×
27.10.2013
216.012.7b43

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ТОЛСТОПЛЕНОЧНЫХ РЕЗИСТИВНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ

Вид РИД

Изобретение

Юридическая информация Свернуть Развернуть
Краткое описание РИД Свернуть Развернуть
Аннотация: Предлагаемое изобретение относится к электронной технике, в частности к технологическим процессам изготовления пленочных резисторов. Способ изготовления толстопленочных резистивных элементов включает последовательное нанесение методом трафаретной печати на изолирующую подложку проводникового и резистивного слоев с последующим вжиганием его в воздушной атмосфере. Улучшение качества поверхности резистивного слоя, а также радиотехнических характеристик устройств с таким пленочным резистором является техническим результатом изобретения. В предложенном способе чередуют нанесение проводникового слоя с вжиганием его на отдельные участки изолирующей подложки, при температуре 840-860°C в течение 55±5 минут, затем осуществляют нанесение резистивного слоя и вжигание его при температуре 805±2°C в течение 70±5 минут поэтапно, с последующим контролем номинала резистивных элементов, причем при завышенном номинале подгонку производят при температуре 820±10°C в течение 5-10 минут, а при заниженном номинале - при температуре 690±10°C в течение 5-10 минут, после чего производят лужение в расплавленном припое окунанием при температуре 250±10°C. 1 ил.
Основные результаты: Способ изготовления толстопленочных резистивных элементов, включающий последовательное нанесение методом трафаретной печати на изолирующую подложку проводникового и резистивного слоев, вжигание их в воздушной атмосфере, отличающийся тем, что чередуют нанесение проводникового слоя с вжиганием его на отдельные участки изолирующей подложки при температуре 840-860°C в течение 55±5 мин, затем осуществляют нанесение резистивного слоя, а вжигание его при температуре 805±2°C в течение 70±5 мин поэтапно, затем производят контроль номинала резистивных элементов, при завышенном номинале подгонку производят при температуре 820±10°C в течение 5-10 мин, а при заниженном номинале при температуре 690±10°C в течение 5-10 мин, далее производят лужение в расплавленном припое окунанием при температуре 250±10°C.
Реферат Свернуть Развернуть

Предлагаемое изобретение относится к электронной технике, в частности к технологическим процессам изготовления пленочных резисторов.

Известен «Способ изготовления прецизионных чип-резисторов по гибридной технологии» (RU 2402088 C1 опубл. 20.10.2010 г., МПК H01C 17/06), содержащий последовательное формирование на изоляционной подложке на основе толстопленочной технологии электродных контактов. На основе тонкопленочной технологии формирование резистивного слоя с последующим ломанием изоляционной подложки на чипы. Вначале на шлифованную (тыльную) поверхность изоляционной подложки наносят методом трафаретной печати слой серебряной или серебряно-палладиевой пасты с последующим ее вжиганием, образуя тем самым электродные контакты на тыльной стороне подложки. Затем на полированную (лицевую) сторону изоляционной подложки методом вакуумной (тонкопленочной) технологии напыляют резистивный слой, методом фотолитографии и ионного травления осуществляют образование топологии резистивного слоя на подложке, после чего методом трафаретной печати на лицевой стороне подложки поверх резистивного слоя наносят слой низкотемпературной серебряной пасты с последующим ее вжиганием, образуя тем самым электродные контакты на лицевой стороне. Далее методом лазерной подгонки подгоняют величину сопротивления резисторов в номинал. Затем методом трафаретной печати наносят на резистивный слой с последующим вжиганием слой низкотемпературной защитной пасты, образуя защитный слой, скрайбируют и ломают пластину изоляционной подложки на ряды (полосы) методом вакуумной (тонкопленочной) технологии из сплава никеля с хромом на торцы рядов напыляют торцевой слой, соединяя при этом электрически между собой электродные контакты лицевой и тыльной сторон подложки, ломают ряды на чипы, гальваническим методом наносят поверх электродов - торцевого, на лицевой и на тыльной сторонах - слой никеля, а поверх слоя никеля гальваническим методом наносят слой припоя (сплав олова со свинцом).

Наиболее близким по технической сущности является «Способ изготовления толстопленочных резистивных элементов» ((RU 2086027 C1 опубл. 27.07.1997 г., МПК H01C 17/06), путем восстановления в локальном объеме, включающий последовательное нанесение методом трафаретной печати на изолирующую подложку резистивного и проводниковых слоев, их сушку и вжигание в воздушной атмосфере. Причем сначала наносят первый проводниковый слой, поверх него наносят резистивный слой. Затем поверх резистивного слоя наносят второй проводниковый слой, при этом для формирования проводниковых слоев используют пасту, включающую агент-восстановитель или вещество, разлагающееся при вжигании с образованием такого восстановителя, а для формирования резистивного слоя - пасту, содержащую порошок стекла или стеклокерамической композиции и органическое связующее.

