×
09.06.2019
219.017.799c

Результат интеллектуальной деятельности: МОЩНЫЙ СВЧ ПОЛЕВОЙ ТРАНЗИСТОР С БАРЬЕРОМ ШОТКИ

Вид РИД

Изобретение

Аннотация: Изобретение относится к электронной технике. Мощный СВЧ полевой транзистор с барьером Шотки содержит полуизолирующую подложку арсенида галлия с активным слоем, гребенку из чередующейся, по меньшей мере, более одной последовательности единичных электродов истока, затвора, стока. Между парами единичных электродов исток-сток расположены области полуизолирующего арсенида галлия, а в парах единичных электродов исток-сток расположены каналы с канавками, в последних расположены единичные электроды затвора. Единичные электроды затвора расположены асимметрично в сторону единичных электродов истока, одноименные единичные электроды истока, затвора, стока соединены электрически. При этом полевой транзистор с барьером Шотки, согласно изобретению, в канале каждой из пар единичных электродов исток-сток со стороны единичного электрода истока дополнительно содержит диэлектрический слой, имеющий низкую диэлектрическую проницаемость, толщиной, равной 0,15-0,25 мкм, а каждый из единичных электродов затвора относительно его боковой поверхности со стороны единичного электрода стока выполнен по высоте с разным размером поперечного сечения в сторону единичного электрода истока, верхним - длинным и нижним - коротким, примыкающим к поверхности канавки канала, при этом размер поперечного сечения верхней - длинной части превышает размер поперечного сечения нижней - короткой части на 0,5-0,8 мкм, высота последней равна толщине дополнительного диэлектрического слоя. При этом с одной стороны две взаимно перпендикулярные поверхности дополнительного диэлектрического слоя относительно его толщины непосредственно примыкают по ширине единичного электрода затвора к вертикальной поверхности его нижней - короткой части и к горизонтальной превышающей поверхности верхней - длинной части соответственно, а с противоположной стороны упомянутые поверхности расположены вровень с краем верхней - длинной части единичного электрода затвора либо перекрывают от этого края канал с единичным электродом истока не более 4 мкм. Изобретение обеспечивает повышение выходной мощности, коэффициента усиления по мощности и коэффициента полезного действия. 3 з.п. ф-лы, 2 ил., 1 табл.

Изобретение относится к электронной технике и может быть использовано в качестве активных элементов СВЧ устройств различного назначения.

Выходная мощность и коэффициент усиления по мощности (далее коэффициент усиления) - одни из основных параметров мощных СВЧ полевых транзисторов с барьером Шотки (далее полевой транзистор).

Одни из возможных путей повышения указанных параметров - это:

- снижение теплового и паразитных электрических сопротивлений,

- увеличение ширины электрода затвора,

- снижение паразитных емкостей,

- либо их сочетание.

С целью снижения паразитного электрического сопротивления электрода затвора полевого транзистора используют известное и широко используемое на сегодня конструктивное решение, заключающееся в том, что электрод затвора полевого транзистора с барьером Шотки выполнен так называемой Т-образной конфигурацией субмикронной длины [1]. При этом диэлектрический слой расположен под верхней частью электрода затвора Т-образной конфигурации, как со стороны электрода истока, так и со стороны электрода стока. Данное конструктивное решение позволило благодаря снижению паразитного электрического сопротивления повысить выходную мощность и коэффициент усиления полевого транзистора.

Однако, с другой стороны, наличие диэлектрического слоя под верхней частью электрода затвора полевого транзистора Т-образной конфигурации со стороны электрода стока приводит к возрастанию паразитной емкости между электродами затвор-сток и тем самым:

во-первых, ограничивает максимально возможное повышение выходных параметров СВЧ,

во-вторых, упомянутая паразитная емкость является элементом нежелательной положительной обратной связи, приводящей к паразитной генерации, это усложняет использование полевого транзистора в качестве активного элемента в устройствах СВЧ и как следствие - ограничивает его функциональные возможности.

