является неприемлемым, в пункте 104 можно указать параметры следующей итерации ЦМУ-демонстрации и изготовить новую линзу. Если значение ПВ является приемлемым, в пункте 105 можно определить, находится ли значение СКЗ в необходимой оптической зоне. Если значение СКЗ является неприемлемым, в пункте 104 можно указать параметры следующей ЦМУ-демонстрации и изготовить новую линзу. Если значение СКЗ является приемлемым, в пункте 106 можно определить соответствует ли измеренная линза другим спецификациям толщины (например, по геометрической форме периферии). Если другие спецификации толщины являются неприемлемыми, в пункте 104 можно указать параметры следующей итерации ЦМУ-демонстрации и провести итерацию линзы. Если другие спецификации толщины являются приемлемыми, в пункте 107 линзу можно передавать в последующую обработку.

Как описано в указанных выше стадиях способа, возможны ситуации, когда в предыдущей ЦМУ-демонстрации создается линза, не соответствующая критериям приемлемости, предъявляемым к конфигурации линзы, и необходима следующая итерация.

В процессе сведения можно использовать одну или более различных методик, технологий и способов. При выполнении процесса сведения следующая инструкция ЦМУ-демонстрации следующей итерации может представлять собой одну или обе из измененной предыдущей инструкции ЦМУ-демонстрации, комбинации инструкции предыдущей демонстрации с одной или более другими инструкциями ЦМУ-демонстрации и комбинации двух или более ЦМУ-демонстраций. Например, для следующей итерации можно комбинировать друг с другом две или более части из одной или множества ЦМУ-демонстраций. Соответственно, итерационный цикл процесса сведения может непрерывно повторяться до тех пор, пока линза не будет соответствовать критериям приемлемости, предъявляемым к конфигурации линзы.

В некоторых аспектах настоящего изобретения в процессе сведения может быть реализована методика маскирования. В некоторых вариантах осуществления методика маскирования может включать одну или более из методики радиального маскирования, методики секторного маскирования, методики сегментного маскирования и методики областного маскирования. В некоторых связанных вариантах осуществления одна или более методик маскирования могут быть применены либо к одной ЦМУ-демонстрации, либо к двум или более ЦМУ-демонстрациям, которые могут использоваться в следующей итерации. Кроме того, одна или более методик маскирования могут быть применены к формируемому участку линзы, который может включать одну или обе из целой линзы и одной или более частей линзы.

Более того, методика маскирования может использоваться для дополнительного сведения конфигурации линзы, даже если измеренная линза уже соответствует необходимым критериям приемлемости. Например, значение ПВ измеренной линзы может быть приемлемым, но выполнение методики маскирования в следующей итерации позволит выполнить сведение конфигурации линзы еще качественнее и, следовательно, добиться более высоких характеристик линзы, таких как коррекция зрения с более высокой точностью, чем это было бы возможно без использования методики маскирования.

На фиг. 2a-2d представлены разнообразные примеры разных методик маскирования на плоском пространстве. При реализации методики маскирования пользователь может указать одну или более границ, внутри которых может использоваться одна ЦМУ-демонстрация, а за пределами которых может использоваться другая ЦМУ-демонстрация.

На фиг. 2a представлен пример методики радиального маскирования применительно к ЦМУ-демонстрации. При использовании методики радиального маскирования для следующей итерации можно указать, чтобы одна или более частей одной или более ЦМУ-демонстраций выполнялись внутри определенного радиуса 201. Кроме того, можно указать, чтобы одна или более разных ЦМУ-демонстраций выполнялись в пределах одного или обоих из одного или более радиусов конфигурации линзы и всей оставшейся части конфигурации линзы.

На фиг. 2b представлен пример методики секторного маскирования применительно к ЦМУ-демонстрации. При использовании методики секторного маскирования для следующей итерации можно указать, чтобы одна или более частей одной или более ЦМУ-демонстраций выполнялись внутри определенного сектора 202. Кроме того, можно указать, чтобы одна или более разных ЦМУ-демонстраций выполнялись в пределах одного или обоих из одного или более секторов конфигурации линзы и всей оставшейся части конфигурации линзы.

На фиг. 2c представлен пример методики сегментного маскирования применительно к ЦМУ-демонстрации. При использовании методики сегментного маскирования для следующей итерации можно указать, чтобы одна или более частей одной или более ЦМУ-демонстраций выполнялись внутри определенного сегмента 203, 204. Кроме того, можно указать, чтобы одна или более разных ЦМУ-демонстраций выполнялись в пределах одного или обоих из одного или более сегментов конфигурации линзы и всей оставшейся части конфигурации линзы.

На фиг. 2d представлен пример методики областного маскирования применительно к ЦМУ-демонстрации. При использовании методики областного маскирования для следующей итерации можно указать, чтобы одна или более частей одной или более ЦМУ-демонстраций выполнялись внутри определенной области 205. Кроме того, можно указать, чтобы одна или более разных ЦМУ-демонстраций выполнялись в пределах одной или обеих из одной или более областей конфигурации линзы и всей оставшейся части конфигурации линзы.