Недостатками известных способов изготовления толстопленочных резисторов являются сложность изготовления резистивных элементов, низкие радиотехнические характеристики.

Технический результат предлагаемого изобретения состоит в том, что упрощается технологический процесс при улучшении качества поверхности резистивного слоя, улучшении радиотехнических характеристик, в частности повышение точности номинала резистивных элементов, а также КСВ (коэффициента стоячей волны).

Сущность предлагаемого изобретения заключается в том, что способ изготовления толстопленочных резистивных элементов включает последовательное нанесение методом трафаретной печати на изолирующую подложку проводникового и резистивного слоев и, вжигание в воздушной атмосфере.

Новыми признаками, обеспечивающими достижение технического результата является то, что чередуют нанесение проводникового слоя с вжиганием его на отдельные участки изолирующей подложки, при температуре 840-860°C в течение 55±5 минут, затем осуществляют нанесение резистивного слоя, а вжигание его при температуре 805±2°C в течение 70±5 минут, затем производят контроль номинала резистивных элементов, при завышенном номинале подгонку производят при температуре 820±10°C в течение 5-10 минут, а при заниженном номинале при температуре 690±10°C в течение 5-10 минут, далее производят лужение в расплавленном припое окунанием при температуре 250±10°C

На фиг.1 изображена изолирующая подложка с проводниковыми и резистивными слоями

Изолирующая подложка с проводниковыми и резистивными слоями состоит из изолирующей подложки 1 с торцами 2, 3, и плоскостями 4, 5 Изготовление толстопленочных резисторов по предлагаемому способу производят следующим образом: проводники и резисторы изготавливаются способом трафаретной печати. На изолирующую подложку 1 (торцы 2 и 3 и плоскости 4 и 5) последовательно наносят проводниковую пасту, например серебряно-палладиевую. После каждого нанесения вжигают на воздухе при температуре 850°C в течение 50 минут. Затем наносят резистивную, например, рутениевую пасту 6 и вжигают на воздухе при температуре 805°C в течение 70 минут.

Контроль электрических параметров после вжигания резистивного слоя осуществляют по сопротивлению и СВЧ характеристикам.

При завышенном номинале резистора производится подгонка сопротивления в муфельной печи при температуре 820±10°C в течение 5-10 минут, а при заниженном номинале при температуре 690±10°C в течение 5-10 минут. При соответствии технических характеристик требуемым, производят лужение изолирующей подложки с нанесенным на нее проводниковым и резистивным слоями в расплавленном припое, например, ПСрОС - 3-58 окунанием при температуре 260°C

Таким образом, при простоте изготовления толстопленочных резисторов улучшается качество поверхности резистивного слоя, а также радиотехнических характеристик, в частности повышается точность номинала резистивных элементов, а также уменьшается КСВ (коэффициента стоячей волны).

Способ изготовления толстопленочных резистивных элементов, включающий последовательное нанесение методом трафаретной печати на изолирующую подложку проводникового и резистивного слоев, вжигание их в воздушной атмосфере, отличающийся тем, что чередуют нанесение проводникового слоя с вжиганием его на отдельные участки изолирующей подложки при температуре 840-860°C в течение 55±5 мин, затем осуществляют нанесение резистивного слоя, а вжигание его при температуре 805±2°C в течение 70±5 мин поэтапно, затем производят контроль номинала резистивных элементов, при завышенном номинале подгонку производят при температуре 820±10°C в течение 5-10 мин, а при заниженном номинале при температуре 690±10°C в течение 5-10 мин, далее производят лужение в расплавленном припое окунанием при температуре 250±10°C.
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ТОЛСТОПЛЕНОЧНЫХ РЕЗИСТИВНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ
Источник поступления информации: Роспатент

Showing 1-10 of 23 items.
27.01.2014
№216.012.9bba

Лаковая композиция

Изобретение относится к радиоэлектронной технике и может быть использовано в бортовых микрополосковых СВЧ-устройствах. Лаковая композиция содержит отвердитель АФ-2, фторопластовый лак ЛФЭ-32 ЛНХ, углеродные нанотрубки и базальт чешуйчатый. Изобретение позволяет поглощать высокочастотную энергию...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002505572
Дата охранного документа: 27.01.2014
10.09.2014
№216.012.f38a