С целью увеличения ширины электрода затвора полевого транзистора используют многозатворную конструкцию.

При этом чем больше ширина общего электрода затвора, тем выше выходная мощность.

Однако, с другой стороны, при достаточно большой ширине единичного электрода затвора снижается эффективность работы полевого транзистора, то есть удельная выходная мощность в расчете на единицу ширины единичного электрода затвора вследствие значительного паразитного сопротивления общего электрода затвора и как следствие - снижение выходной мощности, коэффициента усиления и коэффициента полезного действия.

Известен мощный СВЧ полевой транзистор с барьером Шотки многозатворной конструкции, в котором с целью устранения выше указанного недостатка он выполнен в виде так называемой гребенки из чередующейся последовательности единичных электродов истока, затвора, стока, при этом единичные электроды затвора расположены в канавках каналов, выполненных между единичными электродами истока и стока.

При этом одноименные единичные электроды истока, затвора, стока соединены электрически [2].

Данная конструкция полевого транзистора с барьером Шотки позволила снизить паразитное сопротивление общего электрода затвора и как следствие - увеличить выходную мощность, коэффициент усиления и коэффициент полезного действия.

Кроме того, она позволяет сделать полевой транзистор с барьером Шотки компактным.

Недостаток данной конструкции заключается в неточности совмещения единичных электродов затвора в канавках каналов, обуславливаемая характеристиками оборудования и технологией изготовления. Неточность совмещения единичных электродов затвора полевого транзистора приводит к неидентичности его каналов. А неидентичность каналов в свою очередь приводит к снижению эффективности сложения мощности каналов и как следствие - снижению выходной мощности и коэффициента усиления СВЧ полевого транзистора с барьером Шотки.

Известен мощный СВЧ полевой транзистор с барьером Шотки, выполненный также в виде гребенки из чередующейся, по меньшей мере, более одной последовательности единичных электродов истока, затвора, стока [3].

При этом, с целью устранения упомянутой выше неидентичности каналов, между парами единичных электродов исток-сток расположены области полуизолирующего арсенида галлия, а единичные электроды затвора, расположенные в парах единичных электродов исток-сток, выполнены длиной не более 0,7 мкм и смещены в канавке в сторону единичного электрода истока.

При этом одноименные единичные электроды истока, затвора, стока соединены электрически.

Это позволило:

во-первых, устранить неидентичность каналов и тем самым повысить эффективность сложения мощности каналов,

во-вторых, повысить пробивное напряжение между единичными электродами затвор-сток и тем самым повысить напряжение питания единичного электрода стока.

И как следствие того и другого - увеличение выходной мощности, коэффициента усиления и коэффициента полезного действия полевого транзистора с барьером Шотки.

Однако, с другой стороны:

во-первых, при некоторых размерах области полуизолирующего арсенида галлия, например, менее 4 мкм наблюдается повышение тока утечки между единичными электродами исток-сток, что приводит к появлению неуправляемого единичным электродом затвора тока стока,

во-вторых, при некоторых размерах канавок в парах единичных электродов исток-сток, например, менее 0,5 мкм, в которых расположены единичные электроды затвора, имеет место снижение пробивного напряжения между электродами затвор-исток и затвор-сток.

И как следствие того и другого - снижение выходной мощности, коэффициента усиления и коэффициента полезного действия полевого транзистора с барьером Шотки.

Известен мощной СВЧ полевой транзистор с барьером Шотки, на полуизолирующей подложке арсенида галлия с активным слоем n-типа проводимости, толщиной не более 0,4 мкм и концентрацией легирующей примеси 2×1017-1×1018 см3, который выполнен, как и предыдущий аналог, в виде гребенки из чередующейся, по меньшей мере, более одной последовательности единичных электродов истока, затвора, стока. При этом между парами электродов исток-сток расположены области полуизолирующего арсенида галлия, а в парах единичных электродов исток-сток выполнены каналы с канавками, в последних расположены единичные электроды затвора длиной не более 0,7 мкм, при этом единичные электроды затвора выполнены асимметричными в сторону электродов истока, одноименные единичные электроды истока, затвора, стока соединены электрически [4 - прототип].

