Результат интеллектуальной деятельности: ЖИДКОКРИСТАЛЛИЧЕСКОЕ УСТРОЙСТВО ОТОБРАЖЕНИЯ И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ

ОБЛАСТЬ ТЕХНИКИ

Настоящее изобретение относится к жидкокристаллическому устройству отображения, которое включает в себя множество столбчатых распорок, обеспеченных на одной из пары подложек, и сконфигурированных для поддержания постоянного промежутка между парой подложек, и к способу изготовления жидкокристаллического устройства отображения.

ПРЕДШЕСТВУЮЩИЙ УРОВЕНЬ ТЕХНИКИ

Традиционно, в жидкокристаллическом устройстве отображения после, того как пару стеклянных подложек соединяют вместе с постоянным промежутком, место между парой стеклянных подложек заполняют жидкокристаллическим материалом, и электрический сигнал применяют к жидкокристаллическому материалу. Таким образом жидкокристаллическое устройство отображения выполняет функцию отображения. Известно, что для поддержания постоянного промежутка используют материал для обеспечения промежутка, например, пластмассовые шайбы.

В последние годы вместо материала для обеспечения промежутка используют столбчатые распорки. Столбчатую распорку называют «фотораспорка». Известно, что столбчатую распорку формируют, накладывая друг на друга цветные слои, или изготавливают из специального материала, такого как фоточувствительный полиимид, фоточувствительная акриловая смола и фоточувствительная цветная смола.

Известно, что, так как промежуток зависит от высоты столбчатых распорок, которые обеспечивают для пары подложек, изменение высоты столбчатой распорки приводит к изменению промежутка, и в результате качество отображения ухудшается.

Например, патентный документ 1 описывает жидкокристаллическое устройство отображения, в котором, в устройстве отображения изображения, включающем в себя столбчатые распорки, обеспечиваемые на одной из двух подложек и конфигурируемые для поддержания постоянного промежутка ячеек, данные столбчатые распорки формируют так, чтобы значение площади сечения столбчатой распорки и/или значение расстояния между расположениями столбчатых распорок в краевом участке отличались от значения площади сечения столбчатой распорки и/или значения расстояния между расположениями столбчатых распорок в участке пикселей прежде, чем эти две подложки будут соединены вместе, и промежуток ячеек является униформизированным в центральной области участка пикселей и в краевой области участка пикселей после того, как эти две подложки соединяют.

СПИСОК БИБЛИОГРАФИЧЕСКИХ ССЫЛОК

ПАТЕНТНЫЕ ДОКУМЕНТЫ

Патентный документ 1: Японская патентная публикация № 2004-198847.

СУЩНОСТЬ ИЗОБРЕТЕНИЯ

ТЕХНИЧЕСКАЯ ПРОБЛЕМА

Поскольку, например, в способе изготовления с помощью фотолитографии с использованием фоточувствительной смолы в обычном жидкокристаллическом устройстве отображения, происходит неравномерное нанесение фоточувствительной смолы, когда фоточувствительную смолу наносят на подложку, это приводит к различию в высоте между множеством столбчатых распорок. Кроме того, различие в толщине основ столбчатых распорок приводит к различию в высоте между множеством столбчатых распорок.

В патентном документе 1 различие в промежутке на границе между участком пикселей и краевым участком корректируют с помощью площади сечения и расстояния между расположениями. Однако постоянный промежуток все равно невозможно поддерживать в случае, когда существует отклонение в высоте среди множества столбчатых распорок в участке пикселей или отклонение в высоте среди множества столбчатых распорок в краевом участке.

Когда появляется различие в высоте между множеством столбчатых распорок, как описано выше, также существует проблема, что в жидкокристаллическом устройстве отображения появляется неравномерное отображение.

Настоящее изобретение было сделано в связи с вышеизложенным, и целью настоящего изобретения является поддержание постоянного промежутка между парой подложек с помощью простой конфигурации для предотвращения неравномерного отображения.

РЕШЕНИЕ ПРОБЛЕМЫ

Для достижения вышеуказанной цели в настоящем изобретении обеспечивают участок корректировки высоты в верхнем конце столбчатой распорки.