Способ формирования радиолокационного изображения поверхности бортовой рлс, установленной на движущемся летательном аппарате

Изобретение относится к бортовым радиолокационным станциям (БРЛС) летательных аппаратов, применяющим синтезирование апертуры антенны, и может использоваться в гражданской и военной авиации. Достигаемый технический результат - повышение азимутального разрешения и контрастности парциального...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002528169
Дата охранного документа: 10.09.2014
01.03.2019
№219.016.cc45

Фазированная антенная решетка

Техническое решение относится к технике СВЧ, в частности к фазированным антенным решеткам (ФАР). Фазированная антенная решетка (ФАР) содержит систему распределения СВЧ-сигнала, вход которой является первым входом ФАР, систему излучателей и N двухмодовых фазовращателей, где N - целое число....
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002355083
Дата охранного документа: 10.05.2009
01.03.2019
№219.016.ccbf

Устройство для поворота плоскости поляризации

Изобретение относится к радиотехнической промышленности и может использоваться в волноводной, антенной и СВЧ-измерительной технике и содержит отрезок волновода (1) с короткозамыкателями (4, 5) на торцах и двумя взаимно перпендикулярными прямоугольными отверстиями на входе (2) и выходе (3)....
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002338305
Дата охранного документа: 10.11.2008
11.03.2019
№219.016.d9b6

Волноводный переключатель

Изобретение относится к технике СВЧ и может быть использовано в волноводных трактах для переключения каналов передачи. Волноводный переключатель содержит статор с входными и выходными волноводными каналами, продольные оси волноводных каналов повернуты друг относительно друга. Кроме того, он...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002374723
Дата охранного документа: 27.11.2009
20.03.2019
№219.016.e68c

Мобильная радиолокационная установка подсвета и наведения зенитно-ракетного комплекса средней дальности

Мобильная радиолокационная установка подсвета и наведения зенитно-ракетного комплекса средней дальности действия относится к оборонной технике. Достигаемым техническим результатом изобретения является возможность проведения оперативного анализа функционирования заявленной установки. Указанный...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002330307
Дата охранного документа: 27.07.2008
04.04.2019
№219.016.fcce

Способ сверления глубоких отверстий

Способ включает установку заготовки на поворотном столе станка, предварительное сверление направляющих отверстий и проведение окончательной обработки глубоких отверстий. Для повышения точности и снижения трудоемкости изготовления глубоких отверстий на заготовке выполняют технологическую...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002400332
Дата охранного документа: 27.09.2010
10.04.2019
№219.017.0549

Распределитель для фазированной антенной решетки

Изобретение относится к радиотехнической промышленности и может быть использовано в волноводной СВЧ антенной технике в составе распределительных систем для фазированных антенных решеток (ФАР). Техническим результатом является как обеспечение независимого формирования оптимальных амплитудных...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002364999
Дата охранного документа: 20.08.2009
10.04.2019
№219.017.059a

Двойной волноводный тройник

Изобретение относится к области радиотехники и может быть использовано в волноводной, антенной и СВЧ-измерительной технике. Техническим результатом является расширение рабочего диапазона частот при одновременном упрощении технологии изготовления. Двойной волноводный тройник содержит два боковых...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002360335
Дата охранного документа: 27.06.2009
10.04.2019
№219.017.05fc

Многолучевая активная антенная решетка

Изобретение относится к радиотехнике и может использоваться в многофункциональных радиолокационных станциях для формирования многолучевой диаграммы направленности в активных фазированных решетках. Техническим результатом изобретения является независимое формирование управляемых М-лучей при...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002410804
Дата охранного документа: 27.01.2011
Showing 1-2 of 2 items.
27.01.2014
№216.012.9bba

Лаковая композиция

Изобретение относится к радиоэлектронной технике и может быть использовано в бортовых микрополосковых СВЧ-устройствах. Лаковая композиция содержит отвердитель АФ-2, фторопластовый лак ЛФЭ-32 ЛНХ, углеродные нанотрубки и базальт чешуйчатый. Изобретение позволяет поглощать высокочастотную энергию...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002505572
Дата охранного документа: 27.01.2014
10.09.2014
№216.012.f38a

Способ формирования радиолокационного изображения поверхности бортовой рлс, установленной на движущемся летательном аппарате

Изобретение относится к бортовым радиолокационным станциям (БРЛС) летательных аппаратов, применяющим синтезирование апертуры антенны, и может использоваться в гражданской и военной авиации. Достигаемый технический результат - повышение азимутального разрешения и контрастности парциального...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002528169
Дата охранного документа: 10.09.2014
+ добавить свой РИД