В котором, с целью снижения тока утечки между единичными электродами исток-сток и увеличения пробивного напряжения между единичными электродами затвор-исток и сток-затвор, области полуизолирующего арсенида галлия выполнены шириной, равной 4-6 мкм, канавки в парах единичных электродов исток-сток выполнены шириной, равной 0,9-1,3 мкм, и глубиной, равной 0,2-0,3 мкм, а единичные электроды затвора расположены от края канавок со стороны единичных электродов истока и стока на расстоянии, равном 0,1-0,3 и 0,5-0,7 мкм соответственно.

Оптимизация ширины области полуизолируещего арсенида галлия, ширины и глубины канавок, равно как и расположение единичных электродов затвора в канавках, обеспечила снижение токов утечки между единичными электродами исток-сток и увеличение пробивного напряжения между единичными электродами затвор-исток и затвор-сток и как следствие - дальнейшее повышение выходной мощности, коэффициента усиления и коэффициента полезного действия СВЧ полевого транзистора с барьером Шотки.

Способность СВЧ полевого транзистора отдавать мощность зависит от его способности пропускать достаточно большой ток через его канал.

И, следовательно, указанная способность СВЧ полевого транзистора увеличивается с каждой чередующейся в гребенке последовательностью единичных электродов истока, затвора, стока.

Однако количество последовательностей электродов истока, затвора, стока ограничиваться как размерами кристалла полевого транзистора, так и его электрическими параметрами, например фазовой неидентичностью сигнала, распределенного по единичным электродам затвора полевого транзистора.

Выходная мощность данного СВЧ полевого транзистора с барьером Шотки составляет порядка 750 мВт, коэффициент усиления порядка 10 дБ на частоте 10 ГГц.

Эти достаточно высокие выходные параметры данного полевого транзистора с барьером Шотки являются не достаточными при применении его в качестве активного элемента в ряде устройств СВЧ диапазона, например усилителей мощности для активных фазированных антенных решеток (АФАР), где требуется высокая удельная мощность и высокий коэффициент полезного действия.

Техническим результатом изобретения является повышение выходной мощности, коэффициента усиления по мощности, коэффициента полезного действия и расширение функциональных возможностей СВЧ полевого транзистора с барьером Шотки.

Указанный технический результат достигается заявленным мощным СВЧ полевым транзистором с барьером Шотки, содержащим полуизолирующую подложку арсенида галлия с активным слоем, гребенку из чередующейся, по меньшей мере, более одной последовательности единичных электродов истока, затвора, стока, при этом между парами единичных электродов исток-сток расположены области полуизолирующего арсенида галлия шириной не менее 4 мкм, а в парах единичных электродов исток-сток расположены каналы с канавками шириной и глубиной, равной 0,9-1,3 мкм и не более 0,3 мкм соответственно, в канавках канала расположены единичные электроды затвора, при этом единичные электроды затвора расположены асимметрично в сторону единичных электродов истока, одноименные единичные электроды истока, затвора, стока соединены электрически.

При этом

- полевой транзистор с барьером Шотки в канале каждой из пар единичных электродов исток-сток со стороны единичного электрода истока дополнительно содержит диэлектрический слой, имеющий низкую диэлектрическую проницаемость, толщиной, равной 0,15-0,25 мкм,

- каждый из единичных электродов затвора относительно его боковой поверхности со стороны единичного электрода стока выполнен по высоте с разным размером поперечного сечения в сторону единичного электрода истока, верхним - длинным и нижним - коротким, примыкающим к поверхности канавки канала, при этом размер поперечного сечения нижней - короткой части единичного электрода затвора равен 0,05-0,5 мкм, размер поперечного сечения верхней - длинной части превышает размер поперечного сечения нижней - короткой части на 0,5-0,8 мкм,

- высота нижней - короткой части равна толщине дополнительного диэлектрического слоя,

- с одной стороны две взаимно перпендикулярные поверхности дополнительного диэлектрического слоя относительно его толщины непосредственно примыкают по ширине единичного электрода затвора к вертикальной поверхности его нижней - короткой части и к горизонтальной превышающей поверхности верхней - длинной части соответственно, а с противоположной стороны упомянутые поверхности расположены вровень с краем верхней - длинной части единичного электрода затвора либо перекрывают от этого края канал с единичным электродом истока не более 4 мкм.

