×
20.02.2015
216.013.2801

ФОТОГАЛЬВАНИЧЕСКОЕ УСТРОЙСТВО И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ

Вид РИД

Изобретение

Юридическая информация Свернуть Развернуть
№ охранного документа
0002541698
Дата охранного документа
20.02.2015
Краткое описание РИД Свернуть Развернуть
Аннотация: Фотогальваническое устройство, содержащее по меньшей мере один фотогальванический элемент (60), содержащий нанесенные на подложку (10) тонкие активные слои (15), при этом указанные активные слои не подвергают сегментированию, и по меньшей мере один статический преобразователь (50), связанный с каждым фотогальваническим элементом (60). Каждый фотогальванический элемент (60) выдает электрическую мощность с максимальным током (I) и номинальным напряжением (V), и каждый статический преобразователь (50) выполнен с возможностью передачи электрической мощности, производимой фотогальваническим элементом, на нагрузку (100), понижая передаваемый ток и повышая передаваемое напряжение. При этом активные слои фото гальванического элемента покрывают более 95% площади подложки, и указанный фотогальванический элемент способен выдавать ток, достигающий 150 A при номинальном напряжении ниже 1 В. Таким образом, на одной панели ограничивают и даже полностью исключают лазерное сегментирование фотогальванических элементов. За счет этого повышают производительность изготовления фотогальванического устройства и ограничивают мертвые площади. 2 н. и 16 з.п. ф-лы, 8 ил.
Реферат Свернуть Развернуть

Настоящее изобретение относится к области фотогальванических устройств и, в частности, касается устройств, содержащих фотогальванические элементы, выполненные по так называемой тонкослойной технологии. Изобретение касается также изготовления тонкослойного фотогальванического устройства.

Как известно, фотогальваническое устройство содержит один или несколько фотогальванических элементов (PV), соединенных последовательно и/или параллельно. В случае использования неорганических материалов фотогальванический элемент в основном состоит из диода (переход р-n или p-i-n), выполненного на основе полупроводникового материала. Этот материал обладает свойством поглощать световую энергию, существенная часть которой может передаваться на носители заряда (электроны и дырки). Выполнение диода (переход р-n или p-i-n) посредством легирования двух зон, соответственно типа N и типа Р, в случае необходимости разделенных не легированной зоной (называемой «собственной» и обозначаемой "i" в переходе p-i-n), позволяет разделить носители заряда, чтобы затем их собрать через электроды, которые содержит фотогальванический элемент. Разность потенциалов (напряжение разомкнутой цепи, Voc) и максимальный ток (ток короткого замыкания, Icc), которые может выдавать фотогальванический элемент, зависят одновременно от материалов элемента и от условий, окружающих этот элемент (в том числе освещения через спектральную интенсивность, температуры). В случае органических материалов модели существенно отличаются, и в них больше принято говорить о материалах-донорах и материалах-акцепторах, в которых образуются пары электрон-дырка, называемые экситонами. Конечная функция остается такой же: разделение носителей зарядов для их сбора и генерирования тока.

Существуют несколько известных технологий для изготовления фотогальванических элементов. Так называемые тонкослойные технологии были разработаны в промышленном масштабе, начиная с 1975 года; эти технологии состоят в нанесении различных материалов в виде тонких пленок на подложку методом PVD (нанесение покрытия осаждением из паров) или PECVD (плазмохимическое осаждение из газовой среды). В дальнейшем появились другие технологии, такие как технологии, основанные на кристаллическом кремнии, которые в настоящее время занимают основной объем промышленного производства; эти технологии заключаются в изготовлении заготовок из монокристаллического или поликристаллического кремния, затем их разрезают на пластины (wafers) и легируют пластины для получения перехода р-n или p-i-n. На выходе технологий получают органические элементы или элементы из композитных материалов.

Технологии изготовления тонкослойных фотогальванических элементов имеют ряд преимуществ. Они позволяют осуществлять процессы изготовления с высокой производительностью при больших площадях по сравнению с технологиями кристаллического кремния. Тонкослойные фотогальванические элементы характеризуются хорошим энергетическим выходом, когда их собирают в модули. Под фотогальваническим модулем следует понимать сборку из множества фотогальванических элементов. Кроме того, модуль можно объединить с электроникой управления, в состав которой обычно входит статический преобразователь (CS) и, в случае необходимости, электронный привод поиска точки максимальной мощности (или МРРТ, то есть система отслеживания точки максимальной мощности).

На фиг.1 показаны этапы классического способа изготовления устройства из тонкослойных фотогальванических элементов. На схеме, представленной на фиг.1, пропорции толщины различных слоев не соблюдены.