При использовании методики маскирования можно указать одну или более связующих зон 206. Например, при реализации методики маскирования можно использовать одну или более связующих зон 206, и две или более частей 207, 208 либо одной ЦМУ-демонстрации, либо двух или более ЦМУ-демонстраций не будут соединяться друг с другом при их комбинации в следующей ЦМУ-демонстрации, как показано на фиг. 2e. Связующая зона 206 находится между частью 207 линзы и смежной частью 208 линзы. В каждой связующей зоне свойства части 207 линзы смешиваются со свойствами смежной части 208 линзы.

В некоторых дополнительных аспектах настоящего изобретения в процессе сведения могут быть реализованы различные технологии сведения с применением одной или обеих из технологии одностороннего сведения и технологии двухстороннего сведения. В некоторых вариантах осуществления технология двустороннего сведения может использоваться при выполнении итерации предыдущей ЦМУ-демонстрации для сведения конфигурации линзы в следующей ЦМУ-демонстрации. Например, в ходе предыдущей демонстрации можно создать части линзы, одна или обе из которых могут быть толще конфигурации линзы или тоньше конфигурации линзы. При выполнении технологии двустороннего сведения итерацию для следующей ЦМУ-демонстрации можно проводить путем коррекции одного или более параметров одной или обеих из инструкции, создавшей линзу с одной или более толстыми областями и одной или более тонкими областями, чем необходимо для конфигурации линзы. Корректировки могут затрагивать каждый пиксель предыдущей демонстрации, предназначенный для следующей демонстрации.

Также для сведения конфигурации линзы в следующей ЦМУ-демонстрации можно реализовать технологию одностороннего сведения. При выполнении итерации предыдущей ЦМУ-демонстрации в технологии одностороннего сведения можно использовать одну или обе из инструкции «утолщающий храповой механизм» и инструкции «утончающий храповой механизм». Например, в ходе предыдущей ЦМУ-демонстрации можно создать области линзы, одна или обе из которых могут быть толще конфигурации линзы или тоньше конфигурации линзы. Итерации со следующей демонстрационной инструкцией могут выполняться с корректировкой либо одного или более параметров инструкции, значения которых необходимо уменьшить, либо одного или более параметров инструкции, значения которых необходимо увеличить. Соответственно, корректировки могут затрагивать каждый пиксель выбранных областей, предназначенный для следующей демонстрационной инструкции.

На фиг. 3 показано графическое представление реализации технологии двустороннего сведения на плоском пространстве. В данном примере инструкция предыдущей ЦМУ-демонстрации 301 привела к созданию измеренной линзы 303 с областями линзы 306, более тонкими, чем целевая толщина 302, и областями линзы 305 более толстыми, чем целевая толщина 302, предъявляемая к необходимой конфигурации линзы.

В пункте 300 показано применение технологии двустороннего сведения к инструкции следующей ЦМУ-демонстрации 304. Инструкция следующей ЦМУ-демонстрации 304 приводит к образованию инструкции уменьшения значения в областях 307 инструкции предыдущей ЦМУ-демонстрации 301, которые привели к созданию слишком толстых участков на измеренной линзе 303, по сравнению со значением целевой толщины 302. В областях 307 значения следующей инструкции будут меньше значений предыдущей инструкции. Кроме того, инструкция следующей ЦМУ-демонстрации приводит к образованию инструкции увеличения значения в областях 308 инструкции предыдущей ЦМУ-демонстрации 301, которые привели к созданию слишком тонких участков на измеренной линзе 303 по сравнению со значением целевой толщины 302.

На фиг. 4 показано графическое представление реализации технологии одностороннего сведения с использованием инструкции «утолщающий храповой механизм» на плоском пространстве. В данном примере инструкция предыдущей ЦМУ-демонстрации 401 привела к созданию измеренной линзы 403 со значениями областей 406, более толстыми, чем целевая толщина, и значениями областей 407, более тонкими, чем целевая толщина 402, предъявляемая к конфигурации линзы.

В пункте 400 показано применение технологии одностороннего сведения с использованием инструкции «утолщающий храповой механизм» 405 в инструкции следующей ЦМУ-демонстрации 404. Инструкция следующей ЦМУ-демонстрации 404 приводит к образованию инструкции увеличения только в областях 408 инструкции предыдущей ЦМУ-демонстрации 401, которые привели к созданию слишком тонких участков 407 на измеренной линзе 403 по сравнению со значением целевой толщины 402. Кроме того, в инструкции следующей ЦМУ-демонстрации 404 остаются неизменными инструкционные значения инструкции предыдущей ЦМУ-демонстрации 401, которые привели к созданию слишком толстых участков 406 на измеренной линзе 403 по сравнению со значением целевой толщины 402. Следовательно, в следующей итерации корректировке подвергаются только те части предыдущей демонстрации, которые привели к созданию слишком тонких участков 407 на измеренной линзе 403, тогда как другие области 409 в инструкции следующей ЦМУ-демонстрации 404 остаются неизменными. Предыдущая инструкция используется на участках 409 предыдущей инструкции, которые привели к созданию слишком толстых участков 406 на измеренной линзе 403 по сравнению со значением целевой толщины 402.