Активным слоем может быть слой n-типа проводимости арсенида галлия либо гетероструктура с двумерным электронным газом.

Дополнительный диэлектрический слой с низкой диэлектрической проницаемостью может быть выполнен из двуокиси кремния либо нитрида кремния.

Полевой транзистор может иметь контактный слой толщиной 0,05-0,2 мкм, выполненный на активном слое.

Раскрытие сущности изобретения.

Совокупность существенных признаков формулы изобретения заявленного мощного СВЧ полевого транзистора с барьером Шотки, а именно:

наличие дополнительного диэлектрического слоя, имеющего низкую диэлектрическую проницаемость, толщиной, равной 0,15-0,25 мкм, расположенного в канале канала каждой из пар единичных электродов исток-сток со стороны единичного электрода истока:

во-первых, обеспечивает расположение превышающей верхней - длинной части единичного электрода затвора на поверхности этого диэлектрического слоя и тем самым обеспечивает снижение паразитного сопротивления каждого единичного электрода затвора и соответственно - паразитного сопротивления общего электрода затвора,

во-вторых, позволяет минимизировать и стабилизировать расстояние от единичного электрода затвора до края канавки со стороны единичного электрода истока и тем самым обеспечивает снижение паразитного сопротивления между единичными электродами затвор-исток и одновременно - увеличение пробивного напряжения между единичными электродами затвор-исток и затвор-сток.

И как следствие того и другого - повышение коэффициента усиления, выходной мощности и коэффициента полезного действия.

Выполнение каждого из единичных электродов затвора относительно его боковой поверхности со стороны единичного электрода стока по высоте с разным размером поперечного сечения в сторону единичного электрода истока, верхним - длинным и нижним - коротким, примыкающим к поверхности канавки канала, при этом размер поперечного сечения нижней - короткой части единичного электрода затвора равен 0,05-0,5 мкм, размер поперечного сечения верхней - длинной части превышает размер поперечного сечения нижней - короткой части на 0,5-0,8 мкм обеспечивает:

во-первых, снижение паразитной емкости между единичными электродами затвор-сток и как следствие - повышение выходной мощности, коэффициента усиления и коэффициента полезного действия,

во-вторых, как было указано выше, паразитная емкость между единичными электродами затвор-сток является элементом нежелательной положительной обратной связи, приводящей к паразитной генерации и, следовательно, ее снижение значительно уменьшает возможность возникновения этой паразитной генерации и как следствие - расширение функциональных возможностей СВЧ полевого транзистора с барьером Шотки.

Выполнение высоты нижней - короткой части единичных электродов затвора, равной толщине дополнительного диэлектрического слоя, обеспечивает жесткость конструкции единичного электрода затвора, его механическую прочность и тем самым надежность СВЧ полевого транзистора с барьером Шотки в целом.

Расположение дополнительного диэлектрического слоя, когда с одной стороны две его взаимно перпендикулярные поверхности относительно его толщины непосредственно примыкают по ширине единичного электрода затвора к вертикальной поверхности его нижней - короткой части и к горизонтальной превышающей поверхности верхней - длинной части соответственно, а с противоположной стороны упомянутые поверхности дополнительного диэлектрического слоя расположены вровень с краем верхней - длинной части единичного электрода затвора либо перекрывают от этого края канал с единичным электродом истока не более 4 мкм, обеспечивает оптимизацию расстояния от единичного электрода затвора до края канавки канала со стороны единичного электрода истока и тем самым - снижение паразитного сопротивления между электродами затвор-исток и одновременно - увеличение пробивного напряжения между электродами затвор-исток и затвор-сток и как следствие - повышение выходной мощности, коэффициента усиления и коэффициента полезного действия.