В тонкослойных технологиях на подложку 10 тонкой пленкой наносят различные материалы методом PVD или PECVD, или катодным напылением или LPCVD (химическое осаждение из газовой среды при низком давлении). Таким образом, последовательно наносят первый проводящий электрод 11, так называемые активные слои 15, образующие один или несколько переходов, и второй проводящий электрод 12. Электроды 11, 12 предназначены для сбора тока, производимого активными слоями. В тонкопленочных технологиях необходимы этапы в виде последовательных циклов для получения множества фотогальванических элементов на одной подложке. Действительно, преследуют цель реализации множества элементов на одной подложке, чтобы повысить производительность изготовления элементов посредством последовательного нанесения покрытий на большой площади, как правило, от нескольких десятков до нескольких сотен элементов на пластине площадью от нескольких см2 на лабораторной стадии до более 1 м2 на промышленной стадии, затем эти элементы последовательно соединяют, чтобы повысить выходное напряжение устройства. Электрическая аналогия устройства фотогальванических элементов будет описана ниже со ссылками на фиг.4-6.

На фиг.1 показан первый этап (а), на котором на подложку 10 наносят первый электрод 11. Под «подложкой» 10 следует понимать часть, на которой находятся активные компоненты фотогальванического элемента. Подложка может быть жесткой, например, такой как стеклянная пластина, или гибкой, такой как лист из полимера или из нержавеющей стали, или из титана; она может быть прозрачной или непрозрачной в зависимости от того, будет ли она находиться на пути падающего света или нет относительно активных слоев. Подложку можно также выбирать таким образом, чтобы она образовала по меньшей мере одну из пластин инкапсуляции конечного продукта, например, стеклянную подложку в случае жесткого фотогальванического модуля. Специалист может выбирать подложку (стекло, полимер или металл), наиболее подходящую для нанесения различных активных слоев устройства, которое он собирается изготовить.

Первый электрод 11 может состоять из слоя оксида, пропускающего свет, такого как оксид индий-олово (ITO), или прозрачных проводящих оксидов (ОТС), таких, например, как оксид индия (In2O3), оксид цинка (ZnO), легированный алюминием, или оксид олова (SnO2), легированный фтором. Можно предусмотреть нанесение слоя заднего отражателя непосредственно на подложку 10 перед первым электродом (позиция 20 на фиг.2), в частности, когда подложка 10 является прозрачной и когда падающий свет проникает в элемент через противоположную сторону подложки. Слой заднего отражателя может быть, например, слоем меди, серебра или алюминия.

На фиг.1 показан второй этап (b), на котором слой первого электрода 11 разделяют на сегменты для ограничения полос, которые в дальнейшем образуют отдельные диоды на одной панели, образованной подложкой 10, при этом площадь электродов обуславливает максимальный ток, который будет выдавать изготовленный таким образом диод. Сегментирование обычно выполняют методом лазерного травления, например, при помощи лазера типа Nd-YAG.

На фиг.1 показан третий этап (с), на котором наносят активные слои 15. Например, можно нанести тонкие слои из гидрогенизированного аморфного (a-Si:H), полиморфного (pm-Si:H) или микрокристаллического (pm-Si:H) кремния для получения одного или нескольких наложенных друг на друга переходов р-n или p-i-n. Специалист может выбрать любой материал, подходящий для изготовления перехода р-n или p-i-n, в зависимости от имеющегося в наличии промышленного оборудования и/или от потребностей в фотоэлектрическом выходе. Активные слои 15 заполняют промежутки между полосами первого электрода 11, изолируя, таким образом, каждый сегмент электрода.

На фиг.1 показан четвертый этап (d), на котором активные слои 15 сегментируют вплоть до оголения первого электрода 11. Сегментирование активных слоев 15 производят со смещением относительно сегментирования первого электрода 11 для обеспечения контакта между вторым электродом, который будет нанесен на этапе (е), и первым электродом 11, что позволяет получить последовательное соединение диодов, образованных смежными полосами. Как будет подробно описано ниже, последовательное соединение диодов на одной панели позволяет получить более высокое напряжение, равное сумме элементарных напряжений каждого последовательно соединенного диода. Сегментирование активных слоев 15 обычно выполняют посредством лазерного травления, например, при помощи лазера типа Nd-YAG.

На фиг.1 показан пятый этап (е), на котором наносят второй электрод 12, чтобы вместе с первым электродом 11 охватить активные слои элемента. Второй электрод 12 может иметь такой же состав, что и первый электрод 11, или другой состав; он может состоять, например, из оксида индия-олова (ITO) или из любого прозрачного проводящего оксида (ОТС). Второй электрод 12 можно также покрыть задним отражателем, если падающий свет проникает в элемент через подложку 10; второй электрод 12 может также служить задним отражателем при соответствующем составе, например, если он состоит из сплава ITO, серебра и никеля. Второй электрод 12 заполняет промежутки между сегментами активных слоев 15, обеспечивая последовательное соединение смежных полос.