На фиг. 5 показано графическое представление реализации приема одностороннего сведения с использованием инструкции «утончающий храповой механизм» на плоском пространстве. В данном примере инструкция предыдущей ЦМУ-демонстрации 501 привела к созданию измеренной линзы 503 с областями более толстыми 506 и более тонкими 507, чем целевая толщина 502 конфигурации линзы.

В пункте 500 показано применение технологии одностороннего сведения с использованием инструкции «утончающий храповой механизм» 505 в инструкции следующей ЦМУ-демонстрации 504. Инструкция следующей ЦМУ-демонстрации 504 приводит к образованию инструкции только уменьшения значения в инструкции предыдущей ЦМУ-демонстрации 501, которые привели к созданию слишком толстых участков 506 на измеренной линзе 503 по сравнению со значением целевой толщины 502. Кроме того, в инструкции следующей ЦМУ-демонстрации 504 остаются неизменными инструкционные значения инструкции предыдущей ЦМУ-демонстрации 504, которые привели к созданию слишком тонких участков 507 на измеренной линзе 503 по сравнению со значением целевой толщины 502. Следовательно, в следующей итерации корректировке подвергаются только те части предыдущей демонстрации, которые привели к созданию слишком толстых участков 506 на измеренной линзе 503, тогда как другие области в инструкции следующей ЦМУ-демонстрации 504 остаются неизменными. В пункте 509 значения следующей инструкции будут меньше значений предыдущей инструкции. В пункте 508 используется предыдущая инструкция.

В некоторых дополнительных аспектах настоящего изобретения при реализации одного или более указанных выше технологий сведения могут использоваться различные методики, включая одну или обе из методики фиксации верхушки и методики поршневого смещения. При выполнении методики фиксации верхушки инструкционное значение, соответствующее верхушке предыдущей ЦМУ-демонстрации, может корректироваться в большую сторону на значение целевой толщины. Более того, другие выбранные области предыдущей инструкции могут корректироваться в большую сторону равномерно на ту же величину, что и значение верхушки, и верхушка может фиксироваться таким образом, чтобы ее значение было постоянным при других следующих ЦМУ-демонстрациях.

Например, при фиксации верхушки инструкция, соответствующая верхушке (I_CT), может корректироваться в большую сторону на значение целевой толщины верхушки и зафиксирована на данном уровне; измеренный интервал между I_CT и целевым значением толщины верхушки представляет собой фиксированное значение CT. Фиксированное значение CT (Δ^т) можно вычислить как разность между I_CT предыдущей демонстрации и значением целевой толщины верхушки в той же демонстрации. Затем значение Δ^т можно прибавить к каждой точке всей измеренной поверхности линзы и получить «модифицированный» файл толщины линзы для следующей ЦМУ-демонстрации. Таким образом, инструкция следующей ЦМУ-демонстрации позволяет создать «модифицированную» измеренную линзу, которую затем можно сравнить с конфигурацией линзы.

Кроме того, методика фиксации верхушки может использоваться для дополнительного сведения конфигурации линзы, даже если измеренная линза уже соответствует необходимым критериям приемлемости. Например, значение ПВ измеренной линзы может быть приемлемым, но использование методики фиксации верхушки в следующей итерации позволит выполнить сведение конфигурации линзы еще качественнее и, следовательно, добиться более высоких характеристик линзы, таких как коррекция зрения с более высокой точностью, чем это было бы возможно без использования методики фиксации верхушки.

На фиг. 6 показано графическое представление использования методики фиксации верхушки на плоском пространстве, когда центральная часть линзы слишком тонкая, и на фиг. 7 показано графическое представление использования методики фиксации верхушки на плоском пространстве, когда центральная часть линзы слишком толстая. Кроме того, как на фиг. 6, так и фиг. 7 на плоском пространстве представлены примеры сравнения между инструкцией следующей ЦМУ-демонстрации с фиксацией верхушки, где I_CT остается таким же, как в предыдущей демонстрационной инструкции 601 и 701, и инструкцией следующей ЦМУ-демонстрации без фиксации верхушки 606 и 706, где значение I_CT может не оставаться таким же, как в предыдущей демонстрационной инструкции 601 и 701. На фиг. 6 и 7 целевая толщина обозначена как 602, 702 соответственно. В примере, представленном на фиг. 6, инструкция предыдущей ЦМУ-демонстрации 601 привела к созданию измеренной линзы 603, где I_CT тоньше значения целевой толщины верхушки 602 необходимой конфигурации линзы. В примере, представленном на фиг. 7, инструкция предыдущей ЦМУ-демонстрации 701 привела к созданию измеренной линзы 703, где I_CT толще значения целевой толщины верхушки 702 необходимой конфигурации линзы.

