Результат интеллектуальной деятельности: ЖИДКОКРИСТАЛЛИЧЕСКАЯ ПАНЕЛЬ И СПОСОБ ЕЕ ИЗГОТОВЛЕНИЯ

1. ОБЛАСТЬ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Настоящее изобретение относится к технологии жидкокристаллических дисплеев и, более конкретно, к дисплейной панели и способу ее изготовления.

2. ОПИСАНИЕ УРОВНЯ ТЕХНИКИ

LCD являются наиболее популярными дисплеями. LCD могут включать трансфлективные LCD и отражающие LCD с точки зрения применяемых источников света. Источник света трансфлективного LCD представляет собой заднюю подсветку. Только 5% лучей света применяются после прохождения лучей света через поляризаторы и жидкокристаллическую панель. Энергопотребление задней подсветки может быть увеличено для увеличения яркости трансфлективных LCD. Когда оптическая плотность окружающего света больше, чем лучей света, испускаемых из LCD, возможно, что глаза человека не способны увидеть содержимое, отображаемое на LCD. Отражающие LCD осуществляют отображение за счет окружающего света и, таким образом, могут работать только в дневное время или при достаточном окружающем свете, то есть, отражающие LCD не могут работать в ночное время или при слабом окружающем свете. Поэтому, были разработаны трансфлективные LCD. В трансфлективных LCD в качестве источника света применяют заднюю подсветку и окружающий свет в соответствии с условиями окружения.

Что касается обычного трансфлективного LCD, лучи света, испускаемые из области передачи источника задней подсветки, проходят через фоторезистивный слой один раз. В области отражения окружающий свет может проходить через фоторезистивный слой дважды во время процессов падения и отражения. Таким образом, насыщение области отражения может быть слишком высоким, и скорость передачи света области отражения может быть снижена. Насыщение области передачи несовместимо с насыщением области отражения. Таким образом, насыщение области передачи и области отражения не могут соответствовать техническим характеристикам и требованиям продукции.

КРАТКОЕ ИЗЛОЖЕНИЕ СУЩНОСТИ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Цель настоящего изобретения заключается в предоставлении дисплейной панели и способе ее изготовления для преодоления проблемы несовместимого насыщения лучами света в области передачи и области отражения касательно трансфлективной жидкокристаллической панели.

В одном аспекте дисплейная панель содержит: верхнюю подложку, нижнюю подложку, фоторезистивный слой между верхней подложкой и нижней подложкой; дисплейная панель содержит область передачи и область отражения, имеющую отражающий слой внутри фоторезистивного слоя, при этом отражающий слой разделяет фоторезистивный слой на первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой, первый фоторезистивный подслой расположен между отражающим слоем и нижней подложкой, второй фоторезистивный подслой расположен между отражающим слоем и верхней подложкой, лучи света в области передачи проходят через фоторезистивный слой, при этом лучи света в области отражения проходят через первый фоторезистивный подслой или второй фоторезистивный подслой дважды; дисплейная панель представляет собой одностороннюю дисплейную панель, дисплейная панель дополнительно содержит источник света, расположенный на нижней подложке, обращенной от верхней подложки, фоторезистивный слой расположен на нижней подложке, и отражающая поверхность отражающего слоя обращена к верхней подложке; и отражающий слой представляет собой металлический отражающий слой.

При этом первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой изготовлены из одного материала, и толщина второго фоторезистивного подслоя составляет половину толщины фоторезистивного слоя.

В другом аспекте дисплейная панель содержит: верхнюю подложку, нижнюю подложку, фоторезистивный слой между верхней подложкой и нижней подложкой; дисплейная панель содержит область передачи и область отражения, имеющую отражающий слой внутри фоторезистивного слоя, при этом отражающий слой разделяет фоторезистивный слой на первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой, первый фоторезистивный подслой расположен между отражающим слоем и нижней подложкой, второй фоторезистивный подслой расположен между отражающим слоем и верхней подложкой, лучи света в области передачи проходят через фоторезистивный слой, при этом лучи света в области отражения проходят через первый фоторезистивный подслой или второй фоторезистивный подслой дважды.