Наконец, на фиг.1 показан шестой этап (f), на котором второй электрод 12 сегментируют вплоть до оголения активных слоев. Сегментирование второго электрода 12 тоже смещено относительно сегментирования активных слоев 15 и относительно сегментирования первого электрода 11, чтобы одновременно с первым сегментированием на этапе (b) ограничить активные зоны полос отдельных диодов. Сегментирование второго электрода 12 обычно выполняют посредством лазерного травления, например, при помощи лазера типа Nd-YAG.

На фиг.2 показана блок-схема этапов изготовления, описанных со ссылками на фиг.1. Сначала подложку 10 промывают и проверяют, чтобы она не имела трещин или дефектов на своей поверхности, или даже проверяют, чтобы подложка не была попросту сломана. Затем можно наносить отражатель 20, а потом первый электрод 11. После этого первый электрод 11 структурируют, например, для получения одинаковой кристаллической ориентации нанесенных молекул и сегментируют. При этом контролируют качество сегментирования - точность, прямолинейность, глубину,… - и подложку промывают второй раз для удаления металлических остатков после травления. Наносят и сегментируют активные слои 15 - переходы p-i-n или другие - затем наносят и сегментируют второй электрод 12. После этого осуществляют конечный контроль.

Существуют другие способы изготовления устройств тонкослойных фотогальванических элементов с порядком операций, отличающимся от представленного на фиг.1 и 2. Например, активные слои и слой первого электрода можно сегментировать вместе и посредством трафаретной печати можно нанести изолирующую краску. Затем наносят и сегментируют второй электрод. Наконец, посредством трафаретной печати на второй электрод наносят контактную сетку, например, из серебра, и этап расплавления этого серебра обеспечивает последовательное соединение двух смежных фотогальванических полос. Плавление металлического слоя осуществляют при помощи лазера.

Таким образом, в классическом процессе изготовления устройства тонкослойных фотогальванических элементов обычно осуществляют три этапа лазерного сегментирования, независимо от применяемого способа и от природы или толщины наносимых слоев. Каждый этап сегментирования необходимо осуществлять другим лазером, то есть с другой регулировкой с точки зрения длины волны, разрешения и угла падения луча, с целью сегментирования необходимого слоя или слоев. Эти этапы сегментирования составляют существенную часть затрат способа изготовления устройства тонкослойных фотогальванических элементов и представляют собой факторы ограничения производственной мощности. Кроме того, эти этапы сегментирования являются сложными и снижают выход продукции, причем они являются источником многих дефектов, которые приводят к выбраковке целых устройств.

Кроме того, сегментирование сокращает полезную площадь устройства. Действительно, все зоны, разрушаемые рисками при сегментировании, уже нельзя использовать для производства фотогальванической энергии. Активная зона фотогальванического элемента ограничена первой и второй рисками сегментирования. Так, например, для полос шириной 12 мм в результате сегментирования потеря составляет примерно 5-6% в площади и, следовательно, в производительности элемента.

На фиг.3 схематично в разрезе показан фрагмент тонкослойного фотогальванического устройства с последовательным соединением смежных фотогальванических элементов. На фиг.3 размеры различных слоев и рисок сегментирования представлены не в масштабе. На фиг.3 показаны подложка 10, первый электрод 11, активные фотогальванические слои 15 и второй электрод 12.

На фиг.3 показана также первая риска 1 сегментирования, позволяющая электрически изолировать два смежных фотогальванических элемента; эту первую риску 1 выполняют в первом электроде 11 и активных слоях 15 и заполняют изолирующей краской. Вторую риску 2 сегментирования выполняют в активных слоях 15 и заполняют материалом второго электрода 12 во время его нанесения. Третья риска 3 сегментирования делит второй электрод 12 на полосы. На фиг.3 показано (черная стрелка), что ток I проходит от одного фотогальванического элемента к следующему через второй электрод, вторую риску и первый электрод. Таким образом, каждый фотогальванический элемент, ограниченный первой и третьей рисками 1, 3, оказывается последовательно соединенным со смежным элементом при помощи второй риски 2.

Последовательное соединение элементов фотогальванического устройства необходимо для повышения выходного напряжения устройства до значений напряжения, совместимых с внешними постоянными или переменными нагрузками, к которым будет подключено устройство.

С другой стороны, сегментирование тонких слоев фотогальванического устройства представляет собой затратный этап с точки зрения времени и оборудования, который к тому же сокращает полезную площадь устройства.

Поэтому возникает необходимость в способе изготовления тонкослойного фотогальванического устройства, который обеспечивает более высокую производительность процесса и ограничивает мертвые площади устройства.

В связи с этим изобретение призвано ограничить и даже исключить этап лазерного сегментирования в способе изготовления тонкослойного фотогальванического устройства;

всю площадь устройства занимает один или несколько больших элементов, которые выдают большой ток, но с ограниченным напряжением. На контактах каждого элемента располагают статический преобразователь, чтобы уменьшать ток и пропорционально повышать напряжение. Таким образом, можно исключить нежелательный этап из способа изготовления фотогальванического устройства за счет добавления соответствующей преобразующей электроники.

