×
17.08.2019
219.017.c11b

Результат интеллектуальной деятельности: СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ СПИН-ПОЛЯРИЗОВАННЫХ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА В ГРАФЕНЕ

Вид РИД

Изобретение

№ охранного документа
0002697517
Дата охранного документа
15.08.2019
Аннотация: Использование: для получения спин-поляризованных носителей заряда в графене. Сущность изобретения заключается в том, что методом молекулярно-лучевой эпитаксии на поверхности предварительно сформированной структуры монослой графена/подложка формируют субмонослой европия со структурой Eu. Технический результат: обеспечение возможности получения спин-поляризованных носителей заряда в графене. 4 ил., 2 пр.

Область техники

Изобретение относится к областям спинтроники и эпитаксиальных тонкопленочных материалов и заключается в получении спин-поляризованных носителей заряда в графене посредством формирования поверхностной фазы европия, и может быть использовано для создания таких устройств спинтроники, как спиновые логические устройства, спиновый транзистор и инжектор спин-поляризованных носителей.

Уровень техники

Интерес последних лет к спиновому транспорту связан с возможностью создавать энергоэффективные и быстродействующие устройства. Графен стал одним из приоритетных направлений спинтронных исследований, так как является перспективным материалом для электроники благодаря большой длине спиновой диффузии, достигающей нескольких микронов, возможности получить спиновый транспорт вплоть до комнатных температур, высокой подвижности носителей и контролю их концентрацию посредством затвора. Таким образом, в настоящее время стоит задача разработать способ получения графена высокого качества, обладающего магнитными свойствами.

Известно значительное количество работ, посвященных попыткам сделать графен магнитным различными, методами. В данном техническом решении предложен способ получения спин-поляризованных носителей в графене за счет создания поверхностной фазы Eu, демонстрирующей ферромагнитное поведение.

Известен подход, в котором спиновая поляризация носителей достигается за счет создания дефектов в структуре графена. Примером может послужить статья «Контроль магнетизма в графене при помощи атомов водорода на атомарном масштабе» «Atomic-scale control of graphene magnetism by using hydrogen atoms» (статья DOI: 10.1126/science.aad8038), в которой дефекты в структуре создаются при помощи легких адатомов водорода, образующих сильную ковалентную связь, что приводит к исчезновению одной pz орбитали на адатом. Нарушение симметрии приводит к возникновению квазилокального магнитного момента в соответствии с теоремой Либа в рамках модели Хаббарда для двух подрешеток - структуры характерной для графена, чья решетка состоит из двух треугольных подрешеток.

Известны и другие способы получения магнитных состояний в графене путем создания вакансий и нарушения симметрий решетки. К ним относят облучение графена протонами, создание графеновых нанолент или имплантирование тяжелых атомов, однако нарушение структуры кристалла приводит к значительному ухудшению спинового транспорта. Кроме того, процессы формирования дефектов зачастую вероятностны и неудобны для производства наноразмерных устройств.

Известны изобретения «Графеновый спиновый фильтр» патент РФ №2585404, «Наноустройства для спинтроники и методы их использования» «Nanodevices for spintronics and methods of using same» патент США № US 8378329 и научные статьи «Эффективная спиновая инжекция в графен через туннельный барьер: преодоление несоответствия в спиновой проводимости» «Efficient Spin Injection into Graphene through a Tunnel Barrier: Overcoming the Spin-Conductance Mismatch» (DOI: 10.1103/PhysRevApplied.2.044008), в которых спин-поляризованные носители инжектируются в графен из металлов Fe, Со, Ni и их сплавов. Описаны различные схемы инжекций: с прямым контактом с металлом, с контактом через тонкий диэлектрический слой, с контактом через немагнитный металл. Общим недостатком данных методов является низкая эффективность инжекций спин-поляризованных носителей и низкие спиновые токи.