В пункте 605, представленном на фиг. 6, и пункте 705, представленном на фиг. 7, временный скорректированный профиль измеренной линзы создают, сравнивая разность между значением I_CT измеренной линзы 603 и 703 и значением целевой толщины верхушки 602 и 702 и корректируя следующую инструкцию на величину Δ^т. В пунктах 606 и 706 следующая инструкция без фиксации верхушки вычисляется путем сложения Δ^т с каждой точкой всей измеренной линзы 603 и 703 с поверхностью временного скорректированного профиля измеренной линзы 605 и 705, прибавляется любая выбранная дополнительная величина, и, таким образом, следующая инструкция корректируется на данное суммарное значение. В пунктах 604 и 704 для вычисления инструкции с фиксацией верхушки берут разность между инструкцией без фиксации верхушки 606 и 706 и значением Δ^т, и затем прибавляют разность с каждой точкой на поверхности измеренной линзы 603 и 703 за исключением I_CT. Соответственно, значение I_CT остается таким же, что и в инструкции предыдущей ЦМУ-демонстрации 601 и 701, и сохраняется при следующих итерациях в ходе итерационного цикла процесса сведения.

В некоторых других дополнительных аспектах настоящего изобретения при использовании методики поршневого смещения можно выполнить равномерное смещение инструкции предыдущей ЦМУ-демонстрации в одной или более выбранных частях предыдущей инструкции на выбранную величину. Кроме того, в некоторых других вариантах осуществления методика поршневого смещения может использоваться для дополнительного сведения конфигурации линзы, даже если измеренная линза уже соответствует необходимым критериям приемлемости. Например, значение ПВ измеренной линзы может быть приемлемым, но использование методики поршневого смещения в следующей итерации может обеспечить выполнение сведения конфигурации линзы еще качественнее и, следовательно, добиться более высоких характеристик линзы, таких как коррекция зрения с более высокой точностью, чем это было бы возможно без использования методики поршневого смещения.

На фиг. 8 показано графическое представление на плоском пространстве реализации метода поршневого смещения. Кроме того, в пункте 800 представлен пример на плоском пространстве сравнения инструкции следующей ЦМУ-демонстрации с поршневым смещением 805, при которой происходит равномерное смещение одной или более выбранных частей инструкции из предыдущей демонстрации на одинаковую величину и инструкции следующей ЦМУ-демонстрации без поршневого смещения 804. В данном примере инструкция предыдущей ЦМУ-демонстрации 801 привела к созданию измеренной линзы 803 с областями линзы, каждая из которых была более толстой и более тонкой, чем целевая толщина 802 необходимой конфигурации линзы. В пункте 804 следующая инструкция без поршневого смещения представляет собой результат неравномерной корректировки одной или более выбранных частей инструкции предыдущей ЦМУ-демонстрации 801 на одну или более различных выбранных величин. В пункте 805 следующая инструкция с поршневым смещением представляет собой результат равномерного смещения одной или более выбранных частей инструкции предыдущей ЦМУ-демонстрации 801 на одну и ту же выбранную величину.

В процессе сведения для вычисления инструкции следующей ЦМУ-демонстрации можно использовать различные методы коррекции толщины, включая один или более из арифметического метода коррекции толщины, процентного метода коррекции толщины и коррекции толщины способом секущей. Если линза может не соответствовать критериям приемлемости, способ коррекции толщины может быть выбран на основе наблюдений, сделанных специалистом в данной области.

Корректировки с использованием выбранного способа коррекции толщины могут вноситься на уровне каждого пикселя предыдущей ЦМУ-демонстрации для вычисления инструкции ЦМУ-демонстрации для следующей итерации. Перед применением способа коррекции толщины выбранные точки данных из предыдущей демонстрации могут подвергаться одному или обоим из процесса фильтрации и процесса подбора поверхности. Итерация с ЦМУ-демонстрацией может затрагивать определенные или конкретные области линзы. Соответственно, следующие итерации после предыдущей ЦМУ-демонстрации могут приводить к внесению одного или более изменений в целой линзе, к одному или обоим из уменьшения определенных апертур в линзе и увеличения определенных апертур в линзе (например, оптической зоны, периферийной зоны) и изменению выбранных участков линзы.

Кроме того, при вычислении инструкции следующей ЦМУ-демонстрации можно применять различные коэффициенты усиления. Более того, коэффициент усиления можно менять по ходу в ходе следующих итераций. Например, коэффициент усиления 200%, примененный к итерации 3, можно уменьшить до 150% в итерации 5.