При этом дисплейная панель представляет собой одностороннюю дисплейную панель, дисплейная панель дополнительно содержит источник света, расположенный на нижней подложке, обращенной от верхней подложки, фоторезистивный слой расположен на нижней подложке, и отражающая поверхность отражающего слоя обращена к верхней подложке.

При этом первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой изготовлены из одного материала, и толщина второго фоторезистивного подслоя составляет половину толщины фоторезистивного слоя.

При этом дисплейная панель представляет собой двустороннюю дисплейную панель, дисплейная панель дополнительно содержит источник света, расположенный на одной стороне нижней подложки, обращенной от верхней подложки, и фоторезистивный слой расположен на верхней подложке, и отражающая поверхность отражающего слоя обращена к нижней подложке.

При этом первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой изготовлены из одного материала, и толщина первого фоторезистивного подслоя составляет половину толщины фоторезистивного слоя.

В другом аспекте способ изготовления дисплейных панелей включает: образование первой подложки, имеющей область передачи и область отражения; образование первого фоторезистивного подслоя на первой подложке; образование отражающего слоя на первом фоторезистивном подслое в области отражения; образование второго фоторезистивного подслоя на первом фоторезистивном подслое в области передачи и образование второго фоторезистивного подслоя на отражающем слое, при этом первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой составляют фоторезистивный слой; расположение второй подложки в соответствии с первой подложкой, при этом фоторезистивный слой находится между первой подложкой и второй подложкой; и при этом лучи света в области передачи проходят через фоторезистивный слой, и лучи света в области отражения проходят через второй фоторезистивный подслой дважды.

Способ дополнительно включает: расположение источника света на наружной стороне первой подложки или второй подложки.

При этом этап образования отражающего слоя на первом фоторезистивном подслое в области отражения дополнительно включает: образование отражающего слоя на первом фоторезистивном подслое в области отражения, и отражающая поверхность отражающего слоя обращена от первого фоторезистивного подслоя.

При этом этап образования второго фоторезистивного подслоя дополнительно включает: образование второго фоторезистивного подслоя на первом фоторезистивном подслое в области передачи и образование второго фоторезистивного подслоя на отражающем слое, при этом толщина фоторезистивного слоя, образованного первым фоторезистивным подслоем и вторым фоторезистивным подслоем, вдвое больше толщины второго фоторезистивного подслоя, и первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой изготовлены из одного материала.

При этом этап образования второго фоторезистивного подслоя дополнительно включает: образование второго фоторезистивного подслоя на первом фоторезистивном подслое в области передачи и образование второго фоторезистивного подслоя на отражающем слое, при этом толщина и материал первого фоторезистивного подслоя и второго фоторезистивного подслоя различаются, при этом насыщение лучами света в области передачи, проходящими через фоторезистивный слой, и насыщение лучами света в области отражения, проходящими через второй фоторезистивный подслой дважды, одинаковые.

С учетом вышеописанного, дисплейная панель содержит верхнюю подложку, нижнюю подложку и фоторезистивный слой между верхней подложкой и нижней подложкой. Дисплейная панель может быть разделена на область передачи и область отражения. Область отражения дополнительно содержит отражающий слой внутри фоторезистивного слоя. Отражающий слой разделяет фоторезистивный слой на первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой. Первый фоторезистивный подслой находится между отражающим слоем и нижней подложкой, и фоторезистивный подслой находится между отражающим слоем и верхней подложкой. Лучи света в области отражения проходят через фоторезистивный слой, и лучи света в области отражения проходят через первый фоторезистивный подслой или второй фоторезистивный подслой дважды. В результате разделения фоторезистивного слоя на два фоторезистивных подслоя с помощью отражающего слоя лучи света в области отражения проходят через фоторезистивный слой, и лучи света в области отражения проходят через фоторезистивный подслой дважды. Толщина фоторезистивного подслоя меньше, чем толщина фоторезистивного слоя. Таким образом, насыщение области передачи и насыщение области отражения может быть совместимым.

