Автор РИД: Общество с ограниченной ответственностью "Поликетон"

Изобретение относится к фоторезистивным композициям и может быть использовано в электроннолучевой литографии, в рентгеновской литографии при производстве интегральных схем с субмикронными размерами элементов. Фоторезистивная композиция высокочувствительного позитивного электронорезиста...