Если в ЦМУ-демонстрации была создана линза, не соответствующая критериям приемлемости, для вычисления инструкций для итерационной ЦМУ-демонстрации можно использовать арифметический способ коррекции толщины. В таблицах 1- 4 представлены данные, полученные с использованием арифметического способа коррекции толщины для вычисления инструкций следующих ЦМУ-демонстраций в разных итерациях и с применением различных коэффициентов усиления. Представленные данные получены с использованием арифметического способа коррекции толщины с применением различных коэффициентов усиления, которые можно использовать для реализации настоящего изобретения.

Для таблиц 1-4:

Для каждой, любой или всех точек из набора данных положение точки указано в пространстве декартовых координат как (X_ij, Y_ij):

Инструкция указана в мм.

Для каждой, любой или всех точек из набора данных, соответствующего измеренной линзе, с указанным положением (x, y):

Измеренная толщина линзы указана в мм.

Для каждой, любой и всех точек из набора данных, соответствующего целевой толщине, с указанным положением (x,y):

Целевая толщина указана в мм.

В общем: Дельта_толщины = целевая толщина - измеренная толщина линзы

Масштабированное значение дельта толщины = (ДельтаТ_*A)/100

Для вычисления итерационного значения для набора инструкций следующей ЦМУ-демонстрации с использованием способа арифметической коррекции толщины может потребоваться вычисление значения дельта толщины. Например, значение дельта толщины может быть равно разности значения целевой толщины из целевой конфигурации и измеренного значения толщины линзы, созданной в результате предыдущей ЦМУ-демонстрации. После вычисления значения дельта толщины его можно умножить на выбранный применимый коэффициент усиления и разделить на 100 для определения масштабированного значения дельта толщины. Масштабированное значение дельта толщины можно прибавить к значению предыдущей демонстрационной инструкции. Указанная выше формула может использоваться на уровне каждого пикселя предыдущей демонстрации для вычисления нового значения каждого пикселя следующей ЦМУ-демонстрации.

Формула арифметического способа:

Значение Δ^т =

Значение масштаб. Δ^т =

Инструкция следующей ЦМУ-демонстрации =

В таблице 2 представлен пример использования арифметического способа коррекции толщины и применения коэффициента усиления 200% к следующим итерациям предыдущей демонстрации, причем значение целевой толщины конфигурации линзы составляет 0,0900 мм, и измеренная толщина линзы составляет 0,0750 мм. В данном примере значение дельта толщины составляет 0,0150 мм, что вычисляется путем вычитания измеренной толщины линзы 0,0750 мм из значения целевой толщины 0,0900 мм. Более того, масштабированное значение дельта толщины составляет 0,0300 мм, что вычисляется путем умножения значения дельта толщины 0,0150 мм на коэффициент усиления 200% и деления данного значения на 100. Затем масштабированное значение дельта толщины 0,0300 мм прибавляется к значению предыдущей демонстрации 0,1250 мм для вычисления значения инструкции следующей демонстрации 0,1550 мм.

Если ЦМУ-демонстрация приводит к созданию линзы, не соответствующей необходимым критериям приемлемости, для вычисления инструкций для итерационной ЦМУ-демонстрации можно использовать процентный способ коррекции толщины. В таблицах 5-7 представлены данные, полученные с использованием процентного способа коррекции толщины, для вычисления инструкций следующих ЦМУ-демонстраций в разных итерациях и с применением различных коэффициентов усиления. Показанные данные получены с использованием процентного способа коррекции толщины с применением различных коэффициентов усиления, которые можно использовать для реализации настоящего изобретения.

Для таблиц 5-7:

Начальная_инструкция_0 (Начало демонстрации, не обязательно совпадает с целевым файлом)

В общем:

Пусть PREV = предыдущая инструкция

Пусть GF = величина коэффициента усиления

Пусть TARGET = целевая толщина

Пусть MEASURED = измеренная толщина линзы

Тогда: следующая инструкция = PREV+(((PREV×GF)×(TARGET-MEASURED))/(MEASURED×100))

Инструкция_1 = PREV_0+(((PREV_0×GF)×(TARGET-MEASURED_0))/(MEASURED_0×100))

Инструкция_2 = PREV_1+(((PREV_1×GF)×(TARGET-MEASURED_1))/(MEASURED_1×100))

Инструкция_3 = PREV_2+(((PREV_2×GF)×(TARGET-MEASURED_2))/(MEASURED_2×100))

Инструкция_4 = PREV_3+(((PREV_3×GF)×(TARGET-MEASURED_3))/(MEASURED_3×100))

