Автор РИД: СИМОМУРА Масако (JP)

Изобретение относится к светочувствительным негативным полимерным композициям, подходящим для образования тонкой структуры фотолитографическим способом. Предложена светочувствительная негативная полимерная композиция, содержащая (a) содержащее эпоксидные группы соединение, (b) первую ониевую...

Изобретение относится к светочувствительной полимерной композиции, пригодной для получения различных микроустройств для микроэлектромеханических систем и других систем, а также к способу получения структуры и к головке для подачи жидкости. Полимерная композиция содержит следующие компоненты:...

Изобретение относится к фоточувствительной композиции смолы, используемой для получения головки для выбрасывания жидкости для генерирования капли жидкости, например капли краски, а также к способу формирования паттерна и к головке для выбрасывания жидкости. Фоточувствительная композиция...