Автор РИД: Берлин Евгений Владимирович

Использование: в устройствах для генерации плазмы высокой плотности с помощью полей ВЧ диапазона, в частности в плазменных устройствах для травления и нанесения покрытий на подложках размером 150мм и более. Сущность изобретения: источник ионов высокой плотности содержит рабочую камеру,...

Изобретения относятся к области изделий интегральной электроники, работающих на частотах свыше 100 МГц. СВЧ гибридная интегральная схема (ГИС) содержит диэлектрическую подложку с нанесенной на нее металлизацией, состоящей из двух слоев - адгезионного подслоя и слоя металла с высокой...

Изобретения относятся к плазменной технологии, в частности к способу и устройству для нанесения металлического покрытия на диэлектрическую подложку, и могут быть использованы для металлизации, размер области которой занимает небольшую часть общей поверхности подложки, элементов микромеханики,...

Изобретение относится к области машиностроения, в частности к технологии упрочнения и повышения коррозионной стойкости лопаток компрессора газотурбинных двигателей, а также может быть использовано в области создания накопителей и преобразователей энергии на основе суперконденсаторов с...

Изобретение относится к устройствам, предназначенным для обработки материалов в среде низкотемпературной плазмы газового разряда, а именно к индукционным генераторам плазмы, размещаемым внутри технологического объема (рабочей камеры). Технический результат - повышение КПД устройства; повышение...