В частности, первый или второй аспект изобретения предназначены для жидкокристаллического устройства отображения, включающего в себя множество столбчатых распорок, обеспеченных на одной из пары подложек и сконфигурированных для поддержания постоянного промежутка между парой подложек.

Каждая из столбчатых распорок включает в себя в верхнем конце, контактирующем с другой подложкой, участок корректировки высоты, который легко деформируется по сравнению с другим участком столбчатой распорки, когда пару подложек соединяют вместе. Альтернативно, каждая из столбчатых распорок включает в себя участок корректировки высоты в верхнем конце, контактирующем с другой подложкой, и участок корректировки высоты деформируется, когда пару подложек соединяют вместе, таким образом поддерживая постоянный промежуток.

Согласно вышеизложенной конфигурации, даже если существует различие в высоте между множеством столбчатых распорок, обеспеченных на одной из пары подложек, участок корректировки высоты, сформированный в верхнем конце столбчатой распорки, которая выше, чем другие столбчатые распорки, первой контактирует с другой подложкой и легко деформируется, когда пару подложек соединяют вместе. Это уменьшает различие в высоте между множеством столбчатых распорок, таким образом униформизируя промежуток между парой подложек.

Третий аспект изобретения предназначен для жидкокристаллического устройства отображения по первому или второму аспекту изобретения, в котором на поверхности основы одной из пары подложек формируют ступеньку, и величина деформации участка корректировки высоты столбчатой распорки, обеспеченной в области на более высоком участке ступеньки, больше, чем величина деформации участка корректировки высоты столбчатой распорки, обеспеченной в области на более низкой стороне ступеньки.

Согласно вышеизложенной конфигурации ступеньку формируют на основе одной из пары подложек. Таким образом, даже если высота столбчатой распорки, обеспеченной в области на более высокой стороне ступеньки, больше высоты столбчатой распорки, обеспеченной в области на более низкой стороне ступеньки, то участок корректировки высоты, обеспеченный в верхнем конце более высокой столбчатой распорки первым контактирует с другой подложкой, и деформируется, когда пару подложек соединяют вместе, и поэтому высота столбчатой распорки, обеспеченной в верхнем конце более высокой столбчатой распорки, становится по существу равной высоте столбчатой распорки, обеспеченной в области на более низкой стороне ступеньки. Это уменьшает различие в высоте между множеством столбчатых распорок, таким образом униформируя промежуток между парой подложек.

Четвертый аспект изобретения предназначен для жидкокристаллического устройства отображения по любому из аспектов изобретения с первого по третий, в котором высота участка корректировки высоты больше 0 и равна или меньше 1,0 мкм, и ширина участка корректировки высоты больше 0 и равна или меньше половине ширины верхнего конца столбчатой распорки.

То есть, если высота участка корректировки высоты больше 1,0 мкм или ширина участка корректировки высоты больше половины ширины верхнего конца столбчатой распорки, то различие между жесткостью участка корректировки высоты и жесткостью поверхности верхнего конца столбчатой распорки уменьшается, и поэтому менее вероятно, что получится униформировать промежуток. Однако, согласно вышеизложенной конфигурации, поддерживают соответствующую разницу между жесткостью участка корректировки высоты, поддерживаемой при минимальной высоте, и шириной и жесткостью поверхности верхнего конца столбчатой распорки, таким образом реализуя простую корректировку высоты, не подвергая избыточному давлению столбчатые распорки.

Пятый аспект изобретения предназначен для жидкокристаллического устройства отображения по любому из первого и четвертого аспектов изобретения, в котором участок корректировки высоты включает в себя множество выступов, выступающих из верхнего конца столбчатой распорки.

Согласно вышеизложенной конфигурации участок корректировки высоты включает в себя множество выступов, имеющих площадь сечения, которая меньше площади сечения верхнего конца столбчатой распорки. Таким образом, множество выступов легко деформируются по сравнению с другим участком столбчатой распорки, и способствуют униформизации высоты столбчатых распорок.