Выполнение дополнительного диэлектрического слоя толщиной менее 0,15 мкм и более 0,2 мкм не желательно, так как в первом случае приводит к увеличению паразитной емкости между электродами затвор-исток, а во втором - к возможным затруднениям при изготовлении полевого транзистора, например разрыву между нижней - короткой частью и верхней - длинной частью единичного электрода затвора.

Выполнение размера поперечного сечения нижней - короткой части единичного электрода затвора менее 0,05 и более 0,5 мкм не желательно, так как в первом случае может привести к нарушению целостности единичного электрода затвора, а во втором - к уменьшению коэффициента усиления.

Превышение длины верхней - длинной части единичного электрода затвора над нижней - короткой менее 0,5 мкм и более 0,8 мкм не желательно, так как в первом случае приводит к увеличению паразитного сопротивления каждого единичного и соответственно общего электрода затвора, а во втором - к увеличению паразитной емкости между единичными электродами затвор-исток.

Расположение дополнительного диэлектрического слоя менее превышающей поверхности верхней - длинной части единичного электрода затвора, так и его расположение с перекрытием канала с единичным электродом истока от края верхней - длинной части единичного электрода затвора более 4 мкм не желательно, так как в первом случае приводит к снижению механической прочности единичного электрода затвора, а во втором - к возможным затруднениям при изготовлении полевого транзистора, например, при изготовлении его контактных площадок.

Контактный слой толщиной как менее 0,1 мкм, так и более 0,3 мкм не желателен, в первом случае он не выполняет своей функции, а именно снижение контактного сопротивления единичных электродов истока и стока, а во втором - из-за возможного бокового травления канавки.

Итак, совокупность существенных признаков заявленного мощного СВЧ полевого транзистора с барьером Шотки благодаря сочетанию в конструкции различных технических решений и на ином уровне позволит еще более повысить достаточно высокие выходные параметры прототипа.

Изобретение иллюстрируется чертежами.

На фиг.1 и 2 дан фрагмент мощного СВЧ полевого транзистора с барьером Шотки, содержащий две последовательности единичных электродов истока, затвора, стока, где:

- полуизолирующая подложка арсенида галлия - 1,

- активный слой - 2

- гребенка из чередующейся последовательности единичных электродов истока, затвора, стока - 3,

- единичные электроды истока, затвора, стока - 4, 5, 6 соответственно,

- пары единичных электродов исток-сток - 7,

- области полуизолирующего арсенида галлия - 8,

- каналы - 9,

- канавки - 10,

- дополнительный диэлектрический слой - 11.

При этом, в том числе

на фиг.1 - частный случай выполнения, когда с противоположной стороны упомянутые поверхности дополнительного диэлектрического слоя расположены вровень с краем верхней - длинной части единичного электрода затвора,

на фиг.2 - частный случай выполнения, когда перекрывают от этого края канал с единичным электродом истока не более 4 мкм.

Мощный СВЧ полевой транзистор с барьером Шотки работает следующим образом:

на единичные электроды затвора и стока СВЧ полевого транзистора подаются необходимые напряжения смещения от внешних источников. При этом на единичные электроды затвора - отрицательное, а на единичные электроды стока - положительное относительно единичных электродов истока. На единичные электроды затвора подается СВЧ сигнал, который усиливается СВЧ полевым транзистором и подается на его выход.

Примеры конкретного выполнения заявленного мощного СВЧ полевого транзистора с барьером Шотки.