Для вычисления итерационного значения для набора инструкций следующей ЦМУ-демонстрации с использованием способа процентной коррекции толщины может потребоваться вычисление дельта инструкционного значения. Например, дельта инструкционного значения может вычисляться следующим образом: значение из предыдущей демонстрации умножается на применимый коэффициент усиления, полученное значение умножается на разность значения целевой толщины и значения измеренной линзы. Более того, предыдущее значение делят на значение измеренной линзы, затем полученное значение умножают на 100, после чего значение прибавляют к значению предыдущей демонстрации. Указанная выше формула может использоваться на уровне каждого пикселя предыдущей демонстрации для вычисления нового значения каждого пикселя следующей ЦМУ-демонстрации. Формула процентного способа:

Инструкция следующей ЦМУ-демонстрации =

В таблице 6 представлен пример вычисления с использованием способа процентной коррекции толщины и применения 200% коэффициента усиления к следующим итерациям исходной демонстрации, причем значение исходной демонстрации составляет 0,125 мм, целевая толщина - 0,090 мм, и измеренная толщина линзы - 0,0750 мм. В данном примере инструкция следующей ЦМУ-демонстрации вычисляется путем умножения значения исходной демонстрации 0,125 мм на 200%, после чего данное значение умножают на 0,015 мм, что представляет собой значение разности между значением целевой толщины 0,090 мм и значением измеренной линзы 0,075 мм, в результате значение составляет 0,00375 мм. Затем вычисляют дельту значение инструкции 0,05 мм путем деления значения 0,00375 мм на значение измеренной линзы 0,075 мм. Более того, затем к значению из предыдущей демонстрации 0,125 мм прибавляют дельту значение инструкции 0,05 мм, в результате чего значение инструкции следующей ЦМУ-демонстрации составляет 0,175 мм.

Итерационное значение для набора инструкций следующей ЦМУ-демонстрации можно определить с использованием алгоритма способа секущей. Способ секущей, известный специалистам в данной области, представляет собой алгоритм поиска корней, в котором для наилучшей аппроксимации корня функции f используется последовательность корней уравнений секущих.

При использовании одного или более указанных выше способов коррекции толщины можно использовать различные способы пространственного усиления. Способы пространственного усиления могут включать один или оба из способа равномерного (линейного) пространственного усиления и способа неравномерного пространственного усиления. Более того, способ неравномерного пространственного усиления может иметь два типа, включая один или оба из способа неравномерного пространственного усиления на основе функции и способа неравномерного пространственного усиления с прямым картированием.

При применении способа равномерного (линейного) пространственного усиления один и тот же способ коррекции толщины применяется по всему обозначенному формируемому участку, причем коэффициент усиления является одинаковым для положения каждого пикселя. Например, все пиксели внутри оптической зоны могут модифицироваться с использованием 100% коэффициента усиления. При применении способа неравномерного пространственного усиления один и тот же способа коррекции толщины может применяться по всему обозначенному формируемому участку, причем коэффициент усиления может быть различным для положения каждого пикселя. Например, пиксели, лежащие на диаметре 4 мм, могут иметь коэффициент усиления 200%, тогда как пиксели, лежащие на диаметре 2 мм, могут иметь коэффициент усиления 150%.

При применении способа неравномерного пространственного усиления на основе функции коэффициент усиления может зависеть от радиального положения пикселя. В некоторых других связанных вариантах осуществления при применении способа неравномерного пространственного усиления с прямым картированием для вычисления необходимого коэффициента усиления для положения каждого пикселя можно использовать соответствующие данные из формируемого участка одной или более предыдущих ЦМУ-демонстраций, измеренной линзы и конфигурации линзы.

На фиг. 9 представлен контроллер 1100, который можно использовать для реализации некоторых аспектов настоящего изобретения. Процессорный блок 1101, который может включать один или более процессоров, соединен с устройством обмена данными 1102, выполненным с возможностью обмена данными через коммуникационную сеть. Устройство обмена данными 1102 можно использовать для связи, например, с одним или более контроллерными устройствами или компонентами производственного оборудования.

При использовании процессор 1101 также может сообщаться с устройством хранения данных 1103. Устройство хранения данных 1103 может содержать любые соответствующие устройства хранения информации, включая комбинации магнитных устройств хранения данных (например, магнитной ленты и жестких дисков), оптических устройств хранения данных и/или полупроводниковых запоминающих устройств, таких как оперативное запоминающее устройство (ОЗУ) и постоянное запоминающее устройство (ПЗУ).

В устройстве хранения данных 1103 может храниться исполняемая программа 1104 для управления процессором 1101. Процессор 1101 исполняет инструкции программы 1104 и, таким образом, действует в соответствии с настоящим изобретением, как например, в соответствии с указанными выше стадиями способа. Например, процессор 1101 может принимать информацию, описывающую необходимую конфигурацию линзы. В устройстве хранения данных 1103 также могут храниться офтальмологические данные в одной или более базах данных 1105 и 1106. База данных может включать один или более файлов, содержащих данные инструкций ЦМУ-демонстраций, данные специфических конфигураций линз, метрологические данные, определенные данные параметров линзы, относящиеся к конкретным конфигурациям линз.

