Аннотация:
Способ нанесения многокомпонентных покрытий в вакууме, включающий генерацию плазмы дугового разряда материалов покрытия и осаждение плазменного потока на вращающуюся подложку, отличающийся тем, что, с целью повышения качества покрытий за счет улучшения равномерности химического состава покрываемой поверхности, подложку вращают со скоростью, определяемой из выражения
где V - скорость роста толщины конденсата, мкм/с;
r - средний атомный радиус материалов, входящих в состав покрытия, мкм.