Шестой аспект изобретения предназначен для жидкокристаллического устройства отображения по пятому аспекту изобретения, в котором множество выступов являются полусферическими телами.

Согласно вышеизложенной конфигурации поскольку множество выступов являются полусферическими телами, формование таких выступов облегчают, например, с помощью способа, в котором используют сухой пленочный фоторезист и печать.

Седьмой аспект изобретения предназначен для жидкокристаллического устройства отображения по пятому аспекту изобретения, в котором множество выступов являются столбчатыми телами.

Согласно вышеизложенной конфигурации, так как менее вероятно, что произойдет увеличение/уменьшение площади сечения, столбчатое тело подходит для формования с помощью фотолитографии.

Восьмой аспект изобретения предназначен для жидкокристаллического устройства отображения по пятому аспекту изобретения, в котором множество выступов являются пирамидами.

Согласно вышеизложенной конфигурации, верхний конец пирамиды заострен по сравнению с полусферическим телом и столбчатым телом. Так что верхний конец пирамиды легко деформируется при небольшом усилии, таким образом обеспечивая подходящий участок корректировки высоты.

Девятый аспект изобретения предназначен для жидкокристаллического устройства отображения по пятому аспекту изобретения, в котором множество выступов являются кольцевыми телами.

Согласно вышеизложенной конфигурации, может быть получен участок корректировки высоты, который можно формовать с помощью фотолитографии и легко деформировать с помощью простой конфигурации.

Десятый аспект изобретения предназначен для способа изготовления жидкокристаллического устройства отображения, включающего в себя множество столбчатых распорок, обеспеченных на одной из пары подложек, и сконфигурированных для поддержания постоянного промежутка между парой подложек. Способ изготовления включает в себя формирование столбчатых распорок, каждая из которых включает в себя участок корректировки высоты в верхнем конце, контактирующем с другой подложкой; и соединение одной из пары подложек, включающей в себя столбчатые распорки, с другой подложкой, деформируя участки корректировки высоты, таким образом поддерживая постоянный промежуток.

Согласно вышеизложенной конфигурации, даже если существует различие в высоте между столбчатыми распорками, обеспеченными на одной из пары подложек, то участок корректировки высоты, обеспеченный в верхнем конце столбчатой распорки, которая выше, чем другие столбчатые распорки вокруг, первой контактирует с другой подложкой, и деформируется, когда пару подложек соединяют вместе, и такой участок корректировки высоты деформируется до тех пор, пока его высота не достигает высоты, равной высоте других столбчатых распорок. Таким образом, промежуток между парой подложек униформизируют.

Одиннадцатый аспект изобретения предназначен для способа по десятому аспекту изобретения, в котором столбчатые распорки, каждая из которых имеет участок корректировки высоты, формируют, выполняя процесс экспонирования с помощью фотолитографии в состоянии, в котором экранирующую свет пленку не обеспечивают в участках фотошаблона, соответствующих участкам корректировки высоты, и полупрозрачную пленку или прозрачную пленку обеспечивают в остальных участках, соответствующих столбчатым распоркам.

Согласно вышеизложенной конфигурации величину фоточувствительности частично корректируют при использовании различия в коэффициенте пропускания, и поэтому участок корректировки высоты можно легко формировать так, чтобы он выступал из верхнего конца столбчатой распорки. Следует отметить, что когда используют позитивный фоторезист, расположение прозрачной пленки и экранирующей свет пленки в шаблоне меняют местами.

Двенадцатый аспект изобретения предназначен для способа по десятому аспекту изобретения, в котором множество углублений заранее формируют в защитной пленке сухого пленочного фоторезиста, таким образом формируя участки корректировки высоты.

Согласно вышеизложенной конфигурации заранее обеспечивают множество углублений в участках защитной пленки, соответствующих участкам корректировки высоты, и поэтому простое формирование участков корректировки высоты, имеющих необходимую форму в надлежащей позиции, можно обеспечивать, не обрабатывая участки фотошаблона, соответствующие участкам корректировки высоты.

