Результат интеллектуальной деятельности: Устройство для получения функционального оттиска для изготовления протеза носа

Изобретение относится к медицине, а именно к челюстно-лицевой ортопедии, и может быть использовано для изготовления эктопротеза носа при его дефектах различного генеза.

Из уровня техники известен способ получения модели носа, при котором снимают гипсовый оттиск (маску) со всего лица, при этом в носовые ходы для обеспечения прохождения воздуха в дыхательные пути вводят резиновые или полихлорвиниловые трубки (В.Ю. Курляндский, Д.Б. Колонтаров, М.И. Лавочник. Справочник по ортопедической стоматологии. Ташкент, Медицина, УЗССР, 1970).

К недостаткам указанной методики получения оттиска с носа относятся: вторичная деформация носа, возникающая от введения в носовые ходы резиновых или полихлорвиниловых трубок, значительный расход оттискной массы, неточное отражение рельефа носа и окружающих его тканей.

Известен способ получения оттиска для маски лица, в соответствии с которым оттиск получают с помощью нанесения эластической массы на поверхность лица с последующим прижимом ее к поверхности лица. Для обеспечения возможности прижима эластической массы к поверхности лица изготавливают металлический индивидуальный лоток для слепочной массы, выполненный с учетом формы и усредненных геометрических размеров лица больного. Лоток выполняют из перфорированного металла по форме лица с учетом его средних размеров. Основу лотка снабжают выступом для носа с заданными размерами и отверстиями для обеспечения носового дыхания, а также отверстием для ротовой полости, которое выполняют с возможностью установки загубника. В области висков и носогубных складок лоток выполняют с возможностью фиксированного изгибания для более плотного прилегания к поверхности лица (Б.К. Костур, В.А. Миняева. Челюстно-лицевое протезирование. - Л.: Медицина, 1985 г., с. 72-73).

Известна «индивидуальная ложка» для лица больного, которую формируют непосредственно на лице больного. На всю поверхность лица больного последовательно укладывают фотополимерные пластины путем мягкого отжимания небольших фрагментов. Пластины отсвечивают лампой для световой полимеризации пломбировочных материалов. Последующую пластину присоединяют после полного отвердения предыдущей. После полного отвердения материала «индивидуальной ложки» приступают к снятию оттиска. Сначала на проблемные места и на глаза, а затем на все лицо наносят силиконовый оттискной материал, применяемый для получения оттиска при протезировании зубов. Одновременно им же заполняют внутреннюю поверхность «индивидуальной ложки», которую, слегка прижимая, накладывают на лицо. После окончательного отвердевания силиконового оттискного материала полученный оттиск с лица снимают (Патент РФ №2356518).

Известен способ получения модели носа, заключающийся в том, что предварительно изготавливают индивидуальную оттискную носовую ложку, содержащую ручку и базис, посредством размещения разогретой восковой базисной пластины на область носа и окружающих его тканей, удаления излишних участков воска после ее застывания и замены воска на пластмассу. Затем на изготовленную индивидуально ложку вводят небольшое количество эластичной оттискной массы и снимают оттиск, при этом часть оттискной массы вводят в носовые ходы, после чего отливают из гипса рабочую модель носа (Патент РФ №2179835).

Задачей изобретения является получение высокоточного функционального оттиска протезного ложа эктопротеза носа с магнитной фиксацией при дефектах носа различного генеза.

Техническим результатом изобретения является фиксация и удержание устройства для получения функционального оттиска в процессе полимеризации оттискной массы посредством физических сил, аналогичных фиксирующим протез.

Технический результат достигается за счет того, что устройство для получения функционального оттиска для изготовления протеза носа представляет собой лоток, выполненный из полимера, края которого перекрывают границы дефекта носа на 3 мм по периметру, имеет на наружной поверхности ручку для позиционирования, а на внутренней поверхности - магнитный элемент, соединенный с лотком посредством стоматологического воска. На сегодняшний день магнитная фиксация эктопротезов лица с опорой на экстрооральные имплантаты является приоритетной в челюстно-лицевом протезировании. При получении функционального оттиска для изготовления протеза носа очень важно учитывать податливость слизистой оболочки и особенно кожных покровов по границе дефекта при сокращении мимических мышц. Что в свою очередь влияет на визуальное прилегание протеза носа в процессе мимики пациента и качество фиксации протеза. Решение указанных задач осуществляется наличием в предлагаемой конструкции магнитного элемента, аналогичного протезному. А также тем, что при получении оттиска исключается давление на лоток руки врача, а границы оттиска формируются при активном движении мимических мышц. Лоток удерживается в заднем положении благодаря магнитному фиксатору.

Устройство для получения функционального оттиска для изготовления протеза носа поясняется чертежом:

1. Устройство для получения функционального оттиска.

2. Ручка для позиционирования устройства.

3. Магнитный элемент устройства.

4. Магнитный элемент, фиксированный на дополнительных ретенционных элементах.

5. Границы послеоперационного дефекта.

Устройство для получения функционального оттиска для изготовления протеза носа изготавливается и применяется следующим образом:

1. На поверхность лица пациента в проекции носа, отступя на 3 мм от границ послеоперационного дефекта (5), наружно укладывают и мягко последовательно отжимают фотополимерные пластины поверхность лица больного.

2. На наружной поверхности моделируемого лотка формируют ручку (2) для позиционирования устройства.

3. Полученную конструкцию фрагментарно отсвечивают лампой для световой полимеризации пломбировочных материалов до полного затвердевания.

4. К магнитному элементу, фиксированному на дополнительных ретенционных элементах (4), присоединяют ответный магнитный элемент устройства (3).

5. Разогревают и присоединяют к внутренней поверхности устройства зуботехнический воск.

6. В разогретом состоянии воска устройство позиционируют за ручку до затвердевания воска, таким образом ответный магнитный элемент (3) остается фиксированным в устройстве для получения функционального оттиска (1).

7. На внутреннюю поверхность и по границам устройства для получения функционального оттиска наносится корригирующий слой силиконовой оттискной массы.

8. Удерживая за ручку (2), устройство позиционируются в проекции магнитного элемента, фиксированного на дополнительных ретенционных элементах (4) до возникновения притяжения разноименных полюсов с магнитным элементом устройства (3).

9. Далее устройство не фиксируется рукой, просим пациента улыбнуться и прочитать любой текст до полной полимеризации оттискной массы.

10. По полученному функциональному оттиску отливают рабочую модель для изготовления эктопротеза носа.