Заключение

Настоящее изобретение, как описано выше и дополнительно определено приведенной ниже формулой изобретения, представляет устройство для реализации процесса сведения.

Следующий неполный список представляет собой перечень аспектов настоящего изобретения.

Аспект 1. Устройство для модификации ЦМУ-демонстрации для создания контурно формованной офтальмологической линзы, приближающейся к конфигурации линзы, содержащее:

компьютерный процессор, сообщающийся по цифровой связи с устройством контурного формования;

устройство хранения цифровых данных, сообщающееся с компьютерным процессором и хранящее исполняемый программный код, выполняемый по требованию и работающий с процессором и устройством контурного формования линзы для следующих целей:

хранения цифровых данных, описывающих перечень данных, причем указанные данные содержат одни или оба из данных о конфигурации линзы и данных о ЦМУ-демонстрации;

приема входных цифровых данных, описывающих указанные данные;

создания указанной ЦМУ-демонстрации, причем инструкция ЦМУ-демонстрации основана на указанной конфигурации линзы;

определения соответствия указанной линзы критериям приемлемости, предъявляемым к указанной конфигурации линзы; и

создания инструкции следующей ЦМУ-демонстрации, причем указанная инструкция следующей ЦМУ-демонстрации содержит одну или более методик сводящего маскирования.

Аспект 2. Устройство по аспекту 1, в котором указанная методика сводящего маскирования содержит одну или более указанных ЦМУ-демонстраций, покрывающих один или более выбранных участков маскирования.

Аспект 3. Устройство по аспекту 2, в котором указанный выбранный участок маскирования содержит один или более из радиуса, сектора, сегмента и области.

Аспект 4. Устройство по аспекту 1, в котором одна или более указанных методик сводящего маскирования содержит одну или более связующих зон.

Аспект 5. Устройство по аспекту 4, в котором указанная связующая зона содержит одну или более указанных зон, соединяющих указанный выбранный маскированный участок с одним или более немаскированными участками.

Аспект 6. Устройство для модификации ЦМУ-демонстраций для создания контурно формованной офтальмологической линзы, приближающейся к конфигурации линзы, содержащее:

компьютерный процессор, сообщающийся по цифровой связи с устройством контурного формования;

устройство хранения цифровых данных, сообщающееся с компьютерным процессором и хранящее исполняемый программный код, выполняемый по требованию и работающий с процессором и устройством контурного формования линзы для следующих целей:

хранения цифровых данных, описывающих перечень данных, причем указанные данные содержат одни или оба из данных о конфигурации линзы и данных о ЦМУ-демонстрации;

приема входных цифровых данных, описывающих указанные данные;

создания указанной ЦМУ-демонстрации, причем инструкция ЦМУ-демонстрации основана на указанной конфигурации линзы;

определения соответствия указанной линзы критериям приемлемости, предъявляемым к указанной конфигурации линзы; и

создания инструкции следующей ЦМУ-демонстрации, причем указанная инструкция следующей ЦМУ-демонстрации содержит одну или более технологий сведения.

Аспект 7. Устройство по аспекту 6, в котором указанная технология сведения представляет собой технологию одностороннего сведения.

Аспект 8. Устройство по аспекту 7, в котором указанная технология одностороннего сведения представляет собой корректировку одного или более параметров одной или более инструкций указанной предыдущей ЦМУ-демонстрации либо путем уменьшения значения указанной инструкции, либо путем увеличения указанного значения указанной инструкции.

Аспект 9. Устройство по аспекту 7, в котором указанная технология одностороннего сведения содержит инструкцию «утолщающий храповой механизм».

Аспект 10. Устройство по аспекту 9, в котором указанная инструкция «утолщающий храповой механизм» содержит увеличенное указанное значение указанной инструкции в одной или более частях указанной предыдущей ЦМУ-демонстрации.

Аспект 11. Устройство по аспекту 7, в котором указанная технология одностороннего сведения содержит инструкцию «утончающий храповой механизм».

Аспект 12. Устройство по аспекту 11, в котором указанная инструкция «утончающий храповой механизм» содержит уменьшенное указанное значение указанной инструкции в одной или более указанных частях указанной предыдущей ЦМУ-демонстрации.

Аспект 13. Устройство по аспекту 7, в котором указанная технология одностороннего сведения содержит методику поршневого смещения.

Аспект 14. Устройство по аспекту 13, в котором указанная методика поршневого смещения представляет собой выполнение равномерного смещения на одинаковую величину одной или более выбранных частей указанной инструкции предыдущей ЦМУ-демонстрации.

Аспект 15. Устройство по аспекту 7, в котором указанная технология одностороннего сведения содержит методику фиксации верхушки.

Аспект 16. Устройство по аспекту 15, в котором указанная методика фиксации верхушки содержит фиксированное значение I_CT, где указанному I_CT присваивается указанное значение, которое остается постоянным в ходе указанной следующей итерации.