КРАТКОЕ ОПИСАНИЕ ГРАФИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВ

На фиг. 1 показан схематический вид дисплейной панели в соответствии с первым вариантом осуществления.

На фиг. 2 показан схематический вид дисплейной панели в соответствии со вторым вариантом осуществления.

На фиг. 3 показана блок-схема, изображающая способ изготовления дисплейной панели в соответствии с одним вариантом осуществления.

На фиг. 4 показан схематический вид дисплейной панели, изготовленной согласно способу изготовления по фиг. 3.

На фиг. 5 показан схематический вид другой дисплейной панели изготовленной согласно способу изготовления по фиг. 3.

ПОДРОБНОЕ ОПИСАНИЕ ВАРИАНТОВ ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ

Варианты осуществления настоящего изобретения будут описаны далее более подробно со ссылкой на прилагаемые графические материалы, на которых показаны варианты осуществления настоящего изобретения.

На фиг. 1 показан схематический вид дисплейной панели в соответствии с первым вариантом осуществления. Дисплейная панель 100 содержит верхнюю подложку 11, нижнюю подложку 12, фоторезистивный слой 13 и отражающий слой 14.

Как правило, подложка дисплейной панели может содержать стеклянную подложку и тонкопленочные транзисторы (TFT), расположенные на стеклянной подложке. Фоторезистивный слой также называется слоем цветового фильтра. Отражающий слой, как правило, применяют в отражающей дисплейной панели. Другие части дисплейной панели 100 могут быть представлены специалистами в уровне техники и поэтому далее опущены.

Дисплейная панель 100 является трансфлективной и содержит область 101 передачи и область 102 отражения. Отражающий слой 14 расположен в области 102 отражения и внутри фоторезистивного слоя 13. Отражающий слой 14 разделяет фоторезистивный слой 13 на первый фоторезистивный подслой 131 и второй фоторезистивный подслой 132. Первый фоторезистивный подслой 131 находится между отражающим слоем 14 и нижней подложкой 12, и второй фоторезистивный подслой 132 находится между отражающим слоем 14 и верхней подложкой 11. Отражающий слой 14 изготовлен из отражающих материалов, таких как Al, Ag и Cu. Способ изготовления металлических материалов является простым, и отражающий эффект является хорошим. В примере может быть применена алюминиевая фольга. Общий вес, отражающий эффект и растяжимость алюминия являются хорошими и подходящими для процесса изготовления отражающего слоя.

Лучи света в области 101 передачи проходят через фоторезистивный подслой 13. Когда отражающая поверхность 141 отражающего слоя 14 обращена к первому фоторезистивному подслою 131, лучи света в области 102 отражения проходят через первый фоторезистивный подслой 131 дважды. Когда отражающая поверхность 141 отражающего слоя 14 обращена ко второму фоторезистивному подслою 132, лучи света в области 102 отражения проходят через второй фоторезистивный подслой 132 дважды.

При этих двух условиях лучи света в области 102 отражения проходят через фоторезистивный подслой дважды. Толщина фоторезистивного подслоя меньше, чем толщина фоторезистивного слоя 13. Таким образом, насыщение области 102 отражения и насыщение области 101 передачи может быть совместимым.

В варианте осуществления дисплейная панель 100 представляет собой одностороннюю дисплейную панель. Отражающий слой 15 расположен на одной стороне нижней подложки 12, обращенной от верхней подложки 11, фоторезистивный слой 13 расположен на нижней подложке 12, при этом отражающая поверхность 141 отражающего слоя 14 обращена к верхней подложке 11. Источник 15 света выполнен в виде заднего источника света для области 101 передачи. Лучи света от отражающего слоя 15 проходят через фоторезистивный слой 13 и затем наблюдаются глазами человека. Лучи света от отражающего слоя 15 не могут проходить через область 102 отражения, то есть область 102 отражения может испускать только свет, вызванный окружающим светом. Конкретно, окружающий свет проходит через второй фоторезистивный подслой 132 и отражается отражающим слоем 14. Отраженные лучи света снова проходят через второй фоторезистивный подслой 132, чтобы наблюдаться глазами человека.

