Автор РИД: Иващенко А.В.

Применение тетракис-циннамоилового эфира пентаэритрита формулы где в качестве светочувствительного соединения в вакуумных фотолитографических процессах.

Применение соединений общей формулы где M - HH (a); Zn (б); Co (в); A - -C(CH); R=R-H (1) A - -C(п-трет-BuCH-); R=R-H (2) A - N; R - H, R - трет-Bu (3) A - -C(CH), RR - -CH=CH-CH=CH- (4) A = -C(α-Nf)RR=-CH=CH-CH=CH- (5) A - -C(CH); RR-C-(=CH-)CH(6) в качестве вакуумных фоторезистов.

Применение соединений ряда фталоцианина общей формулы где R = R = R = H (I); R = R = H, R-трет-Bu (II); R = R = H, R = Rh (III); R = R = H, R = ME (IV); R = R = H, R = Rh (V); R = R = H, R = Me (VI), в качестве вакуумного фоторезиста.