Пример 1

Мощный СВЧ полевой транзистор с барьером Шотки выполнен на полуизолирующей подложке арсенида галлия 1 с активным слоем 2, например n-типа проводимости арсенида галлия, толщиной не более 0,4 мкм и концентрацией легирующей примеси не более 3×1017 см3 в виде гребенки 3, например, из двух чередующихся последовательностей единичных электродов истока 4, затвора 5, стока 6. При этом между парами единичных электродов исток-сток 7 расположены области полуизолирующего арсенида галлия 8 шириной, равной 5 мкм. В парах единичных электродов исток-сток 7 расположены каналы 9 с канавками 10 шириной и глубиной, равной 1,1 и 0,25 мкм соответственно. В канавках 10 канала 9 расположены единичные электроды затвора 5 длиной не более 0,7 мкм асимметрично в сторону единичных электродов истока 4.

В канале 9 каждой из пар единичных электродов исток-сток 7 со стороны единичного электрода истока 4 выполнен дополнительный диэлектрический слой 11, например, из двуокиси кремния, имеющий относительную диэлектрическую проницаемость, толщиной, равной 0,20 мкм.

Каждый из единичных электродов затвора 5 относительно его боковой поверхности со стороны единичного электрода стока 6 выполнен по высоте с размером поперечного сечения в сторону единичного электрода истока 4 верхним - длинным, равным 1 мкм, и нижним - коротким, примыкающим к поверхности канавки 10 канала 9, равным 0,275 мкм, что соответствует превышению размера поперечного сечения верхней - широкой части над нижней - узкой частью единичного электрода затвора на 0,725 мкм.

Высота нижней - узкой части единичного электрода затвора равна 0,20 мкм - толщине дополнительного диэлектрического слоя 11.

При этом с одной стороны две взаимно перпендикулярные поверхности дополнительного диэлектрического слоя относительно его толщины непосредственно примыкают по ширине единичного электрода затвора 5 к вертикальной поверхности его нижней - узкой части и горизонтальной превышающей поверхности верхней - длинной части соответственно, а с противоположной стороны упомянутые поверхности расположены, например, вровень с краем верхней - длинной части единичного электрода затвора 5.

Примеры 2-7.

Аналогично примеру 1 выполнены мощные СВЧ полевые транзисторы с барьером Шотки, но при других значениях:

- толщины дополнительного диэлектрического слоя,

- превышения верхней - длинной части единичного электрода затвора над его нижней - узкой частью,

- перекрытия дополнительным диэлектрическим слоем канала с единичным электродом истока, как указанных в формуле изобретения (примеры 2-5), так и выходящих за ее пределы (примеры 6-7).

А так же с активным слоем типа гетероструктуры, например типа AlGaAs/InGaAs с двумерным электронным газом (пример 4).

А также дополнительным диэлектрическим слоем, выполненным из нитрида кремния (пример 5).

А также с контактным слоем, например, из GaAs n+, выполненном на активном слое (пример 5).

На изготовленных образцах мощных СВЧ полевых транзисторов с барьером Шотки были измерены выходная мощность, коэффициент усиления и определен коэффициент полезного действия.

Данные сведены в таблицу.

Как видно из таблицы, образцы мощных СВЧ полевых транзисторов с барьером Шотки, изготовленные согласно конструктивным параметрам, указанным в формуле изобретения (примеры 1-5), имеют по сравнению с прототипом более высокую выходную мощность примерно 1000 мВт, более высокий коэффициент усиления по мощности примерно 12 дБ на частоте 10 ГГц и соответственно более высокий коэффициент полезного действия.

Что касается образцов мощных СВЧ полевых транзисторов с барьером Шотки (примеры 6-7), изготовленных с конструктивными параметрами, выходящими за пределы, указанные в формуле изобретения, то они имеют более низкую выходную мощность примерно 750 мВт, более низкий коэффициент усиления по мощности примерно 10 дБ на частоте 10 ГГЦ и соответственно более низкий коэффициент полезного действия.

Таким образом, предлагаемая конструкция мощного СВЧ полевого транзистора с барьером Шотки позволит по сравнению с прототипом повысить достаточно высокие выходные параметры последнего, а именно:

- выходную мощность примерно на 25-30 процентов,

- коэффициент усиления примерно на 2 дБ на частоте 10 ГГц,

- и соответственно коэффициент полезного действия.