В частности, объектом изобретения является фотогальваническое устройство, содержащее:

- по меньшей мере, один фотогальванический элемент, содержащий нанесенные на подложку тонкие активные слои, при этом указанные активные слои не подвергают сегментированию; и

- по меньшей мере, один статический преобразователь, связанный с каждым фотогальваническим элементом, в котором

- каждый фотогальванический элемент выдает электрическую мощность с максимальным током и номинальным напряжением, и

- каждый статический преобразователь выполнен с возможностью передачи электрической мощности, производимой фотогальваническим элементом, на нагрузку, понижая передаваемый ток и повышая передаваемое напряжение.

Согласно вариантам выполнения, статический преобразователь является преобразователем постоянного тока в постоянный (DC/DC) и/или преобразователем постоянного тока в переменный (DC/AC).

Согласно варианту выполнения, статический преобразователь связан с электроникой управления, выполненной с возможностью контроля уменьшения передаваемого тока и повышения передаваемого напряжения. Электроника управления, связанная со статическим преобразователем, может содержать привод поиска максимальной рабочей точки (МРРТ). Электроника управления может устанавливать связь с нагрузкой.

Согласно варианту выполнения, устройство содержит множество статических преобразователей, установленных последовательно между каждым фотогальваническим элементом и нагрузкой.

Согласно варианту выполнения, устройство содержит единственный фотогальванический элемент. Активные слои фотогальванического элемента могут покрывать более 95% площади подложки.

Согласно другому варианту выполнения, устройство содержит множество фотогальванических элементов, соединенных параллельно с нагрузкой, каждый по меньшей мере через один статический преобразователь.

Объектом изобретения является также фотогальванический генератор, содержащий множество фотогальванических устройств в соответствии с настоящим изобретением, соединенных последовательно и/или параллельно.

Кроме того, объектом изобретения является также способ изготовления фотогальванического устройства, содержащий следующие этапы:

- изготавливают по меньшей мере один фотогальванический элемент посредством нанесения активных слоев на подложку;

- к контактам каждого элемента подключают по меньшей мере один статический преобразователь,

при этом способ не содержит никакого этапа сегментирования тонких слоев для выполнения последовательного соединения нескольких фотогальванических элементов.

Другие отличительные признаки и преимущества настоящего изобретения будут более очевидны из нижеследующего описания вариантов выполнения изобретения, представленных в качестве примеров, со ссылками на прилагаемые чертежи, на которых:

фиг.1 (уже описана) - схема этапов изготовления известного устройства фотогальванических элементов;

фиг.2 (уже описана) - блок-схема этапов изготовления известного устройства, фотогальванических элементов;

фиг.3 (уже описана) - схема известного устройства фотогальванических элементов;

фиг.4 - схема фотогальванического устройства в соответствии с настоящим изобретением;

фиг.5 - схема электрической аналогии единственного фотогальванического элемента, покрывающего всю площадь устройства;

фиг.6 - схема электрической аналогии фотогальванического элемента с площадью, меньшей по сравнению с элементом, показанным на фиг.4;

фиг.7 - схема электрической аналогии множества последовательно соединенных фотогальванических элементов;

фиг.8 - схема электрической аналогии фотогальванического устройства в соответствии с настоящим изобретением.

Изобретением предлагается тонкослойное фотогальваническое устройство, содержащее по меньшей мере один фотогальванический элемент, связанный по меньшей мере с одним статическим преобразователем. Каждый фотогальванический элемент устройства в соответствии с настоящим изобретением электрически соединен с нагрузкой по меньшей мере через один статический преобразователь. «Нагрузкой» называют электрическое приложение, для которого предназначено фотогальваническое устройство, независимо от характера этого приложения (постоянное или переменное).

Фотогальваническое устройство в соответствии с настоящим изобретением может содержать единственный большой фотогальванический элемент или несколько больших элементов, связанных, каждый, с электроникой управления и параллельно соединенных с нагрузкой. На одной панели можно, таким образом, ограничить и даже полностью исключить лазерное сегментирование. Под «большим» фотогальваническим элементом следует понимать элемент без сегментирования активных слоев для последовательного соединения нескольких элементов. За счет этого повышается производительность при изготовлении фотогальванического устройства, и мертвые площади оказываются ограниченными.

Такой «большой» элемент выдает при этом большой ток, как правило, превышающий потребности нагрузки, с ограниченным напряжением, как правило, меньшим потребностей нагрузки. При этом каждый статический преобразователь выполнен с возможностью уменьшения тока, выдаваемого связанным с ним фотогальваническим элементом, в N раз и с возможностью повышения напряжения, подаваемого на нагрузку, максимум в N раз. Мощность на входе преобразователя, поступающая от элемента фотогальванического устройства, по существу равна мощности, выдаваемой на выходе преобразователем на нагрузку; выходная мощность может быть немного ниже входной мощности с учетом тепловых потерь в преобразователе (связанных, например, с переключением). Преобразователь преобразует энергию, получаемую от фотогальванического элемента, чтобы адаптировать выходное напряжение до значений, совместимых с потребностями нагрузки.