Аспект 17. Устройство по аспекту 6, в котором указанная технология сведения представляет собой технологию двустороннего сведения.

Аспект 18. Устройство по аспекту 17, в котором указанная технология двустороннего сведения представляет собой корректировку одного или более указанных параметров одной или более указанных инструкций указанной предыдущей ЦМУ-демонстрации либо путем уменьшения указанного значения указанной инструкции, либо путем увеличения указанного значения указанной инструкции.

Аспект 19. Устройство по аспекту 17, в котором указанная технология двустороннего сведения содержит методику поршневого смещения.

Аспект 20. Устройство по аспекту 19, в котором указанная методика поршневого смещения представляет собой выполнение равномерного смещения на одинаковую величину одной или более указанных выбранных частей указанной инструкции предыдущей ЦМУ-демонстрации.

Аспект 21. Устройство по аспекту 17, в котором указанная технология двустороннего сведения содержит методику фиксации верхушки.

Аспект 22. Устройство по аспекту 21, в котором указанная методика фиксации верхушки содержит фиксированное значение I_CT, где указанному I_CT присваивается указанное значение, которое остается постоянным в ходе указанной следующей итерации.

Аспект 23. Устройство для модификации ЦМУ-демонстраций для создания контурно формованной офтальмологической линзы, приближающейся к конфигурации линзы, содержащее:

компьютерный процессор, сообщающийся по цифровой связи с устройством контурного формования линзы;

устройство хранения цифровых данных, сообщающееся с компьютерным процессором и хранящее исполняемый программный код, выполняемый по требованию и работающий с процессором и устройством контурного формования линзы для следующих целей:

хранения цифровых данных, описывающих перечень данных, причем указанные данные содержат одни или оба из данных о конфигурации линзы и данных о ЦМУ-демонстрации;

приема входных цифровых данных, описывающих указанные данные;

создания указанной ЦМУ-демонстрации, причем инструкция ЦМУ-демонстрации основана на указанной конфигурации линзы;

определения соответствия указанной линзы критериям приемлемости, предъявляемым к указанной конфигурации линзы; и

создания инструкции следующей ЦМУ-демонстрации, причем указанная инструкция следующей ЦМУ-демонстрации содержит один или более способов коррекции толщины.

Аспект 24. Устройство по аспекту 23, в котором указанный способа коррекции толщины содержит один или более из процентного способа, арифметического способа и способа секущей.

Аспект 25. Устройство по аспекту 23, в котором указанный способ коррекции толщины содержит процесс фильтрации одной или более точек данных.

Аспект 26. Устройство по аспекту 25, в котором указанный процесс фильтрации содержит один или более следующих процессов: определение, обнаружение, удаление и исправление ошибок в указанных данных.

Аспект 27. Устройство по аспекту 23, в котором указанный способ коррекции толщины содержит процесс подбора поверхности для одной или более указанных точек данных.

Аспект 28. Устройство по аспекту 27, в котором указанный процесс подбора поверхности содержит построение одной или обеих из поверхности и математической функции, максимально соответствующих серии указанных точек данных, посредством реализации либо интерполяции, либо сглаживания.

Аспект 29. Устройство по аспекту 23, в котором указанный способ коррекции толщины содержит способ равномерного пространственного усиления.

Аспект 30. Устройство по аспекту 29, в котором указанный способ равномерного пространственного усиления обеспечивает применение одного или более одинаковых способов коррекции толщины по всему указанному формируемому участку, причем коэффициент усиления является одинаковым для положения каждого пикселя.

Аспект 31. Устройство по аспекту 23, в котором указанный способ коррекции толщины содержит способ неравномерного пространственного усиления.

Аспект 32. Устройство по аспекту 31, в котором указанный способ неравномерного пространственного усиления содержит применение одного или более одинаковых указанных способов коррекции толщины по всему указанному формируемому участку, причем указанный коэффициент усиления для положения каждого пикселя может быть разным.

Аспект 33. Устройство по аспекту 31, в котором указанный способ неравномерного пространственного усиления содержит способ неравномерного пространственного усиления на основе функции.

Аспект 34. Устройство по аспекту 33, в котором указанный способ неравномерного пространственного усиления на основе функции содержит связывание указанного коэффициента усиления с радиальным положением указанного пикселя.

Аспект 35. Устройство по аспекту 31, в котором указанный способ неравномерного пространственного усиления содержит способ неравномерного пространственного усиления с прямым картированием.

Аспект 36. Устройство по аспекту 35, в котором указанный способ неравномерного пространственного усиления с прямым картированием содержит использование соответствующих данных из формируемого участка, полученных из одного или более из указанных предыдущих ЦМУ-демонстраций, указанной измеренной линзы и указанной конфигурации линзы, причем необходимый указанный коэффициент усиления можно вычислить для положения каждого пикселя.