Более того, значительно расширить функциональные возможности при применении его в качестве активного элемента в ряде устройств СВЧ диапазона, например усилителей мощности для активных фазированных антенных решеток (АФАР), где, как сказано выше, требуется высокая удельная мощность и высокий коэффициент полезного действия.

Источники информации

1. Патент РФ №2349987 МПК H01L 29/338 приоритет 17.07.07, опубл. 20.03.09.

2. Полевые транзисторы на арсениде галлия. Принципы работы и технология изготовления. Под ред. Д.В.Ди Лоренцо, Д.Д.Канделуола Перевод с английского под ред. Г.В.Петрова, М., «Радио и связь», 1988 г., стр.118.

3. «Мощные GaAs полевые СВЧ транзисторы со смещенным затвором», авторы Лапин В.Г., Красник В.А., Петров К.И., Темнов A.M. Одиннадцатая Международная конференция «СВЧ-техника и телекоммуникационные технологии». Сборник материалов конференции 10-14 сентября 2001 г., Севастополь, Крым, Украина, стр.135.

4. Патент РФ №2307424 МПК H01L 29/812, приоритет 02.12.05, опубл. 27.09.07.

Источник поступления информации: Роспатент

Showing 21-30 of 62 items.
11.03.2019
№219.016.d8c6

Окно ввода и/или вывода энергии свч

Изобретение относится к электронной технике, а именно к выходным устройствам электронных СВЧ-приборов. Техническим результатом является повышение надежности, выхода годных приборов при снижении потерь мощности СВЧ. Окно ввода и/или вывода энергии СВЧ выполнено в виде диэлектрической пластины из...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002313865
Дата охранного документа: 27.12.2007
11.03.2019
№219.016.d8ca

Переключатель свч

Изобретение относится к технике СВЧ, а именно к переключателям СВЧ на полупроводниковых приборах. Технический результат изобретения - увеличение величины ослабления СВЧ-сигнала, снижение величины модуля коэффициента отражения СВЧ-сигнала и снижение массогабаритных характеристик. Переключатель...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002313866
Дата охранного документа: 27.12.2007
11.03.2019
№219.016.d9ba

Припой для пайки

Изобретение может быть использовано при пайке различных элементов изделий электронной техники из оксидных диэлектрических материалов между собой либо с элементами из металлов, в частности из меди, или из их сплавов, прежде всего, элементов электровакуумных изделий СВЧ. Припой получен при...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002374056
Дата охранного документа: 27.11.2009
20.03.2019
№219.016.e379

Флюс для низкотемпературной пайки

Флюс может быть использован в производстве электронной и радиоэлектронной аппаратуры при сборке узлов и блоков на печатных платах и гибридных интегральных схем. Флюс содержит производную канифоли в виде резината щелочного металла и водорастворимый спирт или смесь водорастворимых спиртов при...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002263569
Дата охранного документа: 10.11.2005
20.03.2019
№219.016.e3b8

Способ изготовления мощных транзисторов свч

Изобретение относится к электронной технике, а именно к способам изготовления мощных транзисторов СВЧ и МИС на их основе. Сущность изобретения: способ изготовления мощных транзисторов СВЧ, заключающийся в формировании на лицевой стороне полупроводниковой пластины топологии транзисторов,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002285976
Дата охранного документа: 20.10.2006
20.03.2019
№219.016.e97d

Устройство для вакуумного нанесения пленок с использованием электромагнитного излучения

Изобретение относится к вакуумной технике, а именно к устройствам для вакуумного нанесения пленок с использованием электромагнитного излучения. Устройство содержит вакуумную реакционную камеру, размещенный в камере электрически изолированный подложкодержатель в виде полой усеченной составной...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002467093
Дата охранного документа: 20.11.2012
29.03.2019
№219.016.ef30

Способ пайки алюминия и его сплавов

Изобретение может быть использовано при высокотемпературной пайке погружением в расплавленные соли пастообразными припоями системы алюминий-кремний эвтектического состава, преимущественно, при пайке прецизионных изделий СВЧ-техники с различной толщиной стенок. Порошкообразный припой - пасту...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002285593
Дата охранного документа: 20.10.2006
29.03.2019
№219.016.ef37