На фиг.4 показано фотогальваническое устройство в соответствии с настоящим изобретением. В дальнейшем тексте описания фотогальваническое устройство в соответствии с настоящим изобретением будет представлено с единственным фотогальваническим элементом. Вместе с тем, понятно, что описанное устройство можно выполнить с несколькими фотогальваническими элементами и статическими преобразователями, объединенными в модуль и параллельно соединенными с нагрузкой.

Показанное на фиг.4 устройство в соответствии с настоящим изобретением содержит единственный фотогальванический элемент 60. Этот тонкослойный фотогальванический элемент содержит подложку 10, первый электрод 11, активные слои 15, образующие по меньшей мере один переход, и второй электрод 12. Этот фотогальванический элемент 60 изготовлен по одному из описанных выше способов, за исключением этапов сегментирования нанесенных слоев. Элемент 60 устройства в соответствии с настоящим изобретением не содержит никаких рисок сегментирования;

это значит, что активные слои и электроды не сегментированы для образования нескольких последовательно соединенных элементов, как в случае известных технических решений. Таким образом, активные слои 15 элемента почти полностью покрывают площадь подложки 10, то есть примерно 95%. Вместе с тем можно предусмотреть сегментирование для ограничения краев элемента и фиксирования максимального тока.

Устройство в соответствии с настоящим изобретением дополнительно содержит по меньшей мере один статический преобразователь 50 на контактах элемента 60. В зависимости от приложений статический преобразователь 50 может быть преобразователем постоянного тока в переменный (DC/AC) и/или преобразователем постоянного тока в постоянный (DC/DC). Статический преобразователь 50 выполнен с возможностью передачи электрической мощности, производимой фотогальваническим элементом 60, на нагрузку 100 внешнего приложения: батарею, электрическую сеть или другую нагрузку. Преобразователь 50 устройства в соответствии с настоящим изобретением выполнен с возможностью уменьшения передаваемого тока и повышения передаваемого напряжения.

На фиг.4 видно, что можно последовательно расположить множество преобразователей 50. Элемент 60 выдает электрическую мощность с током в зависимости от освещенности и номинальное напряжение, равное пороговому напряжению перехода.

Первый преобразователь может преобразовывать эту мощность, уменьшая ток на первый коэффициент N и повышая напряжение максимум на первый коэффициент N; второй преобразователь может преобразовывать эту мощность, еще уменьшая ток на второй коэффициент N' и еще повышая напряжение максимум на второй коэффициент N'. Такое каскадное выполнение позволяет добиваться больших значений напряжения с преобразователями малого размера.

Каждый преобразователь 50 может быть связан с электроникой управления, которая контролирует коэффициент уменьшения тока и повышения напряжения. Электроника управления может быть общей для всех преобразователей одного элемента. В такую электронику можно также интегрировать привод поиска максимальной рабочей точки (МРРТ) элемента. Электроника управления позволяет, в частности, перепрограммировать работу каждого преобразователя 50, например, если потребности нагрузки 100 меняются или если предложено более эффективное правило управления. Такая электроника может также обнаруживать нарушения в работе как на уровне элемента 60, так и на уровне преобразователей 50 и прерывать передачу мощности и/или оповещать нагрузку 100 и/или внешнего наблюдателя, такого как контролер сети. Передачу данных между электроникой управления и нагрузкой 100 можно осуществлять, например, при помощи несущих линейных токов (CPL) или при помощи радиосвязи.

Вместе с тем электроника управления преобразователями 50 не является обязательной для применения изобретения; если потребности нагрузки в напряжении являются фиксированными, преобразователь 50 может быть выполнен с возможностью непосредственной выдачи напряжения в соответствующем рабочем диапазоне, адаптированном к энергетической производительности элемента 60.

На фиг.5 (которая выходит за рамки изобретения, но представлена для лучшего его понимания) схематично показана электрическая аналогия единственного фотогальванического элемента, покрывающего всю площадь устройства. Как было указано выше, фотогальванический элемент в основном состоит из диода; таким образом, его выходное напряжение соответствует пороговому напряжению диода, и выходной ток напрямую зависит от размера и материалов элемента и от окружающих условий. Такой элемент может выдавать большой максимальный ток Icc, например, около 150 А для активных слоев типа тонкого слоя кремния площадью порядка 1 м2 с пороговым напряжением Voc, обычно меньшим 1 В. Как правило, такое выходное напряжение не совместимо с внешними нагрузками, для которых предназначено фотогальваническое устройство. Например, в применении для зарядного устройства батареи требуемое выходное напряжение составляет примерно 12 В. Точно так же в применении для электрической сети требуемое выходное напряжение составляет примерно 240 В. Эти значения напряжения намного выше того, что может обеспечить единственный фотогальванический элемент, покрывающий всю площадь устройства. Кроме того, лишь немногие приложения нуждаются в таком высоком токе, который выдает единственный элемент большого размера.

