Автор РИД: Фирма КСС Корпорейшин Республика Корея (KR)

Изобретение может быть использовано в производстве полупроводникового кремния. Моносилан непрерывно получают из галогенида кремния и гидрида металла при их стехиометрическом соотношении в жидкой реакционной среде в одном вертикальном аппарате колонного типа, секционированном по высоте на...

Изобретение может быть использовано в производстве поли- и монокристаллического кремния высокой чистоты. Моносилан подвергают ректификации для удаления углеводородов, кипящих выше моносилана. Затем очищают моносилан от этилена на активном оксиде алюминия или на модифицированном платиной,...