Известно изобретение «Графеновое устройство, способное осуществлять спиновую поляризацию, и метод его создания» Заявка Китай № CN 106449968 А, в котором спиновая поляризация носителей достигается за счет близости графенового листа со слоем ферромагнитного изолятора. Недостатком данного изобретения является то, что объединение производится путем переноса тонкого листа изолятора на графен. Подобная схема сложно воспроизводима в промышленных масштабах и обеспечивает плохой контакт изолятора с графеновым листом, что ведет к худшей спиновой поляризации носителей.

Известны научные статьи, в которых спиновая поляризация достигается за счет переноса графена на ферромагнитные металлические пластины или создания тонкой пленки ферромагнитного металла на графене. Примером может являться статья «Электронная структура и магнитные свойства интеркаляционной системы графен/Fe/Ni(111)» «Electronic structure and magnetic properties of the graphene/Fe/Ni(111) intercalation-like system» (статья DOI: 10.1039/c1cp00014d), в которой графен расположен на поверхности кристалла никеля, а для улучшения магнитных свойств произведена интеркаляция графена атомами железа, обладающими большим, чем никель, магнитным моментом. Недостатком данного подхода является шунтирование графена металлом.

Задачей, решаемой изобретением, является создание эффективного способа получения спин-поляризованных носителей заряда в графене с сохранением его физических свойств, что может быть использовано для создания таких технических устройств, как спиновый транзистор и спиновый фильтр.

Для достижения технического результата предложен способ получения спин-поляризованных носителей заряда в графене, заключающийся в том, что методом молекулярно-лучевой эпитаксии на поверхности предварительно сформированной структуры монослой графена/подложка формируют субмонослой европия со структурой .

Описанный способ позволяет получить поверхностную фазу Eu на поверхности монослоя графена, что приводит появлению спин-поляризованных носителей в графене. Предложенный способ позволяет достичь высокой спиновой. Поляризации электронов в графене за счет обменного взаимодействия с атомами европия, обладающими большим магнитным моментом и находящимися в непосредственном контакте с поверхностью, в то же время покрытие поверхности субмонослоем не создает шунтирующего металлического проводящего слоя и не нарушает структуру графена, что не может быть достигнуто способами, указанными в аналогах.

Краткое описание чертежей

Изобретение поясняется чертежами.

На Фиг. 1 даны изображения дифракции быстрых электронов на исходной поверхности Графен/SiO2/Si до отжига (а) и после отжига (б). На рисунке (в) приведено изображение поверхностной фазы в процессе формирования поверхностной фазы европия - Eu/Графен/SiO2/Si.

На Фиг. 2 дано схематичное изображение поверхностной фазы Eu/Графен. Под субмонослоем понимают слой вещества толщиной в один атом с неполным покрытием поверхности атомами (Фиг. 2).

На Фиг. 3 приведена зависимость намагниченности образца от магнитного поля, приложенного параллельно плоскости поверхности.

На Фиг. 4 приведено поведение намагниченности образца в зависимости от температуры в захваченном поле. Стрелками на изображении отмечено направление протекания процесса.

Осуществление изобретения

В изобретении предложен способ получения спин-поляризованных носителей в графене за счет создания поверхностной фазы. Eu, демонстрирующей ферромагнитное поведение, при температуре подложки Ts=20÷100°С и давлении потока атомов европия PEu=(1⋅10-8÷1⋅10-7) торр.

В установках молекулярно-лучевой эпитаксии обычно имеет место неоднозначная трактовка температур подложки. В настоящем изобретении температуры подложки выше 270°С определяются по показаниям инфракрасного пирометра, ниже - по показаниям термопары.

Давлением потока считается давление, измеренное ионизационным манометром Баярда-Альперта, находящимся в положении подложки.

Все параметры и материалы, указанные в примерах, соответствуют используемой в экспериментах установке и не являются единственно возможными.