Металлизированная пластина алмаза и способ ее изготовления

Изобретения могут быть использованы для монтажа элементов электронной техники. Техническим результатом изобретения является обеспечение высоких электрофизических параметров путем исключения деградации свойств пластины алмаза, при сохранении высокой адгезии металла к алмазу. Сущность...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002285977
Дата охранного документа: 20.10.2006
29.03.2019
№219.016.f121

Способ изготовления транзистора свч с управляющим электродом т-образной конфигурации субмикронной длины

Изобретение относится к электронной технике СВЧ. Сущность изобретения: способ изготовления транзистора СВЧ с управляющим электродом Т-образной конфигурации субмикронной длины включает формирование на лицевой стороне полуизолирующей полупроводниковой пластины с активным слоем заданной структуры...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002390875
Дата охранного документа: 27.05.2010
29.03.2019
№219.016.f1b4

Аттенюатор свч

Изобретение относится к электронной технике, а именно к аттенюаторам СВЧ на полупроводниковых приборах. Техническим результатом является возможность достижения нулевой величины изменения фазы сигнала при соответствующем изменении постоянного управляющего напряжения, снижение прямых потерь,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002311704
Дата охранного документа: 27.11.2007
Showing 11-16 of 16 items.
09.06.2019
№219.017.7d0e

Способ изготовления диэлектрической пленки для полупроводниковых структур электронной техники

Изобретение относится к электронной технике, а именно к технологии полупроводниковых структур. Сущность изобретения: в способе изготовления диэлектрической пленки для полупроводниковых структур электронной техники, включающем формирование, по меньшей мере, одного слоя заданного диэлектрического...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002419176
Дата охранного документа: 20.05.2011
19.06.2019
№219.017.8b8f

Мощный полевой транзистор свч

Изобретение относится к электронной технике. Сущность изобретения: мощный полевой транзистор СВЧ содержит полупроводниковую подложку со структурой слоев, которая выполнена в виде прямой последовательности полуизолирующего слоя, nтипа проводимости слоя, стоп-слоя, буферного слоя, активного слоя,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002463685
Дата охранного документа: 10.10.2012
10.07.2019
№219.017.ab17

Многоконтактный зонд для испытания планарных элементов интегральных схем

Предложенное изобретение относится к электронной технике, а именно к устройствам для испытания планарных элементов интегральных схем на полупроводниковых пластинах. Техническим результатом изобретения является повышение прочности и долговечности многоконтактного зонда для испытания планарных...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002293339
Дата охранного документа: 10.02.2007
10.07.2019
№219.017.b16a

Способ изготовления свч полевого транзистора с барьером шотки

Изобретение относится к электронной технике. Сущность изобретения: способ изготовления СВЧ полевого транзистора с барьером Шотки включает изготовление на лицевой поверхности полуизолирующей подложки с активным слоем, по меньшей мере, одной пары электродов истока и стока с каналом между ними,...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002465682
Дата охранного документа: 27.10.2012
12.04.2023
№223.018.43ce

Способ изготовления полевого транзистора свч с барьером шоттки

Изобретение относится к электронной технике. Способ изготовления СВЧ полевого транзистора с барьером Шоттки включает формирование на лицевой стороне полуизолирующей подложки с активным слоем по меньшей мере одной пары единичных электродов истока и стока, с каналом между ними, посредством...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002793658
Дата охранного документа: 04.04.2023
23.05.2023
№223.018.6bfe

Интегральная схема свч

Изобретение относится к электронной технике, в частности, для использования в радиолокационных станциях с фазированными антенными решетками. Интегральная схема СВЧ, содержащая диэлектрическую подложку из пластины алмаза толщиной более 100 мкм, на лицевой и обратной стороне которой выполнено...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002737342
Дата охранного документа: 27.11.2020
+ добавить свой РИД