Материал и толщина фоторезистивного слоя могут влиять на насыщение лучами света. Для получения совместимого насыщения для области 102 отражения и области 101 передачи материал первого фоторезистивного подслоя 131 и второго фоторезистивного подслоя 132 является одинаковым. В дополнение, толщина второго фоторезистивного подслоя 132 (H₂) составляет только половину толщины фоторезистивного слоя 13 (H₀).

Когда толщина отражающего слоя 14 (H) меньше, чем толщина фоторезистивного слоя 13 (H₀), толщиной отражающего слоя 14 (H) можно пренебречь. То есть толщина фоторезистивного слоя 13 (H₀) равна сумме толщины первого фоторезистивного подслоя 131 (H₁) и толщины второго фоторезистивного подслоя 132 (H₂), т. е. H₀=H₁+H₂. Толщина первого фоторезистивного подслоя 131 (H₁) выполнена равной толщине второго фоторезистивного подслоя 132 (H₂), т. е. H₁=H₂. Таким образом, толщина второго фоторезистивного подслоя 132 (H₂) составляет половину толщины фоторезистивного слоя 13 (H₀).

Когда толщина отражающего слоя 14 (H) больше и ей нельзя пренебречь, толщина фоторезистивного слоя 13 (H₀)= H₁+H₂+H. В итоге, толщина второго фоторезистивного подслоя 132 (H₂) равна половине толщины фоторезистивного слоя 13 (H₀), т. е. H₀=2×H₂. Соотношение между H₁ и H₂：2×H₂= H₁+H₂+H. То есть H₂= H₁ +H. Согласно этому соотношению первый фоторезистивный подслой 131 и второй фоторезистивный подслой 132 образованы так, что толщина второго фоторезистивного подслоя 132 (H₂) составляет половину толщины фоторезистивного слоя 13 (H₀).

Можно понять, что первый фоторезистивный подслой 131 и второй фоторезистивный подслой 132 могут быть изготовлены из разных материалов. В дополнение, толщина первого фоторезистивного подслоя 131 и второго фоторезистивного подслоя 132 может быть соответствующим образом выполнена так, что насыщение лучами света в области 101 передачи, проходящими через фоторезистивный слой 13, и насыщение лучами света в области 102 отражения, проходящими через второй фоторезистивный подслой 132 дважды, может быть одинаковым.

Как показано на фиг. 1, следует отметить, что толщина ячейки дисплейной панели 100 в отношении области 101 передачи и области 102 отражения является одинаковой. При реальном применении толщина ячейки может быть разной. На фиг. 1, одинаковая толщина ячейки в отношении области 101 передачи и области 102 отражения является только одним примером, то есть толщина ячейки области 101 передачи и области 102 отражения не ограничена этим. Для дисплейных панелей, в которых область передачи и область отражения выполнены с разной толщиной, изложенная выше конфигурация фоторезистивного слоя также может быть применена.

На фиг. 2 показан схематический вид дисплейной панели в соответствии со вторым вариантом осуществления. Дисплейная панель 200 содержит верхнюю подложку 21, нижнюю подложку 22, фоторезистивный слой 23 между верхней подложкой 21 и нижней подложкой 22 и отражающий слой 24.

Дисплейная панель 200 содержит область 201 передачи и область 202 отражения. Отражающий слой расположен в области 202 отражения и внутри фоторезистивного слоя 23. Отражающий слой разделяет фоторезистивный слой на первый фоторезистивный подслой 231 и второй фоторезистивный подслой 232. Первый фоторезистивный подслой 231 находится между отражающим слоем 24 и нижней подложкой 22, и второй фоторезистивный подслой 232 находится между отражающим слоем 24 и верхней подложкой 21.