В технологическом процессе может использоваться любая подложка с осажденным на нее монослоем графена, кроме указанной в примерах подложки из кремния, не деградирующая при приведенных ростовых условиях. Монослой графена предварительно может быть осажден на поверхность различных подложек при помощи как ростовых технологий, так и технологий переноса пленки «Science and technology roadmap for graphene, related two-dimensional crystals, and hybrid systems» (DOI: 10.1039/c4nr01600a)).

Примеры

Пример 1 осуществления способа изобретения. Структура Графен/SiO2/Si помещается в сверхвысоковакуумную камеру (остаточный вакуум Р~1⋅10-10 торр). Затем для очистки поверхности графена, осуществляется отжиг структуры при температуре Ts=600°С. Тот факт, что графен очищен, устанавливается с помощью дифракции быстрых электронов (Фиг. 1а-б). После чего структуру охлаждают до Ts=20÷100°С, затем открывают на 20 сек заслонку ячейки Eu предварительно прогретой до температуры, обеспечивающей давление потока PEu=4.5⋅10-8 торр, что соответствует субмонослойному покрытию поверхности необходимой структуры . Условия осуществления регламентированы оборудованием - в данном эксперименте использовалось установка молекулярно-лучевой эпитаксии Riber Compact 12.

Во время осаждения чистого Eu на картинах дифракции быстрых электронов появляются промежуточные рефлексы (Фиг. 1в). Эти изменения свидетельствуют об образовании периодичного субмонослойного покрытия металлического европия со структурой типа (Фиг. 2). В связи с необходимостью полной защиты субмонослоя от окисления по окончании роста, не доставая образец; из высоковакуумной камеры, при помощи метода молекулярно-лучевой эпитаксии, пленку закрывают сплошным слоем Al толщиной не менее 100 нм. Исследования магнетизма структуры показали наличие ферромагнитного поведения. Полевая зависимость имеет нелинейный характер, присутствует насыщение при 4000÷5000 Э (Фиг. 3), измерения остаточной намагниченности в захваченном поле показали, что намагниченность образца, наведенная в поле 1000 Э при температуре 2 K, распадается при росте температуры. При последующем охлаждении образец не демонстрирует возвращение к прежнему значению намагниченности, что говорит о наличии, ферромагнитной составляющей магнетизма (Фиг. 4).

Пример 2

Способ реализуется, как в Примере 1, по окончании осаждения защитного слоя Al производится осаждение методом молекулярно-лучевой эпитаксии дополнительного защитного слоя SiOx толщиной 200 нм.

Все ростовые процессы, указанные в примерах, производятся последовательно в одной установке молекулярно-лучевой эпитаксии в сверхвысоком вакууме.

В результате осуществления ростовых процедур, описанных в примерах, и последующей характеризации полученных пленок были впервые получены и изучены магнитные свойства графена с осажденным субмонослоем Eu со структурой .

Таким образом, показана возможность получения поверхностной фазы Eu. Получение такой фазы приводит к появлению спин-поляризованных носителей заряда в графене, что подтверждает достижение технического результата и может быть использовано при создании устройств спинтроники, например спиновых фильтров и инжекторов спин-поляризованного тока.

Способ получения спин-поляризованных носителей заряда в графене, заключающийся в том, что методом молекулярно-лучевой эпитаксии на поверхности предварительно сформированной структуры монослой графена/подложка формируют субмонослой европия со структурой Eu.
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ СПИН-ПОЛЯРИЗОВАННЫХ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА В ГРАФЕНЕ
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ СПИН-ПОЛЯРИЗОВАННЫХ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА В ГРАФЕНЕ
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ СПИН-ПОЛЯРИЗОВАННЫХ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА В ГРАФЕНЕ
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ СПИН-ПОЛЯРИЗОВАННЫХ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА В ГРАФЕНЕ
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ СПИН-ПОЛЯРИЗОВАННЫХ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА В ГРАФЕНЕ
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ СПИН-ПОЛЯРИЗОВАННЫХ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА В ГРАФЕНЕ
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ СПИН-ПОЛЯРИЗОВАННЫХ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА В ГРАФЕНЕ
Источник поступления информации: Роспатент

