Автор РИД: ХЕМЛОК СЕМИКОНДАКТОР КОРПОРЕЙШН (US)

Изобретение может быть использовано в производстве поликристаллического кремния, применяемого в микроэлектронике. При его получении поток отходящего газа из одного или нескольких реакторов Сименса подают в один или несколько реакторов с псевдоожиженным слоем. Поток отходящего газа из множества...

Изобретение относится к энергетике. Представлена производственная установка для осаждения материала на несущую подложку и электрод для использования в такой производственной установке. Несущая подложка имеет первый конец и второй конец, находящиеся на расстоянии друг от друга. На каждом конце...

Изобретение относится к производственной установке для осаждения материала на несущую подложку и к электроду для использования с такой производственной установкой. Несущая подложка имеет находящиеся на расстоянии друг от друга первый конец и второй конец. На каждом конце несущей подложки...

Производственная установка и электрод для использования с производственной установкой предназначены для осаждения материала на несущую подложку. Несущая подложка имеет первый конец и второй конец, находящиеся на расстоянии друг от друга. На каждом конце несущей подложки расположено контактное...