Конструкция дисплейной панели 200 по существу такая же, как конструкция дисплейной панели 100. Разница между дисплейной панелью 100 и дисплейной панелью 200 заключается в том, что дисплейная панель 200 представляет собой двустороннюю дисплейную панель. Источник 25 света расположен на одной стороне нижней подложки 22, обращенной от верхней подложки 21. Фоторезистивный слой 23 расположен на верхней подложке 21, отражающая поверхность 241 отражающего слоя 24 обращена к нижней подложке 22. Лучи света от области 202 отражения проходят через фоторезистивный подслой 231 дважды.

По отношению к дисплейной панели 200 источник 25 света выполнен в виде заднего источника света для области 201 передачи. Лучи света проходят через нижнюю подложку 22 и наблюдаются глазами человека. По отношению к области 202 отражения источник 25 света выполнен в виде переднего источника света. Лучи света от источника 25 света входят через нижнюю подложку 22, достигают фоторезистивный подслой 231 и отражаются отражающим слоем 24. Отраженные лучи света проходят через фоторезистивный подслой 231 и затем наблюдаются глазами человека.

Подобным образом, фоторезистивный подслой 231 может быть изготовлен из такого же материала, что и второй фоторезистивный подслой 232, при этом толщина первого фоторезистивного подслоя 231 (H₁) составляет половину толщины фоторезистивного слоя 23 (H₀).

Можно понять, что первый фоторезистивный подслой 231 и второй фоторезистивный подслой 232 могут быть изготовлены из разных материалов. В дополнение, толщина первого фоторезистивного подслоя 231 и второго фоторезистивного подслоя 232 может быть соответствующим образом выполнена так, что насыщение лучами света в области 101 передачи, проходящими через фоторезистивный слой 23, и насыщение лучами света в области 102 отражения, проходящими через второй фоторезистивный подслой 232 дважды, может быть одинаковым.

С учетом вышеописанного, дисплейная панель содержит верхнюю подложку, нижнюю подложку и фоторезистивный слой между верхней подложкой и нижней подложкой. Дисплейная панель может быть разделена на область передачи и область отражения. Область отражения дополнительно содержит отражающий слой внутри фоторезистивного слоя. Отражающий слой разделяет фоторезистивный слой на первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой. Первый фоторезистивный подслой находится между отражающим слоем и нижней подложкой, и фоторезистивный подслой находится между отражающим слоем и верхней подложкой. Лучи света в области отражения проходят через фоторезистивный слой, и лучи света в области отражения проходят через первый фоторезистивный подслой или второй фоторезистивный подслой дважды. В результате разделения фоторезистивного слоя на два фоторезистивных подслоя с помощью отражающего слоя лучи света в области отражения проходят через фоторезистивный слой, и лучи света в области отражения проходят через фоторезистивный подслой дважды. Толщина фоторезистивного подслоя меньше, чем толщина фоторезистивного слоя. Таким образом, насыщение области передачи и насыщение области отражения может быть совместимым.

На фиг. 3 показана блок-схема, изображающая способ изготовления дисплейной панели в соответствии с одним вариантом осуществления.

На фиг. 4 показан схематический вид дисплейной панели, изготовленной согласно способу изготовления по фиг. 3. На фиг. 5 показан схематический вид другой дисплейной панели изготовленной согласно способу изготовления по фиг. 3. Разница между фиг. 4 и 5 заключается только в конфигурации источника света и поэтому ссылочные позиции, касающиеся дисплейной панели, являются одинаковыми.

Способ изготовления по фиг. 3 включает следующие этапы.

В блоке S301 образование первой подложки.

Первая подложка 31 содержит область 301 передачи и область 302 отражения. То есть, изготовленная дисплейная панель 300 содержит область 301 передачи и область 302 отражения.

В блоке S302 образование первого фоторезистивного подслоя на первой подложке.

Первый фоторезистивный подслой 321 образуют на первой подложке 31.

В блоке S303 образование отражающего слоя на первом фоторезистивном подслое в области отражения.