Showing 1-10 of 259 items.
10.01.2013
№216.012.1845

Способ осаждения мономолекулярных пленок фторфуллерена cf на подложку, устройство ввода подложки в вакуум и устройство для испарения фторфуллерена cf

Изобретение может быть использовано в нелинейной оптике и пироэлектрических устройствах. Перед осаждением пленки подготавливают подложку, отделяя от высокоориентированного пирографита тонкий слой с помощью двусторонней липкой ленты. Порошок CF загружают в испарительную ячейку, помещают в...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002471705
Дата охранного документа: 10.01.2013
20.02.2013
№216.012.2632

Способ получения нанопорошков из различных электропроводящих материалов

Изобретение может быть использовано в химической, радиоэлектронной отраслях промышленности и энергетике. Из выбранного материала изготавливаются электропроводящие электроды. На электроды подают высоковольтное импульсное напряжение для генерации сильноточного разряда, происходит нагрев и...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002475298
Дата охранного документа: 20.02.2013
20.02.2013
№216.012.283c

Способ постоянного поэлементного дублирования в дискретных электронных системах (варианты)

Изобретения относятся к области вычислительной техники и электроники и более точно к способам поэлементного дублирования в дискретных электронных системах, в том числе в наноэлектронных системах, подвергающихся воздействию радиации и в первую очередь потока высокоэнергетических частиц....
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002475820
Дата охранного документа: 20.02.2013
20.02.2013
№216.012.286d

Ядерный реактор с водой под давлением с активной зоной на основе микротвэлов и способ осуществления его работы

Изобретение относится к области атомной энергетики и может быть использовано в реакторах типа ВВЭР с активной зоной на основе микротвэлов, включающих тепловыделяющие сборки с поперечным течением теплоносителя. Для этого предложен ядерный реактор с водой под давлением с активной зоной на основе...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002475869
Дата охранного документа: 20.02.2013
20.02.2013
№216.012.289d

Система автоматической компенсации реактивной мощности и отклонения напряжения с широтно-импульсной модуляцией на высокой стороне трансформаторной подстанции

Использование: в области электротехники. Технический результат заключается в повышении качества напряжения и улучшении энергетических и массогабаритных показателей подстанций. Устройство содержит вольтодобавочный трансформатор, который включен на высокой стороне подстанции и управляется от...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002475917
Дата охранного документа: 20.02.2013
10.03.2013
№216.012.2eec

Многоэлементный термоэмиссионный электрогенерирующий канал

Изобретение относится к энергетике и может быть использовано при создании энергетических установок прямого преобразования тепловой энергии в электрическую. Технический результат - повышение эффективности многоэлементных термоэмиссионных электрогенерирующих каналов. Для этого эмиттеры...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002477543
Дата охранного документа: 10.03.2013
20.03.2013
№216.012.2f8a

Способ получения в графите графеновых ячеек с добавкой радиоактивных изотопов

Изобретение относится к области неорганического материаловедения, к способам получения материалов - бета-излучателей на основе ориентированного пиролитического графита. Процесс интеркаляции добавки трития в ориентированный графит с сечением захвата тепловых нейтронов около (4,5-6,0)10 барн...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002477705
Дата охранного документа: 20.03.2013
20.03.2013
№216.012.304b

Ядерная паропроизводительная установка

Изобретение относится к высокотемпературной ядерной энергетике и может быть использовано для реновации блоков с органическим топливом. Ядерная паропроизводительная установка включает высокотемпературный реактор, снабженный парогенератором и промперегревателем. Для обеспечения паром необходимых...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002477898
Дата охранного документа: 20.03.2013
20.03.2013
№216.012.304f