Тринадцатый аспект изобретения предназначен для способа по десятому аспекту изобретения, в котором заранее формируют множество углублений в части печатной формы, соответствующей верхним концам столбчатых распорок, таким образом формируя столбчатые распорки, каждая из которых имеет участок корректировки высоты.

Согласно вышеизложенной конфигурации, поскольку заранее просто формируют множество углублений в позициях печатной формы, соответствующих участкам корректировки высоты, то можно легко формировать участки корректировки высоты, имеющие необходимую форму.

ПРЕИМУЩЕСТВА ИЗОБРЕТЕНИЯ

Как описано выше, согласно настоящему изобретению, участок корректировки высоты обеспечивают на столбчатой распорке, и участок корректировки высоты деформируется, когда пару подложек соединяют вместе. Таким образом постоянный промежуток между парой подложек можно поддерживать с помощью простой конфигурации, таким образом предотвращая неравномерное отображение.

КРАТКОЕ ОПИСАНИЕ ЧЕРТЕЖЕЙ

Фиг. 1 является увеличенным видом сечения части жидкокристаллического устройства отображения, на котором показывают процесс соединения пары подложек вместе в варианте осуществления настоящего изобретения. На фиг. 1(a) показывают процесс перед соединением. На фиг. 1(b) показывают процесс после соединения.

Фиг. 2(a) является увеличенным видом сечения, показывающим столбчатую распорку, включающую в себя участок корректировки высоты и окружающий участок. Фиг. 2(b) является видом сверху столбчатой распорки.

Фиг. 3 является видом, на котором показывают краевой участок жидкокристаллического устройства отображения и окружающий участок, которые соответствуют фиг. 1.

Фиг. 4 показывает другой вариант осуществления, в котором участки корректировки высоты формируют с помощью печати. Фиг. 4(a) является видом сечения печатной формы. Фиг. 4(b) является видом сечения столбчатых распорок и окружающего участка.

Фиг. 5(a) является видом сверху, на котором показывают форму шаблона для формирования участка корректировки высоты на столбчатой распорке. Фиг. 5(b) является видом сверху столбчатой распорки.

Фиг. 6(a) является видом сечения по линии VIa-VIa на фиг. 5(a). Фиг. 6(b) является видом сечения по линии VIb-VIb на фиг. 5(b).

Фиг. 7 является видом сечения еще одного варианта осуществления, в котором участки корректировки высоты формируют при использовании фоторезиста.

Фиг. 8 является видом еще одного варианта осуществления, соответствующего фиг. 2.

Фиг. 9 является видом еще одного варианта осуществления, соответствующего фиг. 2.

Фиг. 10 является видом еще одного варианта осуществления, соответствующего фиг. 2. Фиг. 10(a) является видом сечения по линии Xa-Xa на фиг. 10(b).

ОПИСАНИЕ ВАРИАНТОВ ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ

Вариант осуществления настоящего изобретения будет описан ниже со ссылкой на чертежи.

На фиг. 1 показано жидкокристаллическое устройство 1 отображения варианта осуществления настоящего изобретения, и данное жидкокристаллическое устройство 1 отображения включает в себя пару подложек 2, 3. Например, пара подложек 2, 3 является подложкой 2 цветного фильтра и подложкой 3 матрицы, и множество столбчатых распорок 4, сконфигурированных для поддержания постоянного промежутка G между парой подложек 2, 3, обеспечивают на подложке 2 цветного фильтра. Жидкокристаллический материал (не показан на данной фигуре) запечатывают в промежутке G, поддерживаемом постоянным с помощью столбчатых распорок 4.

В качестве признака настоящего варианта осуществления, столбчатая распорка 4 имеет коническую трапециевидную форму и включает в себя участок 5 корректировки высоты в верхнем конце, контактирующем с подложкой матрицы 3. Столбчатая распорка может иметь форму четырехугольной призмы или цилиндрическую форму до тех пор, как участок корректировки высоты может быть сформирован на ее верхней основе. Столбчатую распорку 4 формируют, накладывая друг на друга цветные слои, или изготавливают из специального материала, такого как фоточувствительный полиимид, фоточувствительная акриловая область и фоточувствительная цветная смола, например, с помощью фотолитографии, сухого пленочного фоторезиста или печати. Высота столбчатой распорки 4 составляет, например, 3-10 мкм, и ширина столбчатой распорки 4 составляет, например, 10-50 мкм.