Отражающий слой 33 образуют на первом фоторезистивном подслое 321 области 302 отражения.

В блоке S304 образование второго фоторезистивного подслоя на первом фоторезистивном подслое в области передачи и отражающем слое, при этом первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой образуют фоторезистивный слой.

Второй фоторезистивный подслой 322 образуют на первом фоторезистивном подслое 321 в области 301 передачи и на отражающем слое 33. Первый фоторезистивный подслой 321 и второй фоторезистивный подслой 322 образуют фоторезистивный слой 32.

Если первый фоторезистивный подслой 321 и второй фоторезистивный подслой 322 изготовлены из одного материала, толщина фоторезистивного слоя 32 вдвое больше толщины второго фоторезистивного подслоя 322.

Если первый фоторезистивный подслой 321 и второй фоторезистивный подслой 322 изготовлены из разных материалов, может быть выполнена разная толщина в соответствии с разными материалами. Таким образом, насыщение лучами света в области 301 передачи, проходящими через фоторезистивный слой 32, такое же, как насыщение лучами света в области 302 отражения, проходящими через второй фоторезистивный подслой 322 дважды.

В блоке S305 расположение второй подложки в соответствии с первой подложкой. Фоторезистивный слой находится между первой подложкой и второй подложкой.

Вторую подложку 34 располагают в соответствии с первой подложкой 31. То есть первая подложка 31 и вторая подложка 34 образуют ячейку, и пространство между двумя подложками заполняют жидкими кристаллами. Фоторезистивный слой 32 находится между первой подложкой 31 и второй подложкой 34.

В блоке S306 источник света располагают на наружной стороне первой подложки или второй подложки.

Когда источник 35 света располагают на наружной стороне первой подложки 31, как показано на фиг. 4, дисплейная панель 300 представляет собой односторонний дисплей. Лучи света от области 301 передачи входят в первую подложку 31, проходят через фоторезистивный слой 32 и испускаются через вторую подложку 34. Лучи света от области 302 отражения входят из второй подложки 34. Будучи отраженными отражающим слоем 33, лучи света проходят через второй фоторезистивный подслой 322 дважды и затем испускаются через вторую подложку 34. Благодаря конфигурации второго фоторезистивного подслоя 322 в блоке S304, насыщение области 301 передачи и области 302 отражения является совместимым. Дисплейная панель 300 на фиг. 4 соответствует вышеизложенной дисплейной панели 100.

Когда источник 35 света расположен на наружной стороне второй подложки 34, как показано на фиг. 5, дисплейная панель 300 представляет собой двусторонний дисплей. Лучи света от области 301 передачи входят во вторую подложку 34, проходят через фоторезистивный слой 32 и испускаются через первую подложку 31. Лучи света от области 302 отражения входят из второй подложки 34. Будучи отраженными отражающим слоем 33, лучи света проходят через второй фоторезистивный подслой 322 дважды и затем испускаются через источник 35 света, так что насыщение области 301 передачи и области 302 отражения является совместимым. Дисплейная панель 300 на фиг. 5 соответствует вышеизложенной дисплейной панели 200.

С учетом вышеописанного, в способе изготовления последовательно образуют первый фоторезистивный подслой, отражающий слой и второй фоторезистивный подслой. Первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой образуют фоторезистивный слой, так что отражающий слой находится внутри фоторезистивного слоя. Лучи света в области передачи проходят через фоторезистивный слой, и лучи света в области отражения проходят через второй фоторезистивный подслой дважды. Толщина второго фоторезистивного подслоя меньше, чем толщина фоторезистивного слоя. Таким образом, насыщение области передачи и насыщение области отражения может быть совместимым.

Считается, что настоящие варианты осуществления и их преимущества будут понятны из вышеизложенного описания, а также очевидно, что в них могут быть внесены различные изменения без отхода от сущности и объема настоящего изобретения или без ущерба для всех его материальных преимуществ, при этом описанные выше примеры представляют собой лишь предпочтительные или иллюстративные варианты осуществления настоящего изобретения.