Поэтому известные фотогальванические устройства содержат множество последовательно соединенных элементов. Каждый элемент имеет небольшой размер по отношению к общей площади устройства; следовательно, выходной ток уменьшается, но последовательное соединение позволяет повысить выходное напряжение.

На фиг.6 (которая выходит за рамки изобретения, но представлена для лучшего его понимания) схематично показана электрическая аналогия элемента сегмента фотогальванического устройства. Если фотогальваническое устройство содержит N полос элементов на всей площади, идентичной площади устройства, показанного на фиг.5, то максимальный ток Icc будет уменьшен на коэффициент N минус площадь, занятая рисками; выходное напряжение элемента будет по-прежнему равно пороговому напряжению диода, образующего элемент.

На фиг.7 (которая выходит за рамки изобретения, но представлена для лучшего его понимания) схематично показана электрическая аналогия последовательного соединения множества фотогальванических элементов, показанных на фиг.6. Максимальный ток Icc остается меньше с учетом малой площади каждого элемента, но выходное напряжение повышается на коэффициент N за счет последовательного соединения элементов. Выходное напряжение может быть при этом совместимым с внешним приложением.

Однако, как было указано выше, сегментирование слоев фотогальванического устройства является длительным и дорогим процессом и представляет собой точку ограничения производственной мощности. Кроме того, последовательное соединение фотогальванических элементов ограничивает выходной ток наименее освещенного элемента устройства.

Поэтому, как было указано выше со ссылками на фиг.4, изобретением предлагается фотогальваническое устройство, содержащее единственный фотогальванический элемент 60, связанный по меньшей мере с одним статическим преобразователем 50.

На фиг.8 схематично показана электрическая аналогия фотогальванического устройства в соответствии с настоящим изобретением. Как было указано выше, фотогальванический элемент устройства может быть электрически ассимилирован с диодом; его характеристика мощности будет идентичной характеристике, описанной в связи с фиг.5, при номинальном выходном напряжении Vp, соответствующем пороговому напряжению диода, и максимальном выходном токе Icc, зависящем от размера и материалов элемента, а также от окружающих условий. Однако элемент устройства в соответствии с настоящим изобретением связан со статическим преобразователем (DC/DC или АС/АС), который преобразует мощность, выдаваемую элементом, уменьшая ток на коэффициент N и повышая напряжение максимум на коэффициент N. Выходная мощность преобразователя по существу равна входной мощности (преобразование мощности порождает потери, даже если они ограничены), но выходное напряжение можно повысить до значений, совместимых с потребностями нагрузки.

Таким образом, фотогальванический элемент 60 устройства в соответствии с настоящим изобретением выдает большой ток Icc, который может достигать 150 А и даже больше с низким номинальным напряжением Vp, как правило менее 1 В. Преобразователь 50 устройства в соответствии с настоящим изобретением обеспечивает повышение этого напряжения на коэффициент N, который может составлять от 10 до 50 в зависимости от приложений, при соответствующем уменьшении тока. Если коэффициент повышения напряжения - уменьшения тока, необходимый для нагрузки является большим, можно установить несколько преобразователей (DC/DC или АС/АС) в виде каскада, как показано на фиг.4. В рамках изобретения можно использовать так называемые преобразователи типа Boost, Buck, Buck-Boost или Cuck.

Фотогальванический элемент 60 устройства в соответствии с настоящим изобретением обеспечивает прохождение больших токов без повреждения слоев элементов. Слои электродов 11, 12 можно адаптировать с точки зрения материалов и толщины для ограничения удельного сопротивления и нагрева. Точно так же шины 31, 32 электрического соединения, предусмотренные для сбора тока от каждого электрода 11, 12 элемента, можно адаптировать с точки зрения материалов и сечений для передачи сильных токов.

Разумеется, настоящее изобретение не ограничивается описанными в качестве примеров вариантами выполнения. В частности, указанные материалы для изготовления различных слоев элемента представлены исключительно в качестве примера и зависят от применяемых способов и оборудования для изготовления. Точно так же значения тока и напряжения приведены только в качестве примера и зависят от типа фотогальванического элемента и от нагрузки, для которой предназначено устройство.