В частности, как показано на увеличенном виде на фиг. 2, участок 5 корректировки высоты включает в себя множество выступов (два выступа в настоящем варианте осуществления), обеспеченных на плоской поверхности 4a в верхнем конце конического трапециевидного участка столбчатой распорки 4, и выступы являются полусферическими телами 6. Например, высота h полусферического тела 6 больше 0 и равна или меньше 1,0 мкм (0<h <1,0 мкм), и ширина w1 (внешний диаметр) полусферического тела 6 больше 0 и равна или меньше половины ширины верхнего конца w2 столбчатой распорки 4 (0<w1<w2/2). Обеспечивая полусферические тела 6, участок 5 корректировки высоты имеет площадь сечения, которая меньше, чем площадь конического трапециевидного участка, и жесткость меньше, чем жесткость конического трапециевидного участка, и поэтому она деформируется, когда пару подложек 2, 3 соединяют вместе. Участок 5 корректировки высоты, который выступает над окружающими участками, деформируется, таким образом поддерживая постоянный промежуток G между парой подложек 2, 3.

Как показано на фиг. 3, уровень поверхности основы подложки 2 цветного фильтра выше в периферическом краевом участке (краевой участок 2a показан как область B на фиг. 3), чем в участке 2b пикселей (показанном, как область A на фиг. 3), обеспеченном на внутренней стороне по отношению к краевому участку 2a, и ступеньку формируют между поверхностью краевого участка 2a и поверхностью участка 2b пикселей. В результате высота столбчатой распорки 4, обеспеченной в краевом участке 2a, больше высоты столбчатой распорки 4, обеспеченной в участке 2b пикселей. Например, высота ступеньки меньше 1,0 мкм. Величина деформации участка 5 корректировки высоты столбчатой распорки 4, обеспеченной в краевом участке 2a, больше величины деформации участка 5 корректировки высоты столбчатой распорки 4, обеспеченной в участке 2b пикселей, таким образом поддерживая постоянный промежуток G между парой подложек 2, 3.

Способ изготовления жидкокристаллического устройства отображения.

Далее будет описан способ изготовления жидкокристаллического устройства 1 отображения согласно настоящему варианту осуществления.

Сначала множество столбчатых распорок 4 формируют на подложке 2 цветного фильтра. В настоящем варианте осуществления столбчатые распорки 4 и участки 5 корректировки высоты формируют, например, с помощью печати.

В качестве методик печати существуют такие методики, как трафаретная печать и флексография. Как показано, например, на фиг. 4(a), углубления 11, соответствующие коническим трапециевидным участкам столбчатых распорок 4, заранее формируют в частях печатной формы 10, соответствующих столбчатым распоркам 4, и множество полусферических углублений 12 заранее формируют в частях печатной формы 10, соответствующих плоским поверхностям 4a, сформированным в верхних концах конических трапециевидных участков.

Затем трафаретную печать или флексографию с использованием печатной формы 10 выполняют на подложке 2 цветного фильтра. После того как напечатанный участок затвердел, формируют столбчатые распорки 4, в каждой из которых множество полусферических тел 6 выступает из плоской поверхности 4a, как показано на фиг. 4(b), которые соответствуют углублениям 11 и полусферическим углублениям 12.

Как и в вышеизложенном, поскольку множества полусферических углублений 12 просто формируют заранее в позициях печатной формы 10, соответствующих участкам 5 корректировки высоты, то участки 5 корректировки высоты, имеющие необходимую форму, могут быть легко сформированы. Кроме того, в настоящем варианте осуществления, поскольку множество выступов являются полусферическими телами 6, формование таких выступов облегчается.

Как показано на фиг. 1(a) и 3(a), подложку 2 цветного фильтра, на которой каждая из столбчатых распорок 4 включает в себя участок 5 корректировки высоты в верхнем ее конце, соединяют с подложкой 3 матрицы, применяя давление к подложке 2 цветного фильтра.