Способ формирования проводников в наноструктурах

Изобретение относится к технологии создания сложных проводящих структур и может быть использовано в нанотехнологии. Сущность изобретения: способ формирования проводников в наноструктурах включает нанесение на подложку исходного диэлектрического вещества, в молекулы которого входят атомы...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002477902
Дата охранного документа: 20.03.2013
10.04.2013
№216.012.32e2

Способ извлечения гелия из природного газа

Изобретение относится к химической, нефтехимической, газовой промышленности и может быть использовано при извлечении или концентрировании гелия из природного газа. Способ извлечения гелия из природного газа включает получение гелиевого концентрата с последующей его низкотемпературной или...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002478569
Дата охранного документа: 10.04.2013
Showing 1-7 of 7 items.
25.08.2017
№217.015.ca35

Способ выращивания эпитаксиальных пленок дисилицида стронция на кремнии

Изобретение относится к способам получения эпитаксиальных тонкопленочных материалов, а именно новой фазы дисилицида стронция, обладающего в контакте с кремнием низкой высотой барьера Шоттки, и может быть использовано для создания контактов истока/стока в технологии производства полевых...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002620197
Дата охранного документа: 23.05.2017
09.08.2018
№218.016.79e3

Способ получения эпитаксиальной пленки многослойного силицена, интеркалированного европием

Изобретение относится к способам получения эпитаксиальных тонкопленочных материалов, а именно EuSi кристаллической модификации hP3 (пространственная группа N164, ) со структурой интеркалированных европием слоев силицена, которые могут быть использованы для проведения экспериментов по...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002663041
Дата охранного документа: 01.08.2018
23.02.2019
№219.016.c6f4

Способ выращивания эпитаксиальных пленок монооксида европия на графене (варианты)

Изобретение относится к способам получения эпитаксиальных тонкопленочных материалов, а именно пленок монооксида европия на графене, и может быть использовано для создания таких устройств спинтроники, как спиновый транзистор и инжектор спин-поляризованных носителей. Способ выращивания...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002680544
Дата охранного документа: 22.02.2019
29.12.2020
№219.017.f404

Способ создания двумерного ферромагнитного материала дисилицида гадолиния со структурой интеркалированных слоев силицена

Изобретение относится к технологии создания двумерных магнитных материалов для сверхкомпактных спинтронных устройств. Способ получения дисилицида гадолиния GdSiсо структурой интеркалированных слоев силицена методом молекулярно-лучевой эпитаксии заключается в осаждении атомарного потока...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002710570
Дата охранного документа: 27.12.2019
04.06.2020
№220.018.23dd

Способ создания двумерных ферромагнитных материалов euge и gdge на основе германена

Изобретение относится к технологии получения двумерных ферромагнитных материалов EuGe или GdGe, которые могут быть использованы при создании компактных спинтронных устройств. Способ создания двумерных ферромагнитных материалов EuGe и GdGe на основе германена заключается в осаждении атомарного...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002722664
Дата охранного документа: 02.06.2020
13.06.2020
№220.018.26c5

Способ создания материалов на основе германена euge и srge с высокой подвижностью носителей заряда

Изобретение относится к получению материалов на основе германена EuGe и SrGe с высокой подвижностью носителей заряда, которые могут использоваться при создании наноэлектронных устройств. Атомарный поток европия или стронция с давлением (0,1÷100)⋅10 Торр осаждают на предварительно очищенную...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002723125
Дата охранного документа: 08.06.2020
20.04.2023
№223.018.4d2f

Способ создания интерфейса для интеграции монокристаллического оксида европия с германием

Изобретение относится к технологии формирования эпитаксиальных гетероструктур, а именно тонких пленок оксида европия на германии, которые могут быть использованы при создании устройств германиевой наноэлектроники и спинтроники, в частности инжекторов спин-поляризационного тока, спиновых...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002793379
Дата охранного документа: 31.03.2023
+ добавить свой РИД