ФОТОГАЛЬВАНИЧЕСКОЕ УСТРОЙСТВО И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ
ФОТОГАЛЬВАНИЧЕСКОЕ УСТРОЙСТВО И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ
ФОТОГАЛЬВАНИЧЕСКОЕ УСТРОЙСТВО И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ
ФОТОГАЛЬВАНИЧЕСКОЕ УСТРОЙСТВО И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ
ФОТОГАЛЬВАНИЧЕСКОЕ УСТРОЙСТВО И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ
ФОТОГАЛЬВАНИЧЕСКОЕ УСТРОЙСТВО И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ
ФОТОГАЛЬВАНИЧЕСКОЕ УСТРОЙСТВО И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ
ФОТОГАЛЬВАНИЧЕСКОЕ УСТРОЙСТВО И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ
Источник поступления информации: Роспатент

Показаны записи 1-10 из 37.
27.05.2013
№216.012.445a

Модифицированные 2'- и 3'-нуклеозиды и их применение для получения лекарственного средства для лечения инфекций flaviviridae

Настоящее изобретение относится к новым соединениям формулы (IVa) или их фармацевтически приемлемым солям, для лечения инфекции Flaviviridae, а также к фармацевтической композиции на их основе и к их применению при получении лекарственного средства. В соединении формулы (IVa) основание*...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002483075
Дата охранного документа: 27.05.2013
20.06.2014
№216.012.d23f

Фотогальванический модуль, содержащий прозрачный проводящий электрод переменной толщины и способы изготовления такого модуля

Изобретение относится к фотогальваническому модулю (1), содержащему, по меньшей мере, два последовательно соединенных фотогальванических элемента (7, 7'), при этом каждый элемент (7, 7') имеет прямоугольную форму и содержит соответственно первый задний тонкослойный электрод (5, 5'),...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002519594
Дата охранного документа: 20.06.2014
10.08.2014
№216.012.e8cf

Соединения и фармацевтические композиции для лечения вирусных инфекций

Настоящее изобретение относится к соединениям формул: где R представляет собой гидрокси(C-C)алкил; R и R независимо представляют собой водород, необязательно замещенный C-C алкил, арил, арил(C-C)алкил или (C-C)циклоалкил, или R и R вместе с атомом азота образуют гетероциклическое или...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002525392
Дата охранного документа: 10.08.2014
27.09.2014
№216.012.f94e

Способ изготовления мультипереходных и многоэлектродных фотогальванических элементов

Фотогальваническое устройство, содержащее: набор по меньшей мере из двух фотогальванических элементов (160, 260), промежуточный листовой материал (300), расположенный между каждым фотогальваническим элементом, при этом каждый фотогальванический элемент содержит: два токовых вывода (185, 185'),...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002529659
Дата охранного документа: 27.09.2014
27.12.2014
№216.013.15ef

Электронная система управления фотогальваническими элементами посредством адаптированных порогов

Группа изобретений относится к области фотогальванических генераторов. Технический результат заключается в повышении КПД преобразования генератора. Для этого предложен способ управления фотогальваническим генератором, содержащим по меньшей мере один фотогальванический элемент и множество n...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002537039
Дата охранного документа: 27.12.2014
10.02.2015
№216.013.25a9

Система электронного управления фотоэлектрическими элементами

Группа изобретений относится к области фотоэлектрических генераторов. Технический результат заключается в оптимизации управления энергией, производимой каждой группой фотоэлектрических элементов генератора, с целью наилучшего согласования мощности генератора с потребностями нагрузки и/или...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002541094
Дата охранного документа: 10.02.2015
20.02.2015
№216.013.2721

Нанокомпозитный твердый материал на основе гекса- и октацианометаллатов, способ его приготовления и способ фиксации минеральных загрязнителей с использованием упомянутого материала

Изобретение относится к нанокомпозитному твердому материалу на основе гекса- и октацианометаллатов, способам их получения и применгению в качестве минеральных фиксаторов. Предложен нанокомпозитный твердый материал, содержащий наночастицы металлокоординационного полимера с лигандами CN,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002541474
Дата охранного документа: 20.02.2015
10.07.2015
№216.013.5c77

Гетеропереходный фотогальванический элемент с задним контактом

Фотогальванический элемент содержит кристаллическую полупроводниковую подложку (1), содержащую переднюю сторону (1а) и заднюю сторону (1b); передний пассивирующий слой (3), нанесенный на переднюю сторону (1а) подложки (1); задний пассивирующий слой (2), нанесенный на заднюю сторону (1b)...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002555212
Дата охранного документа: 10.07.2015
20.10.2015
№216.013.8342

Использование отверждаемых смол, содержащих преполимер на основе (мет)акрилата глицидила для изготовления материалов для применения в космосе

Изобретение относится к применению отверждаемых смол, содержащих преполимер на основе (мет)акрилата глицидила для изготовления композитных материалов для применения в космосе и, более конкретно, к композитным материалам, входящим в состав структур, предназначенных для развертывания в космосе и...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002565205
Дата охранного документа: 20.10.2015
20.04.2016
№216.015.32f1