В вышеизложенном состоянии высота столбчатой распорки 4, обеспеченной в краевом участке 2a, больше высоты столбчатой распорки 4, обеспеченной в участке 2b пикселей. Таким образом, когда пару подложек 2, 3 соединяют вместе, участки 5 корректировки высоты столбчатых распорок 4, обеспеченных в краевом участке 2a, первыми контактируют с подложкой 3 матрицы. Так как полусферические тела 6 имеют жесткость, которая меньше жесткости конического трапециевидного участка, полусферические тела 6 сжимаются и деформируются. В таком состоянии деформация участков 5 корректировки высоты столбчатых распорок 4, обеспеченных в краевом участке 2a, больше деформации участков 5 корректировки высоты столбчатых распорок 4, обеспеченных в участке 2b пикселей. Кроме того, даже если столбчатые распорки 4, обеспеченные в краевом участке 2a, или столбчатые распорки 4, обеспеченные в участке 2b пикселей, отличаются от друг друга по высоте, то участок 5 корректировки высоты, обеспеченный в верхнем конце более высокой столбчатой распорки 4, первым деформируется, контактируя с поверхностью подложки 3 матрицы. Затем, с помощью дальнейшего сжатия пары подложек 2, 3, полусферические тела 6, которые выступают за другие столбчатые распорки 4, постепенно сжимаются до тех пор, пока высота всех столбчатых распорок 4 не будет униформизирована. Таким образом поддерживают постоянный промежуток G между парой подложек 2, 3.

Высота участка 5 корректировки высоты больше 0 и равна или меньше 1,0 мкм, и ширина w1 участка 5 корректировки высоты больше 0 и равна или меньше половине ширины верхнего участка w2 столбчатой распорки 4 (0<w1<w2/2). Таким образом обеспечивают соответствующую разницу между жесткостью участка 5 корректировки высоты, обеспечиваемого при минимальной высоте, и шириной и жесткостью плоской поверхности 4a столбчатой распорки 4, таким образом реализуя простую корректировку высоты.

Затем постоянный промежуток G заполняют жидкокристаллическим материалом.

Согласно жидкокристаллическому устройству 1 отображения настоящего варианта осуществления участок 5 корректировки высоты обеспечивают в столбчатой распорке 4, и данный участок 5 корректировки высоты деформируется, когда пару подложек 2, 3 соединяют вместе. Это поддерживает постоянный промежуток G между парой подложек 2, 3 с помощью простой конфигурации, таким образом предотвращая неравномерное отображение.

Первая разновидность варианта осуществления

На фиг. 5 и 6 показывают процесс экспонирования для формирования жидкокристаллического устройства 1 отображения первой разновидности настоящего варианта осуществления, и первая разновидность настоящего варианта осуществления отличается от вышеизложенного варианта осуществления способом формирования участка 5 корректировки высоты. Те же самые ссылочные позиции, которые показаны на фигурах 1-3, используются для представления одинаковых элементов в каждой из описанных ниже разновидностей, и их подробное описание не будет повторяться.

Когда столбчатые распорки формируют с помощью фотолитографии, используя негативный фоторезист, столбчатую распорку 4, имеющую участок 5 корректировки высоты, формируют, выполняя процесс экспонирования в состоянии, в котором экранирующую свет пленку не обеспечивают в участке 102 фотошаблона 101, соответствующем участку 5 корректировки высоты, и полупрозрачную пленку или прозрачную пленку обеспечивают в остальном участке 103, соответствующем столбчатой распорке 4.

Как и в вышеизложенном варианте, величину фоточувствительности частично корректируют в фотошаблоне 101 при использовании различия в коэффициенте пропускания и поэтому участок 5 корректировки высоты можно легко формировать так, чтобы он выступал из верхней части столбчатой распорки 4.

Вторая разновидность варианта осуществления

На фиг. 7 показано сечение сухого пленочного фоторезиста 201, используемого для формирования жидкокристаллического устройства 1 отображения второй разновидности варианта осуществления настоящего изобретения.

