×

Автор РИД: ВЕНКАТАРАМАН Шиям Сундар (TW)

Показаны записи 1-1 из 1.
10.04.2016
№216.015.2d8a

Композиция для химико-механической полировки (хмп ), содержащая неорганические частицы и полимерные частицы

Изобретение относится к композиции для химико-механической полировки, применяемой при изготовлении интегральных схем и микроэлектромеханических устройств. Композиция содержит (А) по меньшей мере один тип неорганических частиц, которые диспергированы в жидкой среде (В), (Б) по меньшей мере один...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002579597
Дата охранного документа: 10.04.2016
+ добавить свой РИД