Ингибиторы апоптоза и их применение

Изобретение относится к области биотехнологии, конкретно к получению антиапоптозных фрагментов белка DAXX, и может быть использовано в медицине для лечения острого инфаркта миокарда (AMI), церебрального инфаркта, при трансплантации органов, операциях на сердце, острых нарушениях кровообращения,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002582247
Дата охранного документа: 20.04.2016
Показаны записи 1-10 из 13.
27.05.2013
№216.012.445a

Модифицированные 2'- и 3'-нуклеозиды и их применение для получения лекарственного средства для лечения инфекций flaviviridae

Настоящее изобретение относится к новым соединениям формулы (IVa) или их фармацевтически приемлемым солям, для лечения инфекции Flaviviridae, а также к фармацевтической композиции на их основе и к их применению при получении лекарственного средства. В соединении формулы (IVa) основание*...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002483075
Дата охранного документа: 27.05.2013
20.06.2014
№216.012.d23f

Фотогальванический модуль, содержащий прозрачный проводящий электрод переменной толщины и способы изготовления такого модуля

Изобретение относится к фотогальваническому модулю (1), содержащему, по меньшей мере, два последовательно соединенных фотогальванических элемента (7, 7'), при этом каждый элемент (7, 7') имеет прямоугольную форму и содержит соответственно первый задний тонкослойный электрод (5, 5'),...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002519594
Дата охранного документа: 20.06.2014
10.08.2014
№216.012.e8cf

Соединения и фармацевтические композиции для лечения вирусных инфекций

Настоящее изобретение относится к соединениям формул: где R представляет собой гидрокси(C-C)алкил; R и R независимо представляют собой водород, необязательно замещенный C-C алкил, арил, арил(C-C)алкил или (C-C)циклоалкил, или R и R вместе с атомом азота образуют гетероциклическое или...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002525392
Дата охранного документа: 10.08.2014
27.09.2014
№216.012.f94e

Способ изготовления мультипереходных и многоэлектродных фотогальванических элементов

Фотогальваническое устройство, содержащее: набор по меньшей мере из двух фотогальванических элементов (160, 260), промежуточный листовой материал (300), расположенный между каждым фотогальваническим элементом, при этом каждый фотогальванический элемент содержит: два токовых вывода (185, 185'),...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002529659
Дата охранного документа: 27.09.2014
27.12.2014
№216.013.15ef

Электронная система управления фотогальваническими элементами посредством адаптированных порогов

Группа изобретений относится к области фотогальванических генераторов. Технический результат заключается в повышении КПД преобразования генератора. Для этого предложен способ управления фотогальваническим генератором, содержащим по меньшей мере один фотогальванический элемент и множество n...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002537039
Дата охранного документа: 27.12.2014
10.02.2015
№216.013.25a9

Система электронного управления фотоэлектрическими элементами

Группа изобретений относится к области фотоэлектрических генераторов. Технический результат заключается в оптимизации управления энергией, производимой каждой группой фотоэлектрических элементов генератора, с целью наилучшего согласования мощности генератора с потребностями нагрузки и/или...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002541094
Дата охранного документа: 10.02.2015
20.02.2015
№216.013.2721

Нанокомпозитный твердый материал на основе гекса- и октацианометаллатов, способ его приготовления и способ фиксации минеральных загрязнителей с использованием упомянутого материала

Изобретение относится к нанокомпозитному твердому материалу на основе гекса- и октацианометаллатов, способам их получения и применгению в качестве минеральных фиксаторов. Предложен нанокомпозитный твердый материал, содержащий наночастицы металлокоординационного полимера с лигандами CN,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002541474
Дата охранного документа: 20.02.2015
10.07.2015
№216.013.5c77

Гетеропереходный фотогальванический элемент с задним контактом

Фотогальванический элемент содержит кристаллическую полупроводниковую подложку (1), содержащую переднюю сторону (1а) и заднюю сторону (1b); передний пассивирующий слой (3), нанесенный на переднюю сторону (1а) подложки (1); задний пассивирующий слой (2), нанесенный на заднюю сторону (1b)...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002555212
Дата охранного документа: 10.07.2015
20.10.2015
№216.013.8342

Использование отверждаемых смол, содержащих преполимер на основе (мет)акрилата глицидила для изготовления материалов для применения в космосе

Изобретение относится к применению отверждаемых смол, содержащих преполимер на основе (мет)акрилата глицидила для изготовления композитных материалов для применения в космосе и, более конкретно, к композитным материалам, входящим в состав структур, предназначенных для развертывания в космосе и...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002565205
Дата охранного документа: 20.10.2015
20.04.2016
№216.015.32f1

Ингибиторы апоптоза и их применение

Изобретение относится к области биотехнологии, конкретно к получению антиапоптозных фрагментов белка DAXX, и может быть использовано в медицине для лечения острого инфаркта миокарда (AMI), церебрального инфаркта, при трансплантации органов, операциях на сердце, острых нарушениях кровообращения,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002582247
Дата охранного документа: 20.04.2016
+ добавить свой РИД