В настоящей разновидности столбчатые распорки 4 и участки 5 корректировки высоты формируют с помощью сухого пленочного фоторезиста 201. В частности, столбчатые распорки 4 и участки 5 корректировки высоты формируют, например, заранее размещая множество углублений 203 равномерно в защитной пленке 202 из сухого пленочного фоторезиста 201. Следует отметить, что сухой пленочный фоторезист 201 поддерживают с помощью поддерживающей пленки 204.

Множество углублений 203 заранее обеспечивают в участках защитной пленки, соответствующих участкам 5 корректировки высоты, как и в вышеизложенном, и поэтому простое формирование участков 5 корректировки высоты, которые имеют необходимую форму в надлежащей позиции, можно обеспечивать, простым экспонированием участков, соответствующих столбчатым распоркам 4, не обрабатывая фотошаблон 101 для формирования участков 5 корректировки высоты, как в первой разновидности.

В настоящей разновидности, поскольку множество выступов являются полусферическими телами 6, то формование таких выступов облегчается.

(Другой вариант осуществления)

У вышеизложенного варианта осуществления настоящего изобретения могут быть следующие конфигурации.

То есть в вышеизложенном варианте осуществления множество выступов, обеспеченных в прямоугольной столбчатой распорке 4, являются двумя полусферическими телами 6, но количество выступов не ограничено. Множество выступов может быть, например, четырьмя четырехугольными пирамидами 106, как показано на фиг. 8, или может быть, например, четырьмя треугольными пирамидами 206, как показано на фиг. 9. Если множество выступов являются четырехугольными пирамидами 106, треугольными пирамидами 206 или такими пирамидами, как конусы, то их верхний конец заострен по сравнению с полусферическими телами 6 и столбчатыми телами. Таким образом, верхний конец выступа легко деформировать с помощью небольшой силы, таким образом получая подходящий участок 5 корректировки высоты. Следует отметить, что в любой из предшествующих форм высота выступа может быть больше 0 и равна или меньше 1,0 мкм, и ширина выступа может быть больше 0 и равна или меньше половине ширины верхнего конца столбчатой распорки 4.

Как показано на фиг. 10, множество выступов может включать в себя полусферическое тело 6 в центре и кольцевое тело 306, окружающее данное полусферическое тело 6. Альтернативно, полусферическое тело 6 может быть небольшим кольцевым телом 306. В таком случае может быть получен участок 5 корректировки высоты, который можно формовать с помощью фотолитографии и легко деформировать с помощью простой конфигурации.

Хотя не показано на данной фигуре, множество выступов могут быть столбчатыми телами. В таком случае, так как менее вероятно, что произойдет увеличение/уменьшение площади сечения, столбчатое тело подходит для формования с помощью фотолитографии.

Как описано выше, форма множества выступов не ограничена, и количество выступов также не ограничено, так как формируют два или большее количество выступов.

Следует отметить, что вышеизложенные варианты осуществления сформулированы по своей природе просто для предпочтительных примеров и не предназначены для ограничения настоящего изобретения или заявки или их объема.

ПРОМЫШЛЕННАЯ ПРИМЕНИМОСТЬ

Как описано выше, настоящее изобретение можно использовать для жидкокристаллического устройства отображения, включающего в себя множество столбчатых распорок, обеспеченных на одной из пары подложек, т.е. на одной из подложки цветного фильтра или подложки матрицы, и конфигурированных для поддержания постоянного промежутка между парой подложек, и для способа изготовления жидкокристаллического устройства отображения.

ОПИСАНИЕ ССЫЛОЧНЫХ ПОЗИЦИЙ

1 Жидкокристаллическое устройство отображения

2 Подложка цветного фильтра (одна из пары подложек)

2a Краевой участок (ступенька)

3 Подложка матрицы (другая подложка)

4 Столбчатая распорка

5 Участок корректировки высоты

6 Полусферическое тело (выступ)

12 Полусферические углубления

101 Фотошаблон

106 Четырехугольная пирамида (выступ)

201 Сухой пленочный фоторезист

202 Защитная пленка

203 Углубления

206 Треугольная пирамида (выступ)

306 Кольцевое тело (выступ)