Автор РИД: ХААС Хельмут (DE)

Изобретение относится к тонкодисперсным структурам, содержащим вентильный металл или субоксид вентильных металлов, и может быть использовано, в частности, в качестве материалов для катализаторов, мембран, фильтров, анодов конденсаторов. Ламельные наноструктуры содержат вентильный металл или...